エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:1997/10/31)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1997/10/31
[資料番号]
目次

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[発表日]1997/10/31
[資料番号]
SHGレーザビーム描画装置の開発

原野 正幸,  鳥羽 栄治,  児島 由尚,  西松 豊典,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-116
YBCO超伝導体上に浮上した永久磁石の往復運動特性

前田 武,  近藤 憲二,  小西 哉,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-117
スタック型準一次元超伝導量子細線デバイスの作製と特性評価

斉藤 敦,  笹沼 拓也,  中原 成稔,  濱崎 勝義,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-118
Feをドープしたルチルセラミックスの異常電流およびシナプスへの応用

深海 龍夫,  盛 建新,  柄沢 潤一,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-119
DMCSを用いたトライオードプラズマCVD法による空間的アフターグロープラズマの最適化と結晶SiC膜の低温成長

木村 雅秀,  安井 寛治,  赤羽 正志,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-120
多結晶炭化珪素薄膜を用いたマイクロセンサの試作

外山 拓哉,  江畑 徹,  河本 哲夫,  上村 喜一,  小沼 義治,  花岡 健一,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-121
SiO_2上のCu配線におけるNb介在層の適用

坂上 正和,  武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-122
Cu/Si系における極薄ZrN膜の拡散バリヤ効果

武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-123
E-B蒸着・気相硫化法によるCu_2ZnSnS_4薄膜の作製と評価

片桐 裕則,  石垣 直也,  西村 正人,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-124
同時スパッタ・気相硫化法によるCu_2ZnSnS_4薄膜の作製と評価

片桐 裕則,  石田 猛,  五十嵐 淳,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-125
CuGaS_2薄膜の配向評価

大石 耕一郎,  小林 敏志,  太田 新一,  坪井 望,  金子 双男,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-126
カルコパイライト系混晶薄膜の製作と太陽電池への応用

大橋 剛,  若森 正樹,  稲越 賢司,  橋本 佳男,  伊東 謙太郎,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-127
グリッドバイアス制御ECRプラズマの特性評価と立方晶GaNのエピタキシャル成長

菊池 正明,  飯塚 健太郎,  安井 寛治,  赤羽 正志,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-128
有機EL素子の発光及び電気的特性の経時変化

廣畑 茂樹,  宮入 圭一,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-129
酸化タンタル薄膜の光デバイスへの応用に関する基礎特性 : 電気的および光学的特性

羽多野 正亮,  宮入 圭一,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-130
RFスパッタ法によるMo, ZnO薄膜の作製と評価

片桐 裕則,  瀬賀 寿幸,  渡邊 卓,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-131
電着法によるCIS系薄膜の堆積

蔵之内 真一,  中澤 達夫,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-132
電子ビーム蒸着法によるホウ素薄膜の作製と評価

篠宮 敏夫,  永岡 丈治,  中尾 真人,  上村 喜一,  小沼 義治,  牧村 美加,  

[発表日]1997/10/31
[資料番号]CPM97-133
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