エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:1995/05/24)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1995/5/24
[資料番号]
目次

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[発表日]1995/5/24
[資料番号]
フラッシュEEPROMセルの新しいしきい値電圧分布測定方法

神田 和重,  姫野 敏彦,  間 博顕,  松川 尚弘,  押切 雅光,  増田 和紀,  作井 康司,  伊藤 寧夫,  橋本 一彦,  宮本 順一,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
フラッシュEEPROMのチャージポンピング電流とメモリ特性劣化

山本 克美,  大西 一功,  高橋 芳浩,  佐藤 順平,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
短チャネルMOSFET特性を評価するための電気的なゲート長測定素子

笠井 直記,  山本 一郎,  小山 邦明,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
高周波測定におけるCMOS/SOI回路のリーク電流特性

伊藤 浩,  浅田 邦博,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
SiMOS反転層モビリティにおけるクーロン散乱および表面ラフネス散乱の電子濃度依存性

古賀 淳二,  高木 信一,  鳥海 明,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
多層ピッチ配線特性のモデル化と実験比較

青山 仁子,  井瀬 潔,  常野 克己,  佐藤 久子,  中村 高秀,  増田 弘生,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
単結晶Al配線を用いたTEGによるエレクトロマイグレーション評価

楠山 幸一,  中島 靖志,  村上 善則,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
薄い酸化膜の極微小電流測定による信頼性評価

勝又 正文,  三橋 順一,  小林 清輝,  益子 洋治,  小山 浩,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
極薄ゲート絶縁膜の高品質化

高崎 金剛,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
超低水分極薄シリコン酸化膜の信頼性

山田 宏,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
プラズマ照射に起因する熱処理後の酸化膜中残留ダメージの評価

北林 宏佳,  武藤 浩隆,  藤井 治久,  坂森 重則,  宮武 浩,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
酸窒化トンネル膜劣化のバイアス極性依存と窒素原子分布

荒川 富行,  松本 良一,  北 明夫,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
BT(バイアス温度)不安定性の拡散・反応モデル

小川 重男,  

[発表日]1995/5/24
[資料番号]
[OTHERS]

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[発表日]1995/5/24
[資料番号]