| 開催日 | テーマ | 研究会報告 | 開催地 | 担当委員（サブ）敬称略 | 共催 | 投稿〆切 |
| ４月16-18日 | 有機ELおよび関連有機材料、低温poly-SiとTFT技術 | 九州工業大学 （福岡県飯塚市 ） |
浅野(九工大) （宮尾、野口） | ED, OME | 終了 | |
| ５月23, 24日 | 結晶成長、評価技術及びデバイス（化合物、Si、SiGe、その他の電子材料） | 名古屋大学 (名古屋市) |
木本（京都大） （若原、佐々木） | ED, CPM |
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| ６月20, 21日 | ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術 | 広島大学・学士会館 (東広島市) |
宮崎（広島大） （西岡、神力） | 応物Siテク分科会 | 終了 | |
| ７月1-3日 | 2002 AWAD
「先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ」 |
北海道大学 | 松尾(山口大) | 大韓電子工業会、ED |
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| ８月22,23日 | VLSI回路、デバイス技術、および一般 | 公立はこだて未来大学 | 松田（富山大） (平本、川中) | ICD |
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| 9月30-10月1日 | プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 | 機械振興会館（東京) | 鎌倉（大阪大） (松本、今永) | VLD 応物Siテク分科会 |
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| 10月28,29日 | プロセスクリーン化と新プロセス技術 | 東北大学 | 小谷（東北大) （大野吉） |
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| 11月29日 | 先端CMOS及びプロセス関連技術 | 機械振興会館（東京) | 高橋（日大） (杉井、佐藤) |
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| 12月20日 | シリコン関連材料の作製と評価 | 京都大学 | 冬木（奈良先端科学技術大学院大）（松尾(松下)、羽路） |
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| 2月7日 | 低誘電率層間膜、配線材料および一般 | 機械振興会館 | 上野（ＮＥＣ） (谷本、古宮） | 応物Siテク分科会 | 終了 | |
| 2月10-11日 | 量子効果デバイスおよび関連技術 | 北海道大学学術交流会館 | 田部（静岡大） (赤澤） | ED | 終了 | |
| 3月18日 | 強誘電体薄膜とデバイス応用 | 機械振興会館 | 平谷（日立） (吉丸） | 終了 |
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