エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2012/10/19)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2012/10/19
[資料番号]
目次

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[発表日]2012/10/19
[資料番号]
H_2-O_2触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いてサファイア基板上に堆積したZnO薄膜の電気伝導特性の解析(薄膜プロセス・材料,一般)

永冨 瑛智,  山口 直也,  竹内 智彦,  里本 宗一,  加藤 孝弘,  安井 寛治,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-93
触媒反応生成高エネルギーH_2Oを用いてガラス基板上に成長したZnO膜へのCVD低温バッファー層挿入効果(薄膜プロセス・材料,一般)

小柳 貴寛,  竹澤 和樹,  加藤 孝弘,  片桐 裕則,  神保 和夫,  安井 寛治,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-94
スパッタ法によるAZO薄膜の抵抗率の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

名越 克仁,  富口 祐輔,  清水 英彦,  岩野 春男,  川上 貴浩,  福嶋 康夫,  永田 向太郎,  坪井 望,  野本 隆宏,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-95
非真空プロセスによるCu_2ZnSnS_4薄膜太陽電池の作製 : 窓層堆積条件の検討による効率の改善(薄膜プロセス・材料,一般)

田中 久仁彦,  相澤 卓実,  打木 久雄,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-96
Cu_2ZnSnS_4を用いた三次元構造太陽電池の作製(薄膜プロセス・材料,一般)

黒川 真登,  田中 久仁彦,  加藤 実,  長沼 萌壮,  長橋 由樹,  打木 久雄,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-97
塩素フリー溶液を用いたゾルゲル・硫化法によるCu_2ZnSnS_4薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)

佐久間 広太,  田中 久仁彦,  相澤 卓実,  中野 裕也,  打木 久雄,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-98
CZTS薄膜太陽電池における硫化条件の最適化(薄膜プロセス・材料,一般)

樋口 健人,  鷲尾 司,  神保 和夫,  片桐 裕則,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-99
Si基板上へのAlN層の形成およびSi/AlN上への3C-SiC成長(薄膜プロセス・材料,一般)

中澤 日出樹,  鈴木 大樹,  成田 次理,  山本 陽平,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-100
MOVPE法により作製したSi基板上GaPの界面形状(薄膜プロセス・材料,一般)

高木 達也,  宮原 亮,  高野 泰,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-101
Ni/Si系におけるモノシリサイドとジシリサイドのマルチフェーズ形成(薄膜プロセス・材料,一般)

野矢 厚,  武山 真弓,  佐藤 勝,  徳田 奨,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-102
Cu/metal/SiO_2/Si構造における界面での拡散・反応挙動(I) : Va遷移金属の拡散挙動(薄膜プロセス・材料,一般)

武山 真弓,  野矢 厚,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-103
コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO_2薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般)

横本 拓也,  荒井 崇,  小坂 孝之,  岡島 和希,  山上 朋彦,  阿部 克也,  榊 和彦,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-104
熱処理法によるSrAl_2O_4:Eu,Dy薄膜用下地膜の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

小林 和晃,  清水 英彦,  岩野 春男,  福嶋 康夫,  川上 貴浩,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-105
プラスチック基板上に作製したITO膜及び有機EL素子の機械的特性(薄膜プロセス・材料,一般)

松井 博章,  清水 英彦,  岩野 春男,  福嶋 康夫,  永田 向太郎,  坪井 望,  野本 隆宏,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-106
YVO_4:Bi黄色蛍光体のエネルギー移動過程(薄膜プロセス・材料,一般)

阿部 泰雅,  谷口 浩太,  八木 純平,  加藤 有行,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-107
グラフェン層間化合物の作製と評価(薄膜プロセス・材料,一般)

山本 寛,  市川 博亮,  佐藤 祥吾,  岩田 展幸,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-108
電界遮蔽効果と直列抵抗を同時に考慮した電界電子放出特性の検討(薄膜プロセス・材料,一般)

浅田 裕司,  山下 将弘,  山上 朋彦,  林部 林平,  上村 喜一,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-109
パルス電流法によるBi-2212接合スタックの接合数評価(薄膜プロセス・材料,一般)

加藤 孝弘,  西方 翼,  小瀧 侑央,  末松 久幸,  安井 寛治,  川上 彰,  

[発表日]2012/10/19
[資料番号]CPM2012-110
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