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電子情報通信学会
           システムナノ技術に関する特別研究専門委員会 主催
                   第6期 第4回研究会
              「次世代型半導体デバイス作製技術の最前線」

開催主旨: システムナノ技術に関する特別研究専門委員会は「ナノ技術」をキーワードに、 フォトニクス、エレクトロニクス、バイオ、マテリアル等、幅広い分野をターゲットとする 委員会である。年2回主催している研究会は、ナノ技術の融合・システム化によりイノベーションの芽を育むという理念のもとに企画され、専門分野や産学の垣根を越えた討論・交流の場となっている。第 6 期第 4 回研究会では、次世代型半導体デバイス作製技術についてとり上げる。前半は、半導体製作技術に関する俯瞰的な内容および GAA 型トランジスタについてとり上げ、後半はリソグラフィ技術とエッチング技術に焦点を当て、第一線で活躍する先生方にご講演を頂くことで、本分野での最前線の研究成果に触れる。さらに、質疑応答を通じて交流を図り、本分野の発展を後押しする一助となるような研究会となることを目指す。

日時:2026年6月24日(水)14:00 ~17:25
形式:オンライン 
主催:電子情報通信学会 システムナノ技術に関する特別研究専門委員会(SNT)
協賛:電子情報通信学会 電子部品・材料研究専門委員会(CPM)
   電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究専門委員会(SDM)
   電子情報通信学会 レーザ・量子エレクトロニクス研究専門委員会(LQE)
   電子情報通信学会 光集積及びシリコンフォトニクス特別研究専門委員会(PICS)
   電子情報通信学会 光エレクトロニクス研究会(OPE)
   公益社団法人 応用物理学会関西支部
後援:株式会社 オプトロニクス社

<研究会プログラム>
   
時間内容
14:00〜14:05 開会挨拶
14:05〜14:50 チュートリアル講演「半導体の進化について」
昌原 明植 先生 (国立研究開発法人 産業技術総合研究所 先端半導体研究センター)
14:50〜15:35 招待講演「GAA型ナノシート酸化物半導体トランジスタ」
小林 正治 先生 (東京大学 生産技術研究所)
15:35〜15:50 休憩
15:50〜16:35 招待講演「半導体製造用EUV光源開発とその応用の現状」
溝口 計 先生 (九州大学プラズマ・ナノ界面工学研究センター/EUVフォトン株式会社)
16:35〜17:20 招待講演「2 nm 世代のエッチング技術」
森本 未知数 先生 (株式会社日立ハイテク)
17:20〜17:25 閉会挨拶
17:30〜19:30 オンライン懇親会

【 申込方法 】
@ご氏名、Aご所属(会社名/学校名)、B一般/学生の別、Cオンライン懇親会のご出欠、をE-mailにてSNT研究会事務局( y-sada@rs.tus.ac.jp)までお送り下さい。
【 参加費】
一般 5,000円(予稿集代含む)、学生 無料(但し予稿集希望の学生は1,000円)
【参加費振込先】
PayPay 銀行 ビジネス営業部支店(店番号 005)普通口座 6747912
一般社団法人電子情報通信学会SNT研究専門委員会
【 申込締切 】
6月18日(木)

【 注意事項 】
オンライン聴講に関わる全ての情報(URL、会議ID、パスワード等)の他人への供与、および配信画面の電磁的な記録・加工・二次使用を固くお断りいたします。

【 問合先 】
 電気通信大学 塚本 貴広(e-mail: t.tsukamoto@uec.ac.jp
 情報通信研究機構 山本 直克(e-mail: naokatsu@nict.go.jp
 東京理科大学 佐田 雄飛(e-mail: y-sada@rs.tus.ac.jp
(研究会HP:http://www.ieice.org/~snt/)