エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2012/04/20)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2012/4/20
[資料番号]
目次

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[発表日]2012/4/20
[資料番号]
有機薄膜太陽電池の研究開発(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

當摩 哲也,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-1,OME2012-1
有機-無機ハイブリッド光学材料創製とその光デバイス応用(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

杉原 興浩,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-2,OME2012-2
高移動度を有する正孔輸送性アモルファス分子材料を用いる有機薄膜太陽電池の作製と評価(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

景山 弘,  大森 裕,  城田 靖彦,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-3,OME2012-3
バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 : 薄膜中の局所欠陥制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

上沼 睦典,  番 貴彦,  鄭 彬,  山下 一郎,  浦岡 行治,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-4,OME2012-4
連続発振レーザ横方向結晶化法によるガラス基板上SiとSiGe薄膜の成長(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

北原 邦紀,  原 明人,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-5,OME2012-5
ダブルラインビーム連続発振レーザラテラル結晶化によるシリコン薄膜の3軸結晶制御とTFT(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

黒木 伸一郎,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-6,OME2012-6
青色半導体レーザアニールによる薄膜シリコンの結晶状態の制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

白井 克弥,  / 鈴木 俊治,  岡田 竜弥,  野口 隆,  松島 英樹,  橋本 隆夫,  荻野 義明,  佐保田 英二,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-7,OME2012-7
青色半導体レーザアニールによるポリイミド基板上薄膜シリコンの結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

岡田 竜弥,  ムジラネザ ジャン ドュ デュ,  白井 克弥,  鈴木 俊治,  野口 隆,  松島 英紀,  橋本 隆夫,  荻野 義明,  佐保田 英司,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-8,OME2012-8
埋め込みゲート構造を有するガラス上の自己整合メタルダブルゲート低温poly-Si TFT(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

尾形 浩之,  一條 賢治,  近藤 健二,  岡部 泰典,  鹿 裕将,  加茂 慎哉,  原 明人,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-9,OME2012-9
低温成膜nc-Si膜を用いたbottom gate TFT(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

宿久 明日香,  高橋 英治,  安東 靖典,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-10,OME2012-10
軟X線照射のみによる半導体非晶質膜の低温結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

松尾 直人,  部家 彰,  望月 孝晏,  宮本 修治,  神田 一浩,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-11,OME2012-11
Ge膜のエキシマレーザ誘起スーパーラテラル成長(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

葉 文昌,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-12,OME2012-12
絶縁膜上におけるGe(Si)薄膜の溶融成長 : Si偏析効果による大粒径化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

加藤 立奨,  黒澤 昌志,  横山 裕之,  佐道 泰造,  宮尾 正信,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-13,OME2012-13
マイクロ熱プラズマジェット照射によるポーラスシリコン層上Si膜のエピタキシャル成長(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

林 将平,  松原 良平,  藤田 悠二,  池田 弥央,  東 清一郎,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-14,OME2012-14
マイクロ熱プラズマジェット結晶化におけるアモルファスシリコン細線及びスリットマスクを用いた結晶成長制御(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

藤田 悠二,  林 将平,  東 清一郎,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-15,OME2012-15
界面酸化膜挿入型Au誘起層交換成長法による大粒径Ge(111)/絶縁膜の低温成長 : 界面酸化膜厚依存性(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

鈴木 恒晴,  朴 鍾〓,  黒澤 昌志,  宮尾 正信,  佐道 泰造,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-16,OME2012-16
RFスパッタ法により製膜したSiO_2及びSiN薄膜の電気特性評価(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

屋宜 佳佑,  岡田 竜弥,  野口 隆,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-17,OME2012-17
高性能ポリシリコンTFTに向けたスパッタ製膜したリンドープシリコン膜の結晶化(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)

西ノ原 拓磨,  / 白井 克弥,  鈴木 俊治,  岡田 竜弥,  野口 隆,  大鉢 忠,  松島 英紀,  橋本 隆夫,  荻野 義明,  佐保田 英司,  

[発表日]2012/4/20
[資料番号]SDM2012-18,OME2012-18
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