エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：1995/10/20)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1995/10/20
[資料番号]
目次

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[発表日]1995/10/20
[資料番号]
G^b DRAM 対応ドライ現像技術

木村 泰樹,  遠藤 裕之,  遠藤 章宏,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-145
中性ビームアシストエッチング技術の開発

横川 賢悦,  湯之上 隆,  水谷 巽,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-146
Si イオン注入法を用いた単結晶 Al_2O_3 膜のエッチング

金 勲,  石田 誠,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-147
高アスペクト比コンタクトホール加工における SiO_2/Si_3N_4 選択エッチング特性

林 久貴,  栗原 一彰,  関根 誠,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-148
ビアホールエッチングによる高融点金属の変質とコンタクト特性

周藤 祥司,  市橋 由成,  池田 典弘,  武田 薫,  豆野 和延,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-149
リモートプラズマCVDによる低温Siエピタキシャル成長

西田 輝明,  内海 一肇,  ガンジュ アシュトシュ,  吉田 明,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-150
リモートプラズマ励起窒素・酸素を用いたシリコン窒化酸化膜の形成

斎藤 洋司,  河辺 信宏,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-151
水素ラジカル励起MOCVD法による Si 上への ZnSe の成長

森田 元彦,  青木 徹,  中西 洋一郎,  畑中 義式,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-152
リモートプラズマ法による有機シリコンからの窒化シリコン化合物薄膜の形成

北村 健,  スニル ウィクラマナヤカ,  中西 洋一郎,  畑中 義式,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-153
不純物濃度の統計的ゆらぎを考慮したギガビットDRAMの設計法

渡辺 重佳,  南 尚亮,  

[発表日]1995/10/20
[資料番号]SDM95-154
[OTHERS]

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[発表日]1995/10/20
[資料番号]