| 講演名 | 2012-10-27 コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO_2薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般) 横本 拓也, 荒井 崇, 小坂 孝之, 岡島 和希, 山上 朋彦, 阿部 克也, 榊 和彦, |
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| 抄録(和) | コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によりCuAlO_2薄膜の作製を試みた。コールドスプレー法により作製したターゲットは合金ではなく複合金属状態であった。ターゲットのCu組成を大きくしていくと、膜中のCu組成も増加し、Al組成は減少した。また、酸素流量を増加させることで、ターゲットのCu成分のスパッタリングレートが減少し、相対的にAlの組成比が増加することがわかった。ターゲット組成Cu:Al=28:72、酸素流量3sccmの成膜条件において、ストイキオメトリーに近い膜が得られた。また、この膜のXRD測定を行ったところアモルファスライクな膜であることがわかった。そこで、結晶化を図るためにアニール処理を施した。しかし、CuOに起因するピークのみしか得られずCuAlO_2に起因するピークは得られなかった。 |
| 抄録(英) | CuAlO_2 film deposition was tried by reactive sputtering using Cu/Al targets prepared by cold spray method. The Cu/Al targets prepared by cold spray method were not alloy but metal composite. As the Cu composition ratio in the target increased. the Cu composition ratio in the films also increasd. The film with a near stoichiometric composition ratio was obtained at an oxygen flow rate of 3sccm by using a target with Cu:Al=28:72. The as-grown film structure was found to be amorphous from XRD mesurements. From XRD mesurements, Some CuO peaks and no CuAlO_2 peaks were observed in the obtained this film anneald at 900℃ for 3 hours. |
| キーワード(和) | 反応性スパッタリング / TCO / CuAlO_2 / コールドスプレー法 |
| キーワード(英) | reactive sputtering / TCO / CuAlO_2 / cold spray method |
| 資料番号 | CPM2012-104 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2012/10/19(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO_2薄膜の作製(薄膜プロセス・材料,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | CuAlO_2 film deposition by reactive sputtering using Cu/Al target prepared by cold spray method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 反応性スパッタリング / reactive sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | TCO / TCO |
| キーワード(3)（和/英） | CuAlO_2 / CuAlO_2 |
| キーワード(4)（和/英） | コールドスプレー法 / cold spray method |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 横本 拓也 / Takuya YOKOMOTO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 荒井 崇 / Takashi ARAI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 小坂 孝之 / Takayuki KOSAKA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 岡島 和希 / Kazuki OKAJIMA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 山上 朋彦 / Tomohiko YAMAKAMI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 阿部 克也 / Katsuya ABE |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 榊 和彦 / Kazuhiko SAKAKI |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 発表年月日 | 2012-10-27 |
| 資料番号 | CPM2012-104 |
| 巻番号（vol） | vol.112 |
| 号番号（no） | 265 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |