研究会開催日程
◎第1回IPDA研究会 開催案内（プログラム詳細）
期日 2017年6月2日(金) 13:25 - 17:55
会場 <東工大蔵前会館 ロイアルブルーホール>
参加申込み 事前参加登録は締め切りました．多数のご登録ありがとうございました．
テーマ ｢自動運転技術の現状と集積光デバイスが果たすべき役割」
近年、自動車における自動運転技術の発展が著しく、将来の完全自動運転も見据えた人工知能、
通信技術、各種センサーデバイス等の研究・開発が精力的に進められています。特に、自動車周囲
の状況や物体を把握できる光測距センサーや光レーダーは自動運転におけるキーデバイスの一つ
であり、その小型化、高性能化、低コスト化を図る上で、集積光デバイス技術の果たすべき役割は
極めて大きいものと考えられます。
そこで本研究会では、自動運転技術に関する現状と自動運転への応用を目指した各種技術や
光測距デバイスの開発状況について、本分野の研究・開発の第一線で活躍されている皆様による
講演会を開催いたします。多数の方のご参加をお待ちしております。
本研究会は、光レーダー研究会との共同開催です。
協賛 IEEE Photonics Society Japan Chapter，光エレクトロニクス研究会（OPE），レーザ・量子エレクトロニクス研究会(LQE)
◎第5回IPDA研究会 ・J催案内（プログラム詳細）
期日 2016年11月24日（木） 13:00 - 11月25日（金）16:15
会場 <東北大学 片平キャンパス ナノ・スピン総合研究棟 コンファレンスルーム>
テーマ ｢超高速光マイクロ波デバイスとその応用」
光通信における光位相制御技術の進歩により無線技術と融合させた超高速光マイクロ波を用いた
応用技術開発が進展しています。マイクロ波の周波数がGHzであるのに対して、光の周波数は100
～1000 THzと1万倍以上高いキャリア周波数を有することから大変注目されており、そのための
デバイス技術に関する研究開発も盛んです。
第5回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記の内容に関連する講演をはじめ、集積光デバイス
技術と応用技術研究会では，上記の内容に関連する講演をはじめ、集積光デバイス技術とその応用
に関する講演会を開催します。
今回、光エレクトロニクス研究会（OPE）、有機エレクトロニクス研究会(OME)及び、
超高速光エレクトロニクス研究会 (UFO)>と連催・共催いたします。
魅力ある研究会として企画いたしますので、多数の方のご参加をお待ちしております。
◎第4回IPDA研究会 開催案内 （プログラム詳細）
期日 2016年8月5日(金) 13:30～17:15（予定）
会場 <NTT厚木研究開発センタ プレゼンテーションルーム>
テーマ ｢光インターコネクション及びフォトニック結晶」
ルータやサーバのラック間、ボード間、ボード内の高速接続に用いられる光インターコネクション
技術の研究開発が進んでいます。今後、適用領域もチップ間、チップ内まで拡がり、高速化、高密度
化、低消費電力化のニーズは益々大きくなると予想・ｳれます。・gわれる光デバイスも既存技術に加え、
シリコンフォトニクス、フォトニック結晶など新たな技術の適用が重要になると思われます。これら
を踏まえ、本研究会は、実装を含めた光インターコネクション技術の発展や研究者間の交流の機会と
なることを目的としています。
第4回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記のような、光インターコネクション及びフォトニッ
ク結晶技術に関連する講演をはじめ、集積光デバイス技術とその応用に関する講演を広く募集します。
多数の方のご応募とご参加をお待ちしています。
◎第3回IPDA研究会 開催案内 （プログラム詳細）
期日 2016年3月3日(木)13:00～4日(金)15:20（予定）
会場 <東レ総合研修センター>
テーマ ｢集積光デバイス技術の進展と新たな応用展開」
集積光デバイスと応用技術時限研究専門委員会は，光デバイスの高性能化・高機能化・集積
化技術を中心に，特にその応用技術を含めた研究分野に関する情報交換，議論の機会を提供して
います．第3回は，集積光デバイスの進展と様々な分野への新たな応用展開に関する魅力的な招待
講演,深い議論が可能なランプセッション，次代の産業界を担う学生との交流を図る学生ポスターセッ
ションを盛り込んだ1泊2日の研究会として企画しております．また，下記の通り，一般講演・学生ポス
ター講演を募集しますので，積極的な論文発表・御参加をお願い致します．
◎第2回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2015年10月23日(金)
会場 <横浜国立大学 電子情報工学科棟4階 演習室I（404号室） >
テーマ
｢レーザセンシング及びテラヘルツ帯応用技術の進展」
レーザ光を用いたセンシング技術は3Dイメージング、人体観測やガス検知など応用分野が飛躍的に
広がっています。また、光と電波の境界領域にあるテラヘルツ波及びテラヘルツ帯の分野は，イメージング、
分光や通信へと活用が広がっています。これらの技術では、今までにない分光技術やイメージング技術の
研究開発が，活発に行われ、通信、環境計測分野，材料分野，バイオテクノロジーや医療分野等多岐にわたる
分野での画期的な応用が期待されています．これらを踏まえ，本研究会は，レーザセンシング及びテラヘルツ帯
応用技術の進展に関連する技術の発展，研究者間の交流の機会となることを目的としています。
第2回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記のような、レーザセンシング及びテラヘルツ帯応用技術に
関連する講演をはじめ、集積光デバイス技術とその応用に関する講演を広く募集します。
多数の方のご応募とご参加をお待ちしています。
◎第1回IPDA研究会(第4期) 開催案内 （詳細）
期日 2015年5月20日(水)
会場 <東京農工大学 小金井キャンパス140周年記念会館 (JR中央線：東小金井駅より徒歩約8分 東門を入って左側の建物)>
テーマ
｢新材料と集積光デバイス」
既存の材料の枠組みを超えた光デバイスが研究開発されています．第1回集積光デバイスと応用技術研究会
では，材料という原点に立ち戻って集積光デバイスを議論します．プラズモン導波路やグラフェン，カーボ
ンナノチューブを用いた集積光デバイスに関する講演を行います．材料・デバイス・システム間で活発な議
論ができますよ・､，多数の方々のご参加をお待ちしておりま・ｷ．
◎第5回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2014年12月5日(金)
会場 <京都工芸繊維大学60周年記念館1Fホール (京都市営地下鉄烏丸線：松ヶ崎駅より徒歩約8分)>
テーマ
｢接合／接着技術を用いた集積光デバイスの最新動向」
異種材料・部材の高精度・高強度な接合／接着技術は，各々の利点を組合わせることで，単独では困難な機
能を実現させる事が期待できるため，光デバイスのさらなる高集積化，高機能化，多機能化を可能にする大
変重要な技術の一つと考えられており，研究開発が盛んに進められています．第5回集積光デバイスと応用
技術研究会では，このような接合技術を用いた光デバイスに関連する講演を行います．多数の方の御参加を
お待ちしております．
◎第4回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2014年6月27日(金)
会場 <NTTフォトニクス研究所 １号館１階プレゼンテーションルーム (小田急電鉄 愛甲石田駅よりバス20分「通信研究所前」下車)>
テーマ
｢光デバイス用プロセス技術・実装技術の進展」
光デバイスは、より高集積、高性能と多機能化を目指して研究開発が盛んに進められています。その
中で、それらの高度な光デバイスを実現するのに不可欠な作製技術の重要性がより一層高まってきて
おり、多方面で研究開発が行われています。具体的には、薄膜低拡散の結晶成長技術、導波路等の
微細で高均一加工技術、同種/異種導波路の高効率な接続技術・集積技術や光素子/光部品の高密
度で低コストな実装技術などです。
第4回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記のような、光デバイスの作製、製造技術に関連
する講演を行います。多数の方々のご参加をお待ちしております。
◎第3回IPDA研究会 開催案内 ・i詳細）
期日 2014年1月30日(木)13:00～31日(金)15:20（予定）
会場 <鬼怒川温泉ホテル>
テーマ ｢集積光デバイス技術とその応用展開」
集積光デバイスと応用技術研究会は，光デバイスの高性能化・高機能化・集積化技術を中心
に，特にその応用技術を含めた研究分野に関・ｷる情報交換，議論の機会を提供しています．第3
回研究会は，集積光デバイスの応用技術の研究・開発動向およびその今後の展開に関するホッ
トトピックについて，各分野の第一線でご活躍の研究者の方々による招待講演とランプセッション，
学生ポスターセッションを盛り込んだ1泊2日の研究会を企画いたしました．シリコンフォトニクス，
超高速光通信技術， InP系光集積回路・フォトニック結晶，光信号処理，光応用技術に関して講
演，議論および学生ポスターセッションを行います．多数の方々のご参加をお待ちしております．
◎第2回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2013年10月17日(木)
会場 <法政大学 小・煦艫Lャンパス 南館7階会議室 (JR中央線 東・ｬ金井駅)>
テーマ
｢微細加工のための光技術，光技術のための微細加工」
光技術はリソグラフィ技術を始め，半導体集積回路における微細化の飛躍的発展を支えており，
さらなる微細化も含め，その研究開発は一層重要性を増してきています．そして，シリコンフォトニ
クスに代表されるようにリソグラ・tィ技術の進展により産業化に有利なプロセスを用いて高・ｸ度で
低損失な光デバイスの実現も可能になっています．今後も最先端リソグラフィ技術は高精度かつ
高機能な集積光回路デバイスの開発のために重要な技術と考えられます．また，ナノインプリント
技術はフォトニック結晶などのナノスケール構造を有する光デバイスを製品化につなげる有効な
技術であり，ナノインプリントを活用した製造技術の研究開発にも注目が集まっています．第2回
集積光デバイスと応用技術研究会では，微細加工のための光技術ならびに光デバイス開発のた
・@めの微・ﾗ加工技術に関連する講演として，極限リソグラフィ技術とナノインプリント技術に関する
講演を行います．多数の方々のご参加をお待ちしております．
◎第1回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2013年5・・5日(水)
会場 <古河電気工業(株)横浜研究所3階研修室>
テーマ
｢デジタルコヒーレント通信用集積デバイスとその応用」
100Gb/sの高速デジタルコヒーレント通信の導入が進んでいます。第1回集積光デバイスと応用技術
研究会では、コヒーレント通信の最新動向、キー光コンポーネント、デジタル信号処理、Beyond
100Gb/sに向けた集積光技術に関する講演を行います。システム側からの要望も交え、活発な議論
ができます・・う、多数の方々のご参加をお待ちしております。
◎第５回IPDA・､究会 開催案内 （詳細）
期日 2012年12月6日(木)
会場 <JR博多シティ
会議室A+B>
テーマ
｢有機デバイスおよびプリンタブルデバイス」
近年、有機ELや各種バイオセンサーと言った有機材料と従来の無機エレクトロニクス融合に
よる新しいデ・oイス創成が注目を集めています。有機材料あるいは有機・無機ハイブリッド材料
は有機分子の設計どの自由さも相まって今後も新しい材料が出現し、ブレークスルーも期待さ
れています。さらに、有機材料の特長としてプリンタブル作製が容・ﾕであるこ・ﾆが挙げられま・ｷ。
製膜技術から始まり、直接描画・三次元実装・低ランニングコストを可能とする本技術についても
盛んな研究が行われています。第5回集積光デバイスと応用技術研究会では，このような有機
およびプリンタブルデバイスをテーマとして下記講演会を企画することとなりました。活発な議論が
できますよう，多数の方々のご参加をお待ちしております．
※ 翌12/7午前に、九州大学最先端有機光エレクトロニクスセンターへの見学会を予定しております。
★ 見学時間10：00～11：00、9：45に九大工学部バス停前にご集合ください。 ★
こちらもご参加、ご検討いただき、ご希望の方は研究会受付にてお申し出ください。
（研究会ご参加の方に限らせていただきます。）
◎ソサイエティ大会、企画セッション講演
期日 2012年9月11日（火）
会場 富山大学 五福キャンパス 共通研究棟 A棟 A31
テーマ 「光変調デバイスと材料技術の最新動向・iCI-5）」
◎第４回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2012年7月27・・・・
会場 <東京大学本郷キャンパス 工学部2号館 3階電気系会議室1>
テーマ
｢大容量短距・｣光通信用集積デバイスとその応用」
長距離通信インフラに大きな市場を開拓してきた光技術は，徐々に短距離用途への展開が
始まっています．近年では特に，電気配線における配線の複雑さや伝送速度などの限界を
乗り越えるために電気配線を光で置き換える「光インターコネクション」と呼ばれる分野の研
究が盛んです．光インターコネクション分野では，光ファイバ・光導波路などの伝送路，送受
信用光モジュール，光源・変調用などの光デバイスに対し高性能化，高信頼性化，低コスト
化が強く求められています．第4回集積光デバイスと応用技術研究会では，このような大容量
短距離光通信用集積デバイスとその応用に関し，以下のようなご講演をお願いすることにな
りました．活発な議・_ができますよう，多数の方々のご参加をお待ちしております．
◎SiPH第17回研究会（IPDA、OPE、LQE協賛） （詳細）
期日 2012年07月12日(木)～13日（金）
会場 神戸大学 自然・ﾈ学総合研究棟3号館125室（六甲台第2キャンパス）
テーマ シリコンフォトニクス応用研究としての光配線技術とナノフォトニクス技術
◎OPE、LQE、ＩＰＤA 合同研究会 （詳細）
期日 2012年06月22日(金) 09：25-17：30
会場 機械振興会館 地下３階
研修１号室
テーマ アクティブデバイスと・W積化技術、一般、「材料・デバイスサマーミーティング」
懇親会を・J・ﾃ予定 参加ご希望の方・EﾍOPE研専トップページ記載の手順を・ｲ覧いただき、事前お申込み願います。
◎第３回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2012年2月2・・木)～3日(金)
会場 <古河電工健康保険組合 逗子保養所・研修センター>
テーマ ｢集積光デバイス技術の歩みと応用 －現在・過去・未来－」
集積光デバイスとその応用技術の研究の動向や今後の展開に関する５つのテクニカル
セッション（「「光インターコネクショ・唐ﾆSiフォトニクス」「半導・ﾌ量子構造光デバイス」
「超高速光通信技術 -Beyond 100G, Tera/Peta/Exa-bps-」「新領域技術
－ナノ・メタ・
量子フォトニクス－」「光デバイスの信頼性・ディベンタビリティと標準化」）に加えて「光集積
技術を俯瞰する」と題するランプセッション、学生ポスターセッショ・刀i優秀講演賞贈呈予定）
を盛り込んだ1泊2・冾ﾌ研・・・sい・ﾜす．多数の方々のご参加をお待ちしております．.
◎第２回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2011年11月16日(水)
会場 <芝浦工業大学 豊洲キャンパス 交流棟４階４０１教室>
テーマ ｢テラヘルツ波環境計測・センシングおよび集積光デバイス技術一般」
光と電波の境界領域にあるテラヘルツ波の分野は，近年，レーザー技術や半導体デバ
イス技術を使った光源および受信部の開発とその応用に・謔ﾁ・Eﾄ飛躍的な発展を見せ始
めています．これらの技術に・謔閨C今までにない分光技術やイメージング技術の研究開
発が，活発に行・E墲黶EC・ﾂ境計測分野，材料分野，バイオ・eクノロジー分野等多岐にわ・ｽ
る分野での画期的な応・pが期待されています．これらを踏まえ，第2回集積光デバイスと
応用技術研究会では，下記の講演をいただき，テラヘルツ波および集積光デバイス技術
に関連する技術の発展，研究者間の交流の機会となることを目的としています．多数の
皆様のご参加をお待ちしております．
◎LQE、OPE、ＩＰＤA 合同研究会
期日 2011年06月30日(木) 09：20-17：05
会場 機会振興会館
テー・} アクティブデバイスと集積・ｻ技術、一般 「材料デバイスサマーミーティング」
◎第１回IPDA研究会 開催案内
期日 2011年5月11日(水)
会場 <京都工芸繊維大学 松ヶ崎キャンパス 工繊会館>
テーマ ｢多モード導波路デバイスの応用展開」
・@ これまで集積光デバイスの多くは，モード分散やモード間干渉の影響を避けるために
単一モード導波路やシングルモードファイバを用いて実現されてきました．近年，シリ
コン導波路を始めとする強閉じ込め光導波路を高精度に作製できるようになり，多モ
・@ ード光伝搬の性質を積極的に利用しようとする研究が活性化しています．多モード伝
搬の性質を巧みに利用して実現する種々の多モード導波路デバイスの研究開発動向
および今後の展開に関する講演を行います．
◎第５回IPDA研究会 講演案内
期日 2010年12月10日(金)
会場 <アクトシティ浜松 研修交流センター401会議室>
テーマ ｢移動体分野における光技術・集積光・fバイス技術の応用展開」
提案趣旨
参加資格等
開催日をクリックすると、プ・鴻Oラム・Eﾌ詳細がご覧になれます。
◎LQE、OPE、IPDA 合同研究会 講演募集
期日 2010年06月25日(金)
会場 機械振興会館 地下3階研修1号室
テーマ｢量子効果デバイス(光信号処理、LD、光増幅、変調等)と集積化技術、一般」
講演申込期限 4月14日（水）17:00
★題名、共著者，概要のみ。 原稿執筆締切は後日(５月下旬に締切予定)となります。
申込方法
OPE研究会あるいは
OPE研究会発表申込み
より、電子投稿手続きをお願いします。
「材料デバイスサマーミーティング」
【特別講演】13:00～13:50 地下3階研修1号室
「機能性酸化物のエレクトロニクス応用（仮題）」
知京 豊裕 先生(独立行政法人 物質・材料研究機構)
◎ＩＰＤＡ第4回研究会開催案内
テーマ 「集積光デバイス技術の・ｶ体・バイオ・医療展開」
期日 2010年5月28日(金) 13:00(受付開始12:30)
会場 東北大学 多元物質科学研究所 材料・物性総合研究棟大会議室
（〒980-8577 宮城県仙台市青葉区片平2-1-1、TEL:022-217-5672)
提案趣旨
参加資格等
◎総合大会、シンポジウム講演
期日 2010年3月16日（火）
・・黶@東北大学
テーマ 「コ・qーレント通信用光デバイスの進展（CS-6）」
◎ＩＰＤＡ第3回研究会開催案内
期日 2010年02月04日(木) 13:30(受付開始13:00) ～02月05（金）16:00
会場 ホテル箱根アカデミー
地図
箱根町湖尻160.小田原駅下車，バス1時間桃源台下車
もしくは新宿・羽田空港から高速バス約2時間
注）ホテル箱根アカデミーのHPで2月4日（木）が休館となっておりますが、研究会の開催には支障ありません。
テーマ：「光集積技術の歩みと応用展開 」
内容
招待講演 (開催日をクリックすると、プログラムの詳細がご覧になれます)
ランプセッション 「光集積技術が描く夢」
学生ポスター講演 ｢集積光デバイスと技・p 一般｣
提案趣旨
学生ポスター募集案内、原稿提出締切
一般講演募集案内(締め切りました)
参加資格等、聴講申し込み（宿泊希望等）
参加費用（予定） 一般参加者20,000円・A学生ポスター講演者12,000円（一泊三食付）
宿泊なしの聴講のみ（5,000円/日）
協賛： 光産業技術振興協会（OITDA)
光エレクトロニクス研究専門委員会(OPE)
レーザ・量子エレクトロニクス研究専門委員会(LQE)
シリコンフォトニクス時限研究専門委員会
IEEE Photonics Society Japan Chapter （旧 IEEE/LEOS Japan Chapter）
◎ＩＰＤＡ第2回研究会開催案内
期日 2009年10月16日(金) 13:00～17:30 (受付開始12:30)
会場 東工大 大岡山キャンパス Tokyo Tech Front ロイヤルブルーホール
テーマ：「集積光デバイスが拓く、省エネ・創エネ技術」
内容
有機EL、白色光源、MEMSディスプレイ、太陽電池（シリコン、化合物、有機物）、その他集積光デバイス技術一・Eﾊ
提案趣旨
講演募集案内、原稿提出締切
・Q・ﾁ資格等
◎主催 ・Vリコンフォトニク・X時限研究専門委員会 合同研究会開催案内
期日 2009年07月09日(木) 13:00 - 17:00
会場 東京工業大学大岡山キャンパス（東急目黒線・大井町線大岡山駅）百年記念
館フェライト会議室
テーマ｢－拡がりをみせるシリコンフォトニクスとフォトニクス集積技術－」
協賛：集積光デバイスと応用技術時限研究専門委員会（IPDA)
フォトニクスネットワーク研究専門委員会(PN)
光エレクトロニクス研究・齧蛻ﾏ員会(OPE）
IEEE LEOS Japan Chapter
東京工業大学電気系G-COE「フォトニックコア集積エレクトロニクス」
◎LQE、OPE、ＩＰＤA 合同研究会
期日 2009年06月19日(金) 09:00 - 17:40
会場 機会振興会館
テーマ｢量子効果デバイス（光信号処理、LD、光増幅、変調等）と集積化技術、一般 「材料デバイスサマー・~ーティ・塔O」
◎ＩＰＤＡ第1回研究会
期日 2009年04月22日(水) 13:00～17:00 (受付開始12:30)
会場 NTT武蔵野開発センタ 本館コンベンションホール Ａ，Ｂ （バス時刻検索案内）
テーマ：「MEMSを用いた光応用技術の進展」
提案趣旨
参加資格等
◎総合大会、シンポジウム講演
期日 2009年03月18日(水) 9：40～12:05, 13:30～15：50
会場 愛媛大学
テーマ：「大容量・高機能光通信を拓く集積光デバ・Cス」（ＣＳ－９）
提案趣旨
◎第5回研究会
期日 2008年11月28日(金)13・F00～17・F30
会場 大阪大学 銀杏（いちょう）会館
テーマ：「集積光デバイス技術のコンシューマ展開」
参加資格等
◎第10回シリコン・フォトニクス研究会
主催：SiPh
協賛：IPD, PN, IEEE LEOS Japan Chapter
開催日 ： 2008年11月7日（金）
場 所 ： 東京工業大学大岡山キャンパス
◎ソサイエティ大会、シンポジウム講演
開催日 ： 2008年 9月17日（水） 13:00～16:10
場 所 ： 明治大学 生田・Lャンパス
テーマ ： 情報通信分野における省エネルギー光デバイスの現状と将来（ＣＳ－６）
提案趣旨
◎第4回研究会
期日 2008年7月30日(水)
会場 芝浦工業大・w 豊洲キャンパス交流棟４階 401教室
テーマ：「生命・環境分野における光技術・集積光デバイス技術」
参加資格等
◎材料デバイスサマーミーティング
開催日 ： 2008年 6月27日（金）
場 所 ： 機械振興会館
テーマ ： 量子効果デバイス（光信号処理、LD、光増幅、変調等）と集積化技術、CLEO報告、IPRM報告、一般
◎第3回研・・・br> 期日 2008年5月15・・木)～16日(金)
会場 北海道 登別温泉 ホテルまほろば
（交通案内(復路の貸切バス情報を追加しました)）
テーマ：「光集積・光配線技術の歩みと今後の展開」
参加申込み等
◎第2回研究会
開催日 ： 2007年12月6日（木）
場 所 ： トヨタテクノミュージアム産業技術記念館 ホールＡ
テーマ ： メカトロニクス＆移動体分野における光学技術と集積光デ・oイス技術
発表申込締切 ：２００７年 ９月１８日(火)
発表募集案内
参加資格等
◎ソサイエティ大会、シンポジウム講演
開催日 ： 2007年 9月13日（木）
場 所 ： 鳥取大学 鳥取キャンパス
テーマ ： 変復調用集積光デバイスの現状と展望（ＣＳ－７）
発表申込、原稿提出締切 ・F 2007年7月4日（水）、17:00
提案趣旨
発表申込
◎第１回研究会
開催日 ： 2007年 7月20日（金）
場 所 ： NTT武蔵野研究開発センタ （三鷹駅・E会場間のバス時刻案内）
テーマ ： ブロードバンド・ユビキタスネットワークと集積フォトニクス技術、および集積光デバイス一般
発表申込締切 ： 2007年 5月18日（金）
発表募集案内
参加資格等
◎材料デバイスサマーミーティング
開催日 ： 2007年 6月29日（金）
・@ 場 所 ： 機・B振興会館
テーマ ： 量子効果デバイス（光信号処理、ＬＤ、光増幅、変調等）と集積化技術、及び一般
参考 ： 前期委員会において開催された研究会
研究会開催日程
◎第2回IPDA研究会 開催案内（プログラム詳細）
期日 2017年11月9日（木） 13：00-22：00 (受付12:30～)，11月10日（金） 9：00-12：30
会場 加賀山代温泉 瑠璃光（るりこう）
石川県加賀市山代温泉19-58-1，Tel: 0761-77-2323
http://rurikoh.jp/
テーマ ｢IoT時代の集積フォトニクス」
集積光デバイスと応用技術特別研究専門委員会は，光デバイスの高性能化・高機能化・集積化技術を中心に，特にその応用技術を含めた研究分野に関する情報交換，議論の機会を提供しています．第2回は，集積光デバイスの進展とIoT時代の新たな応用展開に関する魅力的な招待講演,深い議論が可能なランプセッション，次代の産業界を担う学生との交流を図る学生ポスターセッションを盛り込んだ1泊2日の研究会として企画しております．多数の方々のご参加をお待ちしております．
参加申込み（2017年10月20日締切）
学生ポスター発表申込み（2017年10月20日締切）
共催 光レーダー研究会，ツルギフォトニクス財団
協賛 レーザ・量子エレクトロニクス研究会(LQE)， 光エレクトロニクス研究会（OPE），シリコンフォトニクス(SIPH)
IEEE Photonics Society Japan Chapter
◎第1回IPDA研究会 開催案内（プログラム詳細）
期日 2017年6月2日(金) 13:25 - 17:55
会場 <東工大蔵前会館 ロイアルブルーホール>
参加申込み 事前参加登録は締め切りました．多数のご登録ありがとうございました．
テーマ ｢自動運転技術の現状と集積光デバイスが果たすべき役割」
近年、自動車における自動運転技術の発展が著しく、将来の完全自動運転も見据えた人工知能、
通信技術、各種センサーデバイス等の研究・開発が精力的に進められています。特に、自動車周囲
の状況や物体を把握できる光測距センサーや光レーダーは自動運転におけるキーデバイスの一つ
であり、その小型化、高性能化、低コスト化を図る上で、集積光デバイス技術の果たすべき役割は
極めて大きいものと考えられます。
そこで本研究会では、自動運転技術に関する現状と自動運転への応用を目指した各種技術や
光測距デバイスの開発状況について、本分野の研究・開発の第一線で活躍されている皆様による
講演会を開催いたします。多数の方のご参加をお待ちしております。
本研究会は、光レーダー研究会との共同開催です。
協賛 IEEE Photonics Society Japan Chapter，光エレクトロニクス研究会（OPE），レーザ・量子エレクトロニクス研究会(LQE)
◎第5回IPDA研究会 ・J催案内（プログラム詳細）
期日 2016年11月24日（木） 13:00 - 11月25日（金）16:15
会場 <東北大学 片平キャンパス ナノ・スピン総合研究棟 コンファレンスルーム>
テーマ ｢超高速光マイクロ波デバイスとその応用」
光通信における光位相制御技術の進歩により無線技術と融合させた超高速光マイクロ波を用いた
応用技術開発が進展しています。マイクロ波の周波数がGHzであるのに対して、光の周波数は100
～1000 THzと1万倍以上高いキャリア周波数を有することから大変注目されており、そのための
デバイス技術に関する研究開発も盛んです。
第5回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記の内容に関連する講演をはじめ、集積光デバイス
技術と応用技術研究会では，上記の内容に関連する講演をはじめ、集積光デバイス技術とその応用
に関する講演会を開催します。
今回、光エレクトロニクス研究会（OPE）、有機エレクトロニクス研究会(OME)及び、
超高速光エレクトロニクス研究会 (UFO)>と連催・共催いたします。
魅力ある研究会として企画いたしますので、多数の方のご参加をお待ちしております。
◎第4回IPDA研究会 開催案内 （プログラム詳細）
期日 2016年8月5日(金) 13:30～17:15（予定）
会場 <NTT厚木研究開発センタ プレゼンテーションルーム>
テーマ ｢光インターコネクション及びフォトニック結晶」
ルータやサーバのラック間、ボード間、ボード内の高速接続に用いられる光インターコネクション
技術の研究開発が進んでいます。今後、適用領域もチップ間、チップ内まで拡がり、高速化、高密度
化、低消費電力化のニーズは益々大きくなると予想・ｳれます。・gわれる光デバイスも既存技術に加え、
シリコンフォトニクス、フォトニック結晶など新たな技術の適用が重要になると思われます。これら
を踏まえ、本研究会は、実装を含めた光インターコネクション技術の発展や研究者間の交流の機会と
なることを目的としています。
第4回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記のような、光インターコネクション及びフォトニッ
ク結晶技術に関連する講演をはじめ、集積光デバイス技術とその応用に関する講演を広く募集します。
多数の方のご応募とご参加をお待ちしています。
◎第3回IPDA研究会 開催案内 （プログラム詳細）
期日 2016年3月3日(木)13:00～4日(金)15:20（予定）
会場 <東レ総合研修センター>
テーマ ｢集積光デバイス技術の進展と新たな応用展開」
集積光デバイスと応用技術時限研究専門委員会は，光デバイスの高性能化・高機能化・集積
化技術を中心に，特にその応用技術を含めた研究分野に関する情報交換，議論の機会を提供して
います．第3回は，集積光デバイスの進展と様々な分野への新たな応用展開に関する魅力的な招待
講演,深い議論が可能なランプセッション，次代の産業界を担う学生との交流を図る学生ポスターセッ
ションを盛り込んだ1泊2日の研究会として企画しております．また，下記の通り，一般講演・学生ポス
ター講演を募集しますので，積極的な論文発表・御参加をお願い致します．
◎第2回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2015年10月23日(金)
会場 <横浜国立大学 電子情報工学科棟4階 演習室I（404号室） >
テーマ
｢レーザセンシング及びテラヘルツ帯応用技術の進展」
レーザ光を用いたセンシング技術は3Dイメージング、人体観測やガス検知など応用分野が飛躍的に
広がっています。また、光と電波の境界領域にあるテラヘルツ波及びテラヘルツ帯の分野は，イメージング、
分光や通信へと活用が広がっています。これらの技術では、今までにない分光技術やイメージング技術の
研究開発が，活発に行われ、通信、環境計測分野，材料分野，バイオテクノロジーや医療分野等多岐にわたる
分野での画期的な応用が期待されています．これらを踏まえ，本研究会は，レーザセンシング及びテラヘルツ帯
応用技術の進展に関連する技術の発展，研究者間の交流の機会となることを目的としています。
第2回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記のような、レーザセンシング及びテラヘルツ帯応用技術に
関連する講演をはじめ、集積光デバイス技術とその応用に関する講演を広く募集します。
多数の方のご応募とご参加をお待ちしています。
◎第1回IPDA研究会(第4期) 開催案内 （詳細）
期日 2015年5月20日(水)
会場 <東京農工大学 小金井キャンパス140周年記念会館 (JR中央線：東小金井駅より徒歩約8分 東門を入って左側の建物)>
テーマ
｢新材料と集積光デバイス」
既存の材料の枠組みを超えた光デバイスが研究開発されています．第1回集積光デバイスと応用技術研究会
では，材料という原点に立ち戻って集積光デバイスを議論します．プラズモン導波路やグラフェン，カーボ
ンナノチューブを用いた集積光デバイスに関する講演を行います．材料・デバイス・システム間で活発な議
論ができますよ・､，多数の方々のご参加をお待ちしておりま・ｷ．
◎第5回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2014年12月5日(金)
会場 <京都工芸繊維大学60周年記念館1Fホール (京都市営地下鉄烏丸線：松ヶ崎駅より徒歩約8分)>
テーマ
｢接合／接着技術を用いた集積光デバイスの最新動向」
異種材料・部材の高精度・高強度な接合／接着技術は，各々の利点を組合わせることで，単独では困難な機
能を実現させる事が期待できるため，光デバイスのさらなる高集積化，高機能化，多機能化を可能にする大
変重要な技術の一つと考えられており，研究開発が盛んに進められています．第5回集積光デバイスと応用
技術研究会では，このような接合技術を用いた光デバイスに関連する講演を行います．多数の方の御参加を
お待ちしております．
◎第4回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2014年6月27日(金)
会場 <NTTフォトニクス研究所 １号館１階プレゼンテーションルーム (小田急電鉄 愛甲石田駅よりバス20分「通信研究所前」下車)>
テーマ
｢光デバイス用プロセス技術・実装技術の進展」
光デバイスは、より高集積、高性能と多機能化を目指して研究開発が盛んに進められています。その
中で、それらの高度な光デバイスを実現するのに不可欠な作製技術の重要性がより一層高まってきて
おり、多方面で研究開発が行われています。具体的には、薄膜低拡散の結晶成長技術、導波路等の
微細で高均一加工技術、同種/異種導波路の高効率な接続技術・集積技術や光素子/光部品の高密
度で低コストな実装技術などです。
第4回集積光デバイスと応用技術研究会では，上記のような、光デバイスの作製、製造技術に関連
する講演を行います。多数の方々のご参加をお待ちしております。
◎第3回IPDA研究会 開催案内 ・i詳細）
期日 2014年1月30日(木)13:00～31日(金)15:20（予定）
会場 <鬼怒川温泉ホテル>
テーマ ｢集積光デバイス技術とその応用展開」
集積光デバイスと応用技術研究会は，光デバイスの高性能化・高機能化・集積化技術を中心
に，特にその応用技術を含めた研究分野に関・ｷる情報交換，議論の機会を提供しています．第3
回研究会は，集積光デバイスの応用技術の研究・開発動向およびその今後の展開に関するホッ
トトピックについて，各分野の第一線でご活躍の研究者の方々による招待講演とランプセッション，
学生ポスターセッションを盛り込んだ1泊2日の研究会を企画いたしました．シリコンフォトニクス，
超高速光通信技術， InP系光集積回路・フォトニック結晶，光信号処理，光応用技術に関して講
演，議論および学生ポスターセッションを行います．多数の方々のご参加をお待ちしております．
◎第2回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2013年10月17日(木)
会場 <法政大学 小・煦艫Lャンパス 南館7階会議室 (JR中央線 東・ｬ金井駅)>
テーマ
｢微細加工のための光技術，光技術のための微細加工」
光技術はリソグラフィ技術を始め，半導体集積回路における微細化の飛躍的発展を支えており，
さらなる微細化も含め，その研究開発は一層重要性を増してきています．そして，シリコンフォトニ
クスに代表されるようにリソグラ・tィ技術の進展により産業化に有利なプロセスを用いて高・ｸ度で
低損失な光デバイスの実現も可能になっています．今後も最先端リソグラフィ技術は高精度かつ
高機能な集積光回路デバイスの開発のために重要な技術と考えられます．また，ナノインプリント
技術はフォトニック結晶などのナノスケール構造を有する光デバイスを製品化につなげる有効な
技術であり，ナノインプリントを活用した製造技術の研究開発にも注目が集まっています．第2回
集積光デバイスと応用技術研究会では，微細加工のための光技術ならびに光デバイス開発のた
・@めの微・ﾗ加工技術に関連する講演として，極限リソグラフィ技術とナノインプリント技術に関する
講演を行います．多数の方々のご参加をお待ちしております．
◎第1回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2013年5・・5日(水)
会場 <古河電気工業(株)横浜研究所3階研修室>
テーマ
｢デジタルコヒーレント通信用集積デバイスとその応用」
100Gb/sの高速デジタルコヒーレント通信の導入が進んでいます。第1回集積光デバイスと応用技術
研究会では、コヒーレント通信の最新動向、キー光コンポーネント、デジタル信号処理、Beyond
100Gb/sに向けた集積光技術に関する講演を行います。システム側からの要望も交え、活発な議論
ができます・・う、多数の方々のご参加をお待ちしております。
◎第５回IPDA・､究会 開催案内 （詳細）
期日 2012年12月6日(木)
会場 <JR博多シティ
会議室A+B>
テーマ
｢有機デバイスおよびプリンタブルデバイス」
近年、有機ELや各種バイオセンサーと言った有機材料と従来の無機エレクトロニクス融合に
よる新しいデ・oイス創成が注目を集めています。有機材料あるいは有機・無機ハイブリッド材料
は有機分子の設計どの自由さも相まって今後も新しい材料が出現し、ブレークスルーも期待さ
れています。さらに、有機材料の特長としてプリンタブル作製が容・ﾕであるこ・ﾆが挙げられま・ｷ。
製膜技術から始まり、直接描画・三次元実装・低ランニングコストを可能とする本技術についても
盛んな研究が行われています。第5回集積光デバイスと応用技術研究会では，このような有機
およびプリンタブルデバイスをテーマとして下記講演会を企画することとなりました。活発な議論が
できますよう，多数の方々のご参加をお待ちしております．
※ 翌12/7午前に、九州大学最先端有機光エレクトロニクスセンターへの見学会を予定しております。
★ 見学時間10：00～11：00、9：45に九大工学部バス停前にご集合ください。 ★
こちらもご参加、ご検討いただき、ご希望の方は研究会受付にてお申し出ください。
（研究会ご参加の方に限らせていただきます。）
◎ソサイエティ大会、企画セッション講演
期日 2012年9月11日（火）
会場 富山大学 五福キャンパス 共通研究棟 A棟 A31
テーマ 「光変調デバイスと材料技術の最新動向・iCI-5）」
◎第４回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2012年7月27・・・・
会場 <東京大学本郷キャンパス 工学部2号館 3階電気系会議室1>
テーマ
｢大容量短距・｣光通信用集積デバイスとその応用」
長距離通信インフラに大きな市場を開拓してきた光技術は，徐々に短距離用途への展開が
始まっています．近年では特に，電気配線における配線の複雑さや伝送速度などの限界を
乗り越えるために電気配線を光で置き換える「光インターコネクション」と呼ばれる分野の研
究が盛んです．光インターコネクション分野では，光ファイバ・光導波路などの伝送路，送受
信用光モジュール，光源・変調用などの光デバイスに対し高性能化，高信頼性化，低コスト
化が強く求められています．第4回集積光デバイスと応用技術研究会では，このような大容量
短距離光通信用集積デバイスとその応用に関し，以下のようなご講演をお願いすることにな
りました．活発な議・_ができますよう，多数の方々のご参加をお待ちしております．
◎SiPH第17回研究会（IPDA、OPE、LQE協賛） （詳細）
期日 2012年07月12日(木)～13日（金）
会場 神戸大学 自然・ﾈ学総合研究棟3号館125室（六甲台第2キャンパス）
テーマ シリコンフォトニクス応用研究としての光配線技術とナノフォトニクス技術
◎OPE、LQE、ＩＰＤA 合同研究会 （詳細）
期日 2012年06月22日(金) 09：25-17：30
会場 機械振興会館 地下３階
研修１号室
テーマ アクティブデバイスと・W積化技術、一般、「材料・デバイスサマーミーティング」
懇親会を・J・ﾃ予定 参加ご希望の方・EﾍOPE研専トップページ記載の手順を・ｲ覧いただき、事前お申込み願います。
◎第３回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2012年2月2・・木)～3日(金)
会場 <古河電工健康保険組合 逗子保養所・研修センター>
テーマ ｢集積光デバイス技術の歩みと応用 －現在・過去・未来－」
集積光デバイスとその応用技術の研究の動向や今後の展開に関する５つのテクニカル
セッション（「「光インターコネクショ・唐ﾆSiフォトニクス」「半導・ﾌ量子構造光デバイス」
「超高速光通信技術 -Beyond 100G, Tera/Peta/Exa-bps-」「新領域技術
－ナノ・メタ・
量子フォトニクス－」「光デバイスの信頼性・ディベンタビリティと標準化」）に加えて「光集積
技術を俯瞰する」と題するランプセッション、学生ポスターセッショ・刀i優秀講演賞贈呈予定）
を盛り込んだ1泊2・冾ﾌ研・・・sい・ﾜす．多数の方々のご参加をお待ちしております．.
◎第２回IPDA研究会 開催案内 （詳細）
期日 2011年11月16日(水)
会場 <芝浦工業大学 豊洲キャンパス 交流棟４階４０１教室>
テーマ ｢テラヘルツ波環境計測・センシングおよび集積光デバイス技術一般」
光と電波の境界領域にあるテラヘルツ波の分野は，近年，レーザー技術や半導体デバ
イス技術を使った光源および受信部の開発とその応用に・謔ﾁ・Eﾄ飛躍的な発展を見せ始
めています．これらの技術に・謔閨C今までにない分光技術やイメージング技術の研究開
発が，活発に行・E墲黶EC・ﾂ境計測分野，材料分野，バイオ・eクノロジー分野等多岐にわ・ｽ
る分野での画期的な応・pが期待されています．これらを踏まえ，第2回集積光デバイスと
応用技術研究会では，下記の講演をいただき，テラヘルツ波および集積光デバイス技術
に関連する技術の発展，研究者間の交流の機会となることを目的としています．多数の
皆様のご参加をお待ちしております．
◎LQE、OPE、ＩＰＤA 合同研究会
期日 2011年06月30日(木) 09：20-17：05
会場 機会振興会館
テー・} アクティブデバイスと集積・ｻ技術、一般 「材料デバイスサマーミーティング」
◎第１回IPDA研究会 開催案内
期日 2011年5月11日(水)
会場 <京都工芸繊維大学 松ヶ崎キャンパス 工繊会館>
テーマ ｢多モード導波路デバイスの応用展開」
・@ これまで集積光デバイスの多くは，モード分散やモード間干渉の影響を避けるために
単一モード導波路やシングルモードファイバを用いて実現されてきました．近年，シリ
コン導波路を始めとする強閉じ込め光導波路を高精度に作製できるようになり，多モ
・@ ード光伝搬の性質を積極的に利用しようとする研究が活性化しています．多モード伝
搬の性質を巧みに利用して実現する種々の多モード導波路デバイスの研究開発動向
および今後の展開に関する講演を行います．
◎第５回IPDA研究会 講演案内
期日 2010年12月10日(金)
会場 <アクトシティ浜松 研修交流センター401会議室>
テーマ ｢移動体分野における光技術・集積光・fバイス技術の応用展開」
提案趣旨
参加資格等
開催日をクリックすると、プ・鴻Oラム・Eﾌ詳細がご覧になれます。
◎LQE、OPE、IPDA 合同研究会 講演募集
期日 2010年06月25日(金)
会場 機械振興会館 地下3階研修1号室
テーマ｢量子効果デバイス(光信号処理、LD、光増幅、変調等)と集積化技術、一般」
講演申込期限 4月14日（水）17:00
★題名、共著者，概要のみ。 原稿執筆締切は後日(５月下旬に締切予定)となります。
申込方法
OPE研究会あるいは
OPE研究会発表申込み
より、電子投稿手続きをお願いします。
「材料デバイスサマーミーティング」
【特別講演】13:00～13:50 地下3階研修1号室
「機能性酸化物のエレクトロニクス応用（仮題）」
知京 豊裕 先生(独立行政法人 物質・材料研究機構)
◎ＩＰＤＡ第4回研究会開催案内
テーマ 「集積光デバイス技術の・ｶ体・バイオ・医療展開」
期日 2010年5月28日(金) 13:00(受付開始12:30)
会場 東北大学 多元物質科学研究所 材料・物性総合研究棟大会議室
（〒980-8577 宮城県仙台市青葉区片平2-1-1、TEL:022-217-5672)
提案趣旨
参加資格等
◎総合大会、シンポジウム講演
期日 2010年3月16日（火）
・・黶@東北大学
テーマ 「コ・qーレント通信用光デバイスの進展（CS-6）」
◎ＩＰＤＡ第3回研究会開催案内
期日 2010年02月04日(木) 13:30(受付開始13:00) ～02月05（金）16:00
会場 ホテル箱根アカデミー
地図
箱根町湖尻160.小田原駅下車，バス1時間桃源台下車
もしくは新宿・羽田空港から高速バス約2時間
注）ホテル箱根アカデミーのHPで2月4日（木）が休館となっておりますが、研究会の開催には支障ありません。
テーマ：「光集積技術の歩みと応用展開 」
内容
招待講演 (開催日をクリックすると、プログラムの詳細がご覧になれます)
ランプセッション 「光集積技術が描く夢」
学生ポスター講演 ｢集積光デバイスと技・p 一般｣
提案趣旨
学生ポスター募集案内、原稿提出締切
一般講演募集案内(締め切りました)
参加資格等、聴講申し込み（宿泊希望等）
参加費用（予定） 一般参加者20,000円・A学生ポスター講演者12,000円（一泊三食付）
宿泊なしの聴講のみ（5,000円/日）
協賛： 光産業技術振興協会（OITDA)
光エレクトロニクス研究専門委員会(OPE)
レーザ・量子エレクトロニクス研究専門委員会(LQE)
シリコンフォトニクス時限研究専門委員会
IEEE Photonics Society Japan Chapter （旧 IEEE/LEOS Japan Chapter）
◎ＩＰＤＡ第2回研究会開催案内
期日 2009年10月16日(金) 13:00～17:30 (受付開始12:30)
会場 東工大 大岡山キャンパス Tokyo Tech Front ロイヤルブルーホール
テーマ：「集積光デバイスが拓く、省エネ・創エネ技術」
内容
有機EL、白色光源、MEMSディスプレイ、太陽電池（シリコン、化合物、有機物）、その他集積光デバイス技術一・Eﾊ
提案趣旨
講演募集案内、原稿提出締切
・Q・ﾁ資格等
◎主催 ・Vリコンフォトニク・X時限研究専門委員会 合同研究会開催案内
期日 2009年07月09日(木) 13:00 - 17:00
会場 東京工業大学大岡山キャンパス（東急目黒線・大井町線大岡山駅）百年記念
館フェライト会議室
テーマ｢－拡がりをみせるシリコンフォトニクスとフォトニクス集積技術－」
協賛：集積光デバイスと応用技術時限研究専門委員会（IPDA)
フォトニクスネットワーク研究専門委員会(PN)
光エレクトロニクス研究・齧蛻ﾏ員会(OPE）
IEEE LEOS Japan Chapter
東京工業大学電気系G-COE「フォトニックコア集積エレクトロニクス」
◎LQE、OPE、ＩＰＤA 合同研究会
期日 2009年06月19日(金) 09:00 - 17:40
会場 機会振興会館
テーマ｢量子効果デバイス（光信号処理、LD、光増幅、変調等）と集積化技術、一般 「材料デバイスサマー・~ーティ・塔O」
◎ＩＰＤＡ第1回研究会
期日 2009年04月22日(水) 13:00～17:00 (受付開始12:30)
会場 NTT武蔵野開発センタ 本館コンベンションホール Ａ，Ｂ （バス時刻検索案内）
テーマ：「MEMSを用いた光応用技術の進展」
提案趣旨
参加資格等
◎総合大会、シンポジウム講演
期日 2009年03月18日(水) 9：40～12:05, 13:30～15：50
会場 愛媛大学
テーマ：「大容量・高機能光通信を拓く集積光デバ・Cス」（ＣＳ－９）
提案趣旨
◎第5回研究会
期日 2008年11月28日(金)13・F00～17・F30
会場 大阪大学 銀杏（いちょう）会館
テーマ：「集積光デバイス技術のコンシューマ展開」
参加資格等
◎第10回シリコン・フォトニクス研究会
主催：SiPh
協賛：IPD, PN, IEEE LEOS Japan Chapter
開催日 ： 2008年11月7日（金）
場 所 ： 東京工業大学大岡山キャンパス
◎ソサイエティ大会、シンポジウム講演
開催日 ： 2008年 9月17日（水） 13:00～16:10
場 所 ： 明治大学 生田・Lャンパス
テーマ ： 情報通信分野における省エネルギー光デバイスの現状と将来（ＣＳ－６）
提案趣旨
◎第4回研究会
期日 2008年7月30日(水)
会場 芝浦工業大・w 豊洲キャンパス交流棟４階 401教室
テーマ：「生命・環境分野における光技術・集積光デバイス技術」
参加資格等
◎材料デバイスサマーミーティング
開催日 ： 2008年 6月27日（金）
場 所 ： 機械振興会館
テーマ ： 量子効果デバイス（光信号処理、LD、光増幅、変調等）と集積化技術、CLEO報告、IPRM報告、一般
◎第3回研・・・br> 期日 2008年5月15・・木)～16日(金)
会場 北海道 登別温泉 ホテルまほろば
（交通案内(復路の貸切バス情報を追加しました)）
テーマ：「光集積・光配線技術の歩みと今後の展開」
参加申込み等
◎第2回研究会
開催日 ： 2007年12月6日（木）
場 所 ： トヨタテクノミュージアム産業技術記念館 ホールＡ
テーマ ： メカトロニクス＆移動体分野における光学技術と集積光デ・oイス技術
発表申込締切 ：２００７年 ９月１８日(火)
発表募集案内
参加資格等
◎ソサイエティ大会、シンポジウム講演
開催日 ： 2007年 9月13日（木）
場 所 ： 鳥取大学 鳥取キャンパス
テーマ ： 変復調用集積光デバイスの現状と展望（ＣＳ－７）
発表申込、原稿提出締切 ・F 2007年7月4日（水）、17:00
提案趣旨
発表申込
◎第１回研究会
開催日 ： 2007年 7月20日（金）
場 所 ： NTT武蔵野研究開発センタ （三鷹駅・E会場間のバス時刻案内）
テーマ ： ブロードバンド・ユビキタスネットワークと集積フォトニクス技術、および集積光デバイス一般
発表申込締切 ： 2007年 5月18日（金）
発表募集案内
参加資格等
◎材料デバイスサマーミーティング
開催日 ： 2007年 6月29日（金）
・@ 場 所 ： 機・B振興会館
テーマ ： 量子効果デバイス（光信号処理、ＬＤ、光増幅、変調等）と集積化技術、及び一般
参考 ： 前期委員会において開催された研究会