Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
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CPM2011-109
複合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製と構造評価
○横本拓也・前田洋輔・宮澤 匠・山上朋彦・阿部克也（信州大）
pp. 1 - 4
CPM2011-110
低電圧駆動フレキシブル有機EL素子のためのITO薄膜の検討
○劉 暢・松井博章・木伏貴映・清水英彦・岩野春男・福嶋康夫・永田向太郎・坪井 望・野本隆宏（新潟大）
pp. 5 - 9
CPM2011-111
RF-DC結合形スパッタ法による室温成膜AZO薄膜の特性
○樫出 淳・名越克仁・富口祐輔・清水英彦・岩野春男・川上貴浩・永田向太郎・福嶋康夫・坪井 望・野本隆宏（新潟大）
pp. 11 - 15
CPM2011-112
Bi2Sr2CaCu2Oxスタックからのテラヘルツ波検出法に関する研究
○加藤孝弘・浅野武史・須永 悟（長岡技科大）・川上 彰（NICT）・安井寛治・濱崎勝義（長岡技科大）
pp. 17 - 22
CPM2011-113
MOVPE法による中間組成域n-InAlN/p-InGaNヘテロ接合の作製
○堀田 徹・杉田憲一・A. G. Bhuiyan・橋本明弘・山本あき勇（福井大）
pp. 23 - 26
CPM2011-114
MOCVD法によるInGaN膜を被覆した高耐食性固体高分子形燃料電池用ステンレス鋼板製セパレータ
○嶋橋政徳（アイテック）・松井和也（福井大）・岡田晃治（アイテック）・杉田憲一（福井大）・佐々木 肇（アイテック）・山本アキ勇（福井大）
pp. 27 - 30
CPM2011-115
光化学堆積法による新たな混晶半導体CuxZnyS薄膜の作製
○満 都拉・市村正也（名工大）
pp. 31 - 36
CPM2011-116
遷移金属を含有した低純度Si基板を用いた太陽電池の試作
○武田大樹・都築 暁・籾山克章・鹿又健作・鈴木貴彦・廣瀬文彦（山形大）
pp. 37 - 39
CPM2011-117
NiSi相の形成とCuコンタクトへの適用
○武山真弓・佐藤 勝・野矢 厚（北見工大）
pp. 41 - 45
CPM2011-118
SiCコーティングしたグラファイト触媒を用いたSiC薄膜の作製
○坂口優也・牛草遼平・周 澤宇・山上朋彦・阿部克也（信州大）
pp. 47 - 50
CPM2011-119
TEOSを原料とするCVD法によるSiO2/SiC MOS構造の作製
○逸見充則・井口裕哉・酒井崇史・杉田暁彦・山上朋彦・林部林平・上村喜一（信州大）
pp. 51 - 54
CPM2011-120
MOVPE法によるSi(111)基板上への中間組成InGaN膜の成長
○三原章宏・杉田憲一・Ashraful G. Bhuiyan・橋本明弘・山本あき勇（福井大）・渡邉則之・重川直輝（NTT）
pp. 55 - 58
CPM2011-121
NH3分解触媒を用いたInNのMOVPE成長
○廣長大造・杉田憲一・A.g. Bhuiyan・橋本明弘・山本あき勇（福井大）
pp. 59 - 62
注： 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり，推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります．