エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日：1994/09/12)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1994/9/12
[資料番号]
目次

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[発表日]1994/9/12
[資料番号]
反応性スパッタ法によるCuInS_2薄膜の作製

小林 康之,  于 丹陽,  M.M. サリナント,  小林 敏志,  金子 双男,  川上 貴浩,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-56
スパッタ・セレン化法によるCuInSe_2薄膜の作製と評価(II)

片桐 裕則,  南 直樹,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-57
BCl_3を用いたプラズマCVDによるホウ素薄膜の生成

大竹 一郎,  佐藤 貴弘,  大久保 美也子,  中尾 真人,  上村 喜一,  小沼 義治,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-58
ECRプラズマソースを用いて作製したInN薄膜の特性

佐藤 祐一,  佐藤 進,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-59
ECRプラズマ励起HRCVD法による微結晶SiC膜の構造

安井 寛治,  藤田 博司,  菅家 好行,  赤羽 正志,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-60
多結晶SiC薄膜の生成とそのピエゾ抵抗特性

岡田 亮一,  米久保 荘,  上村 喜一,  中尾 真人,  小沼 義治,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-61
オージェ電子分光分析によるAl/Al_3Ta/TaN/Siコンタクト構造の熱的安定性

武山 真弓,  野矢 厚,  佐々木 克孝,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-62
Cu/Siコンタクト系におけるCu-Zrアモルファス合金膜の適用とZr系拡散バリヤの検討

篭味 慎也,  武山 真弓,  野矢 厚,  佐々木 克孝,  坂西 光一郎,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-63
Nb/Si系の界面反応におけるmetal-richシリサイドの初期形成

中西 太一,  村上 佳隆,  武山 真弓,  野矢 厚,  佐々木 克孝,  

[発表日]1994/9/12
[資料番号]CPM94-64
[OTHERS]

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[発表日]1994/9/12
[資料番号]