| 講演名 | 1994/9/12 Nb/Si系の界面反応におけるmetal-richシリサイドの初期形成 中西 太一, 村上 佳隆, 武山 真弓, 野矢 厚, 佐々木 克孝, |
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| 抄録(和) | Nb, Si系における界面反応の様子を、X線回折とオージェ電子分光分析によって評価した。この系では、界面反応によってmetal-rich相であるNb_3Siが熱処理温度550℃で初期形成した。一方、熱処理温度を600℃とした場合、この相とともにNb_5Si_3の形成が観測された。熱処理温度650℃では、Siのout-diffusionによってNbSi_2相の成長が見られ、Nb_3Si相、Nb_5Si_3相、NbSi_2相から成るmultiphaseの形成が観測された。熱処理温度を700℃とすると、反応相はmetal-rich相から最終形成相であるNbSi_2相へ完全に移行することが知られた。 |
| 抄録(英) | The interfacial reaction in the Nb, Si system has been studied by x-ray diffraction(XRD)and Auger electron spectroscopy(AES).The metal-rich phase of Nb_3Si is formed as a first nucleated phase by the interfacial reaction in the systems at the heat treatment temperature of 550℃.Subsequently NbSi_3 in addition to Nb_3Si is f ormed after heat treatment at 600℃.The growth of the NbSi_2 phase by the out-diffusion of Si is observed at heat treatment temperatures above 650℃,and simultaneous occurrence of multiphases which consists of Nb_3Si,Nb_5Si_3 and NbSi_2 is observed at the heat treatment temperature of 650℃.The metalrich phase of Nb_3Si a nd Nb_5Si_3 are completely overcome by the formation of the NbSi_2 phase by the out-diffusion of Si at the heat treatment temperature of 700℃. |
| キーワード(和) | Nb-シリサイド / 界面反応 / 初期形成相 / multiphase / metal-rich相 / 拡散種 |
| キーワード(英) | Nb-silicide / interfacial reaction / first nucleated phase / multiphase / metal-rich phase / duffusing species |
| 資料番号 | CPM94-64 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 1994/9/12(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Nb/Si系の界面反応におけるmetal-richシリサイドの初期形成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | The first nucleation of metal-rich silicide in the interfacial reaction in Nb/Si systems |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Nb-シリサイド / Nb-silicide |
| キーワード(2)（和/英） | 界面反応 / interfacial reaction |
| キーワード(3)（和/英） | 初期形成相 / first nucleated phase |
| キーワード(4)（和/英） | multiphase / multiphase |
| キーワード(5)（和/英） | metal-rich相 / metal-rich phase |
| キーワード(6)（和/英） | 拡散種 / duffusing species |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 中西 太一 / Taichi Nakanishi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering,Faculty of Engineering,Kitami Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 村上 佳隆 / Yoshitaka Murakami |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering,Faculty of Engineering,Kitami Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 武山 真弓 / Mayumi Takeyama |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering,Faculty of Engineering,Kitami Institute of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 野矢 厚 / Atsushi Noya |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering,Faculty of Engineering,Kitami Institute of Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 佐々木 克孝 / Katsutaka Sasaki |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部機能材料工学科 Department of Material Science,Faculty of Engineering,Kitami Institute of Technology |
| 発表年月日 | 1994/9/12 |
| 資料番号 | CPM94-64 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 226 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |