| 大会名称 |
| 2018年 ソサイエティ大会 |
| 大会コ－ド |
| 2018S |
| 開催年 |
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2018
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| 発行日 |
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2018/8/28
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| セッション番号 |
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A-8
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| セッション名 |
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信号処理
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| 講演日 |
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2018/9/14
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| 講演場所(会議室等) |
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自然科学本館 2F 207講義室
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| 講演番号 |
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A-8-25
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| タイトル |
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電子部品検査のためのNMF次元削減による識別精度向上の検討
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| 著者名 |
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◎西村晃紀, 柳部正樹, 田中智裕, 大井健太郎, 長谷智紘, 森山 健, 前田俊二,
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| キーワード |
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電子部品, 欠陥検査, HOG特徴量, Histogram Intersection, NMF
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| 抄録 |
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精密な電子部品を製造する際，電子部品の欠陥の有無が自動判定されるが，検査の高感度化の要求に伴い，装置が欠陥候補としたものの中には良品も多く含まれ，過検出が起こりうる．そのため，目視等による再検査により，欠陥候補を欠陥と良品に分ける作業が行われている．製造工程の高効率化を実現するためには，再検査の自動化が望まれている．本研究は，画像の切出し位置の決定および比較する画像間での位置合せを，HOG（Histograms of Oriented Gradients）特徴量の類似度により行い， HOG特徴量のNMFを用いた次元削減による欠陥識別精度の向上に関して述べる．
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