講演名 1994/9/12
BCl_3を用いたプラズマCVDによるホウ素薄膜の生成
大竹 一郎, 佐藤 貴弘, 大久保 美也子, 中尾 真人, 上村 喜一, 小沼 義治,
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抄録(和) プラズマCVD法によって多結晶ホウ素薄膜を生成した。原料ガスには水素希釈したBCl_3を用いた。薄膜の結晶構造は透過型電子線回折装置で調べた。得られた回折パターンから多結晶のα-菱面体ホウ素であることが判った。吸収端は約1.4eVであった。キャリア濃度は10^16>~10^18>cm^-3>、移動度は数cm^2, Vsであった。
抄録(英) Polycrystalline boron films were deposited by plasma assisted chemical vapor deposition.The source gas was boron chloride diluted with hydrogen.The structure of film was characterized by transmission electron beam diffraction.The ring pattern shows the films are polycrystalline α-boron.Absorption edge was about 1.4eV, and was independent on deposition temperature.The carrier density was of the order of 10^16>~10^18>cm^-3>.The Hall mobility was s everal cm^2, Vsec.
キーワード(和) α-菱面体 / ホウ素薄膜 / プラズマCVD / 電子線回折
キーワード(英) α-rhombo hedral / boron film / plasma CVD / transmission electr on beem diffraction
資料番号 CPM94-58
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 1994/9/12(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) BCl_3を用いたプラズマCVDによるホウ素薄膜の生成
サブタイトル(和)
タイトル(英) Preparation of boron films deposited by plasma CVD with boron chloride
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) α-菱面体 / α-rhombo hedral
キーワード(2)(和/英) ホウ素薄膜 / boron film
キーワード(3)(和/英) プラズマCVD / plasma CVD
キーワード(4)(和/英) 電子線回折 / transmission electr on beem diffraction
第 1 著者 氏名(和/英) 大竹 一郎 / Ichiro Ohtake
第 1 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Faculty of Engineering,Shinshu University
第 2 著者 氏名(和/英) 佐藤 貴弘 / Takahiro Satoh
第 2 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Faculty of Engineering,Shinshu University
第 3 著者 氏名(和/英) 大久保 美也子 / Miyako Ohkubo
第 3 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Faculty of Engineering,Shinshu University
第 4 著者 氏名(和/英) 中尾 真人 / Masato Nakao
第 4 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Faculty of Engineering,Shinshu University
第 5 著者 氏名(和/英) 上村 喜一 / Kiichi Kamimura
第 5 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Faculty of Engineering,Shinshu University
第 6 著者 氏名(和/英) 小沼 義治 / Yoshiharu Onuma
第 6 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Faculty of Engineering,Shinshu University
発表年月日 1994/9/12
資料番号 CPM94-58
巻番号(vol) vol.94
号番号(no) 226
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日