| 開催日 | テーマ | 研究会報告 | 開催地 | 担当委員（サブ）敬称略 | 共催 | 投稿〆切 |
| 2004年 | ||||||
| 4月15-16日 | 有機EL、TFT、及び有機エレクトロニクス & シリコン 材料・デバイス & 電子デバイス関係の一般 |
九州工業大学 | 古川 | OME,SDM,ED |
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| 5月13-14日 | 結晶成長評価及びデバイス (化合物, Si, SiGe, その他の電子材料) | 静岡大学 | 若原 | SDM,ED,CPM |
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| 6月21-22日 | ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術 | 機械振興会館（東京) | 宮崎 西岡 羽路 |
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| 6月30-7月2日 | AWAD2004「先端デバイスの基礎と応用に関する アジアワークショップ」 | ユトレヒト会議場（長崎) |
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| 8月19-20日 | VLSI回路、デバイス技術(高速、低電圧、低電力) | 北見工大 | 平本 松田 高柳 |
ICD |
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| 9月27-28日 | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 | 機械振興会館（東京) | 鎌倉 | VLD |
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| 10月14-15日 | プロセスクリーン化と新プロセス技術 | 東北大学 | 寺本 |
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| 11月 | １１月研究会 休会 | |||||
| 12月16日 | シリコン関連材料の作製と評価 | 京都大学 | 冬木 小池 木本 |
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| 2005年 | ||||||
| 1月21日 | IEDM特集（先端CMOSデバイス・プロセス技術） | 日本大学 |
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| 1月31日 | 低誘電率層間膜，配線材料および一般 | 機械振興会館（東京) |
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| 3月11日 | 新型不揮発性メモリ | 機械振興会館（東京) | 羽路 大野 松井 |
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