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平成22年6月度SDM研究会
開催のお知らせ
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★シリコン材料・デバイス研究会（SDM）
専門委員長：渡辺 重佳　副委員長：杉井 寿博
幹事：安斎 久浩・遠藤 哲郎　幹事補佐：大西 克典・小野 行徳

★共催：応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 表面・界面・シリコン材料研究委員会

下記要領にて、6月度SDM研究会を開催いたします。

■テーマ：「ゲート絶縁膜、容量膜、機能膜およびメモリ技術」

■日程：2010年6月22日（火）

■会場：東京大学　駒場リサーチキャンパス生産技術研究所
An棟中セミナー室 （An401・402）
〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1

キャンパスMAPは以下でご覧いただけます。
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/campusmap.html
また、会場へのアクセスについては、下記のURLをご参照下さい。
http://www.iis.u-tokyo.ac.jp/access/access.html

■開催プログラム
http://www.ieice.org/ken/program/index.php?tgid=SDM

■照会先：
宮崎誠一（広島大学 大学院先端物質科学研究科）
E-mail: semiya[atmark]hiroshima-u.ac.jp
〒739-8530東広島市鏡山１丁目３−１
Phone:082-424-7656，Fax:082-422-7038

■ご参加について：
第一種研究会ですので参加費は無料、予稿集は別売です。事前の参加申込は必要
ありません。

■SDM研究会からのお知らせ：
SDM(シリコン材料・デバイス)研究専門委員会では、研究会に投稿された論文の
中から、特に優秀でオリジナリティのある論文を電子情報通信学会和文論文誌に
正論文として推薦することができます。従って、研究会に投稿した論文をそのま
ま、あるいは若干の改訂を加えて和文論文誌に投稿でき、査読を通った通常の論
文として発表できることになります。和文論文誌への推薦を希望される方は、講
演申し込み時に、申し込みフォーマットの最後の欄の、「和文論文誌への推薦の
希望」に有と記入し、上記問い合わせ先宛お申し込みください。候補論文として
ノミネートさせていただき、専門委員会で審議させていただきます。