| 大会名称 |
|---|
| 2010年 情報科学技術フォーラム(FIT) |
| 大会コ－ド |
| F |
| 開催年 |
| 2010 |
| 発行日 |
| 2010/8/20 |
| セッション番号 |
| 2H |
| セッション名 |
| 画像重要度 |
| 講演日 |
| 2010/09/07 |
| 講演場所(会議室等) |
| H会場（総合学習プラザ2F 第12講義室） |
| 講演番号 |
| I-012 |
| タイトル |
| 符号付変化量最大化反復バイラテラルフィルタによる塗り絵の下絵線画の生成 |
| 著者名 |
| 井上 光平, 浦浜 喜一, |
| キーワード |
| バイラテラルフィルタ, 塗り絵, ベクターデータ |
| 抄録 |
|
反復バイラテラルフィルタ(IBF)における反復回数の決定の問題を解決するための方法として，画素値の符号付変化量を最大化するIBF(S-IBF)を提案し，塗り絵の下絵線画の生成に応用する．下絵線画の生成手順を，画像の簡略化とエッジの抽出の2段階に分けて考え，S-IBFで画像を簡略化した後，アンシャープマスキングの考え方に基づくエッジ抽出を行い，エッジの強度を線の太さに反映させた下絵線画を生成する．既存のソフトウェアで生成した下絵と比較して，線の途切れが少ない下絵線画が得られることを実験で確認する． |
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