エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2011/10/13)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2011/10/13
[資料番号]
目次

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[発表日]2011/10/13
[資料番号]
完全空乏型SOI MOSFETにおける特性ばらつきとランダムテレグラフノイズ(プロセス科学と新プロセス技術)

平本 俊郎,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-97
埋め込み構造によるMOSFETにおけるランダム・テレグラフ・ノイズの低減(プロセス科学と新プロセス技術)

鈴木 裕彌,  黒田 理人,  寺本 章伸,  米澤 彰浩,  松岡 弘章,  中澤 泰希,  阿部 健一,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-98
異常Stress Induced Leakage Currentの発生・回復特性の統計的評価(プロセス科学と新プロセス技術)

稲塚 卓也,  熊谷 勇喜,  黒田 理人,  寺本 章伸,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-99
Effect of Si surface roughness on electrical characteristics of HfON gate insulator formed by ECR plasma sputtering

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[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-100
ラジカル反応ベース絶縁膜形成技術における界面平坦化効果と絶縁膜破壊特性との関係(プロセス科学と新プロセス技術)

黒田 理人,  寺本 章伸,  李 翔,  諏訪 智之,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-101
学問に基づいた本物のシリコン産業技術の創出(プロセス科学と新プロセス技術)

大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-102
角度分解硬X線光電子分光法によるHfO_2/Si/歪みGe/SiGe構造の評価(プロセス科学と新プロセス技術)

野平 博司,  小松 新,  那須 賢太郎,  星 裕介,  榑林 徹,  澤野 憲太郎,  ミロノフ マクシム,  白木 靖寛,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-103
32nmノードCMOSFETのチャネルひずみ評価(プロセス科学と新プロセス技術)

武井 宗久,  橋口 裕樹,  山口 拓也,  小瀬村 大亮,  永田 晃基,  小椋 厚志,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-104
SiO_2/Si界面における構造遷移層の酸化手法依存性(プロセス科学と新プロセス技術)

諏訪 智之,  熊谷 勇喜,  寺本 章伸,  木下 豊彦,  室隆 桂之,  服部 健雄,  大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-105
AR-XPSによる種々の表面処理したIn_<0.53>Ga_<0.47>As表面の化学結合状態の評価(プロセス科学と新プロセス技術)

沼尻 侑也,  山下 晃司,  小松 新,  ザデ ダリューシュ,  角嶋 邦之,  岩井 洋,  野平 博司,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-106
混晶化によるPtSiのコンタクト抵抗低減に関する検討(プロセス科学と新プロセス技術)

大見 俊一郎,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-107
Effect of Peripheral Region on the Electrical Properties of Pentacene-Based Organic Field-Effect Transistors with HfON Gate Insulator

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[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-108
実験融合マルチレベルコンピュータ化学手法の開発とシリコン材料・デバイスへの応用(プロセス科学と新プロセス技術)

宮本 明,  南雲 亮,  三浦 隆治,  鈴木 愛,  坪井 秀行,  畠山 望,  高羽 洋充,  小澤 純夫,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-109
物理的プラズマダメージによるMOSFETバラツキ増大予測のための包括モデル(プロセス科学と新プロセス技術)

江利口 浩二,  中久保 義則,  松田 朝彦,  鷹尾 祥典,  斧 高一,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-110
電気的手法を用いた物理的Si基板ダメージのプラズマプロセス依存性の検討(プロセス科学と新プロセス技術)

中久保 義則,  江利口 浩二,  松田 朝彦,  鷹尾 祥典,  斧 高一,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-111
高純度有機金属ガス供給システムに関する研究(プロセス科学と新プロセス技術)

山下 哲,  石井 秀和,  志波 良信,  北野 真史,  白井 泰雪,  須川 成利,  大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-112
TSVを用いた3次元FPGAの性能評価(プロセス科学と新プロセス技術)

宮本 直人,  松本 洋平,  小池 帆平,  松村 忠幸,  長田 健一,  中川 八穂子,  大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-113
高精密三次元実装にむけた、アルカリエッチングによるシリコン貫通電極形成技術(プロセス科学と新プロセス技術)

吉川 和博,  吉田 達朗,  添田 一喜,  平塚 亮輔,  大見 忠弘,  

[発表日]2011/10/13
[資料番号]SDM2011-114
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