大会名称
2017年 総合大会
大会コ-ド
2017G
開催年
2017
発行日
セッション番号
CI-2
セッション名
窒化物半導体を用いた新光源とその応用
講演日
2017/3/22
講演場所(会議室等)
共通講義棟北 N303
講演番号
CI-2-5
タイトル
高In組成InGaN量子井戸構造の新奇酸化物基板上への作製
著者名
○川上養一尾崎拓也船戸 充
キーワード
InGaN系発光素子, InリッチInGaN, 発光ダイオード, 新奇基板
抄録
ScAlMgO4は,In0.17Ga0.83Nと格子整合する.したがって,ScAlMgO4基板上にIn0.17Ga0.83N / InxGa1-xN/ In0.17Ga0.83N (x > 0.17)が作製できれば,InxGa1-xN量子井戸における格子不整を低減でき,格子緩和や分極誘起電界の抑制につながると期待される.本研究会では,有機金属気相成長法によるScAlMgO4基板上にInxGa1-xN系エピタキシャル膜の作製,発光ダイオードの試作,高In組成InxGa1-xNへの展開について報告する.
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