エレクトロニクス-電子部品・材料(開催日:2006/07/31)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2006/7/31
[資料番号]
目次

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[発表日]2006/7/31
[資料番号]
rfマグネトロンスパッタリング法によるガラス基板上GaドープZnO薄膜特性のGa濃度依存性

那須 紀光,  長谷部 博昭,  武藤 幸一,  菊地 新司,  道上 修,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-40
Ar+H_2ガス雰囲気中でのGaドープZnOスパッタ薄膜の成長

武藤 幸一,  那須 紀光,  長谷部 博昭,  道上 修,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-41
MOCVD法によるSi(100)基板上ZnO薄膜形成

輪島 寿夫,  廣瀬 文彦,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-42
スパッタビーム堆積法によるZnO薄膜の作製及び検討

野口 亨,  川上 歩,  東出 陽幸,  清水 英彦,  丸山 武男,  岩野 春男,  川上 貴浩,  星 陽一,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-43
CVD法によるアナタース酸化チタン薄膜の低温形成

廣瀬 文彦,  伊藤 正志,  松島 優,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-44
プラズマアシスト電子ビーム蒸着法によるTiO_2薄膜の高速成膜

星 陽一,  川口 茂利,  神谷 攻,  清水 英彦,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-45
Hot-Mesh CVD法を用いたSOI基板上への3C-SiC低温エピタキシャル成長

三浦 仁嗣,  栗本 大詩,  黒木 雄一郎,  安井 寛治,  高田 雅介,  赤羽 正志,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-46
Hot-mesh CVD法によるAlNバッファー層を用いたSiC/Si(111)上へのGaN成長

田村 和之,  深田 祐介,  黒木 雄一郎,  高田 雅介,  安井 寛治,  赤羽 正志,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-47
EuBa_2Cu_3O_<7-δ>厚膜用CeO_2バッファ層の厚膜化

菊地 景大,  佐久間 純,  藤原 聡,  太田 靖之,  道上 修,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-48
マグネトロンスパッタリングで作製した厚膜CeO_2バッファ層の表面性状の制御

太田 靖之,  佐久間 純,  木村 豊,  益子 弘識,  道上 修,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-49
厚膜Sm_2O_3バッファ層上に成長したEuBa_2Cu_3O_<7-δ>薄膜の超伝導特性

木村 豊,  太田 靖之,  宇沼 裕也,  道上 修,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-50
対向ターゲットマグネトロンスパッタ法を用いた大型超伝導薄膜に対する熱処理の効果

武蔵 慎吾,  早坂 伊織,  高橋 幸也,  道上 修,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-51
対向ターゲットマグネトロンスパッタ法による大面積SmBa_2Cu_3O_<7-δ>薄膜の作製に関する研究

高橋 幸也,  武蔵 慎吾,  木村 豊,  菊地 新司,  道上 修,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-52
粉体型磁性木材の構造と電波吸収特性(4)

佐藤 光治,  岡 英夫,  浪崎 安治,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-53
左手系媒質によるボウル型レンズ

米澤 隆一,  大坊 真洋,  田山 典男,  

[発表日]2006/7/31
[資料番号]CPM2006-54
複写される方へ

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[発表日]2006/7/31
[資料番号]
Notice about Photocopying

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[発表日]2006/7/31
[資料番号]
奥付

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[発表日]2006/7/31
[資料番号]