開催日 | テーマ | 研究会報告 | 開催地 | 担当委員(サブ)敬称略 | 共催 | 投稿〆切 |
4月19、20日 | 低温ポリSi、TFTと有機EL技術 | 九州工業大学
(福岡県飯塚市 ) |
野口(浅野、黒木) | ED | 終了 | |
5月24、25日 | 結晶成長評価及びデバイス(化合物、Si、電子材料、太陽電池、高耐圧大電力素子等) | 静岡大学(浜松市) | 田部(若原、佐藤) | ED, CPM |
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6月6,7日 | ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術 | アステールプラザ
(広島市) |
宮崎(西岡、羽路) | 終了 | ||
7月5-7日 | 2001 AWAD
「先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ」 |
2001AWAD報告 | 韓国
済州島 |
松尾(山口大) | 大韓電子工業会、ED |
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8月2、3日 | VLSI回路、デバイス技術、および一般 | 8月研究会報告 | 室蘭工大 | 松田(平本、渡辺) | ICD | 終了 |
9月27, 28日 | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 | 9月研究会報告 | 機械振興会館(東京) | 松本(鎌倉) | VLD
応物Siテク分科会 |
終了 |
10月15, 16日 | プロセスクリーン化と新プロセス技術 | 10月研究会報告
(特別講演会報告) |
東北大学工学部
(宮城県仙台市) |
小谷(大野吉) | 終了 | |
11月16日 | 低誘電率膜層間膜及び配線技術 | 機械振興会館
(東京) |
谷本(松尾(山口大)、古宮) | 終了 | ||
12月20日 | シリコン関連材料の作製と評価 | 奈良先端科学技術大学院大学(奈良県生駒市) | 冬木(松尾(松下)、木本) | 終了 | ||
1月21, 22日 | 先端CMOS及びプロセス関連技術
(1/21)
最先端シリコンデバイス技術 (1/22) |
1月研究会報告
(1/21分) |
東京 (機械振興会館)
東京 (東洋大学) |
武村(杉井、高橋) | 応物Siテク分科会 | 終了 |
1月28,29,30日 | 量子効果デバイス及び関連技術 | 北海道大学、百年記念会館 | 赤澤(田部、平本) | ED | 終了 | |
3月14, 15日 | 強誘電体薄膜とメモリ応用 | 東京工業大学すずかけ台キャンパス
(横浜市長津田) |
平谷(徳光、大野守) | 終了 |
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