| 大会名称 |
|---|
| 2016年 総合大会 |
| 大会コ－ド |
| 2016G |
| 開催年 |
| 2016 |
| 発行日 |
| 2016/3/1 |
| セッション番号 |
| C-10 |
| セッション名 |
| 電子デバイス/シリコン材料・デバイス |
| 講演日 |
| 2016/3/15 |
| 講演場所(会議室等) |
| センター1号館 6F 1607 |
| 講演番号 |
| C-10-3 |
| タイトル |
| 液体原料SiO2による高安定Si表面パッシベーション |
| 著者名 |
| ◎萩原千拡, 永吉 浩, |
| キーワード |
| シリコン, パッシベーション, ナノワイヤ |
| 抄録 |
| 従来の熱酸化膜に代わる安価で効率的な表面パッシベーション方法として液体原料Perhydropolisilazane (PHPS)を用いたSiO2パッシベーションを提案している．水蒸気アニールを導入することで高周波CV測定においてCVカーブの大きなマイナスシフトを観測し，このことから膜中の多量の正固定電荷の存在が示唆された．実効少数キャリアライフタイムも大気中に比べ水蒸気アニールにより大幅な改善が見られ，最大値ではケミカルパッシベーションを超える大きな値を獲得した．これは膜中の固定電荷による電界効果パッシベーションが効果的に生じたためと考える．さらに薄膜で形成したサンプルは実効ライフタイムの高い安定性を示した． |
| 本文pdf |
|
PDF download
|