| 大会名称 |
|---|
| 2016年 ソサイエティ大会 |
| 大会コ－ド |
| 2016S |
| 開催年 |
| 2016 |
| 発行日 |
| 2016-09-06 |
| セッション番号 |
| B-13 |
| セッション名 |
| 光ファイバ応用技術 |
| 講演日 |
| 2016/9/22 |
| 講演場所(会議室等) |
| 工学部 材料・化学系棟 208 |
| 講演番号 |
| B-13-19 |
| タイトル |
| 耐マイクロベンド光ファイバによる光ケーブル高密度化の検討 |
| 著者名 |
| ○佐島由恵, 梶 智晃, 村田 暁, 大里 健, |
| キーワード |
| 耐マイクロベンド, 高密度ケーブル |
| 抄録 |
|
曲げ損失特性や耐マイクロベンド特性が求められる高密度ケーブルには、MFDを小さく設計したファイバ（ITU-T G657 A1）が使用される。しかし、既存敷設ケーブルに使用されている汎用光ファイバ（ITU-T G.652 D）はMFDが大きく設計されており、これらを融着接続する場合MFDの違いにより融着接続損失が大きくなるデメリットがある。 今回、ガラス設計によりMFDがG.652 D相当でも、曲げ損失特性が良好な光ファイバに、さらに耐マイクロベンド特性に優れた被覆設計とすることで、耐マイクロベンド特性に優れ、かつ汎用光ファイバとの融着接続損失が最小となる光ファイバを開発した。この光ファイバを高密度実装したケーブルに用い、ケーブルの伝送損失特性の改善を行った。 |
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