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平成18年10月電子情報通信学会
SDM研究会
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専門委員長　浅野 種正　　副委員長　杉井 寿博
幹事　大野 守史， 川中 繁
幹事補佐　松井 裕一

【テーマ】
「プロセスクリーン化と新プロセス技術」

【開催日】
2006年 10月5日(木)～2006年 10月6日(金)

【開催場所】
東北大学未来科学技術共同研究センター

◆プログラム◆

■平成18年10月5日午後

1) 13:00-13:30
次世代半導体製造プロセスにおける金属不純物汚染制御－新規材料元素の拡散挙動予測－
○嶋崎綾子、桜井宏紀、吉村玲子（㈱東芝）、多田宰（東芝リサーチ・コンサルティング㈱）、伊藤隆司（東北大学） ㈱東芝　セミコンダクター社 嶋崎　綾子

2) 13:30-14:00
大規模アレイTEGにより評価した低ビットエラーのKr/O2/NOトンネル酸窒化膜の形成
諏訪智之、熊谷勇喜、寺本章伸、須川成利、大見忠弘（東北大学） 東北大学未来科学技術共同研究センター 諏訪　智之

3) 14:00-14:30
Dielectric Breakdown Simulation by Using Molecular Dynamics and Tight-Binding Quantum Chemistry Methods
Zhu Zhigang、Chutia Arunabhiram、Tsuboi Hideyuki、Koyama Michihisa、Endou Akira、Takaba Hiromitsu（東北大学）、Kubo Momoji（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Del Carpio Carlos、Miyamoto Akira （東北大学） Department of Applied Chemistry, Tohoku University Zhu Zhigang

4) 14:30-15:00
Si(100),(110)面上の極薄Si3N4-Si界面構造とその電気的特性
○荒谷崇、樋口正顕、濱田龍文、寺本章伸、服部健雄、須川成利、大見忠弘（東北大学）、品川誠治、野平博司（武蔵工業大学）、池永英司（高輝度光科学研究センター） 東北大学工学研究科技術社会システム専攻 荒谷　崇

5) 15:00-15:30
オゾン酸化によるCVD-SiO2膜の高密度化
○河瀬和雅、野田清治（三菱電機㈱） 三菱電機（株）先端技術総合研究所 河瀬　和雅

休憩

6) 15:45-16:15
HfSiON絶縁膜を用いたメタルゲートCMOSプロセスの検討
井上真雄、坂下真介、水谷斉治、東雅彦、武島豊、山成真市、林岳、西田征男、志賀克哉、川原孝昭、由上二郎、吉村秀文 (㈱ルネサステクノロジ） ㈱ルネサス テクノロジ 生産本部　ウエハプロセス技術統括部 プロセス開発部 井上　真雄

7) 16:15-16:45
混晶化によるPtSiの仕事関数変調
○大見俊一郎、澤熊悠、大熊直樹（東京工業大学）東京工業大学　大学院総合理工学研究科 物理電子システム創造専攻 大見　俊一郎

8) 16:45-17：15
高速化量子分子動力学法によるアナターゼ型TiO2のキャリア移動度の予測
○扇谷恵、坪井秀行、古山通久、遠藤明、高羽洋充（東北大学）、久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ、Del Carpio Carlos、宮本明（東北大学） 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻宮本研究室 扇谷　恵

9) 17:15-17:45
Theoretical study on the electrical properties of conducting carbon based materials
○Chutia Arunabhiram、Zhu Zhigang、Tsuboi Hideyuki、Koyama Michihisa、Endou Akira 、Hiromitsu Takaba（東北大学）、Kubo Momoji （東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Del Carpio Carlos A.、Miyamoto Akira（東北大学） Department of Applied Chemistry, Tohoku University Chutia Arunabhiram

10) 17:45-18:15
A Theoretical Approach for Developing New p-Type Transparent Conducting Materials
○呂晨、Agalya Govindasamy、坪井秀行、古山通久、遠藤明、高羽洋充（東北大学）、久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Carlos A. Del Carpio、宮本明（東北大学） " 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻　宮本研究室 呂　晨

18:30-20:00 懇親会

■平成18年10月6日午前

1) 9:30-10:00
A Theoretical Study on the Photophyscial Properties of Black Dye Sensitizer for Nanocrystalline TiO2-Based Solar Cells
○Agalya Govindasamy、呂晨、坪井秀行、古山通久、遠藤明、高羽洋充（東北大学）、久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Carlos A. Del Carpio、宮本明（東北大学） 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻　宮本研究室 Agalya Govindasamy

2) 10:00-10:30
希土類蛍光体の理論設計のための新規計算手法の開発と青色蛍光体BaMgAl10O17:Eu2+の電子状態計算への応用
○大沼宏彰、坪井秀行:つぼいひでゆき:東北大院工、古山通久、遠藤明、高羽洋充（東北大学）、久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Del Carpio Carlos、宮本明（東北大学） 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻　宮本研究室 大沼　宏彰

3) 10:30-11:00
希土類系材料に対する電子数拘束アルゴリズムの開発と量子分子動力学計算への応用
○遠藤明、大沼宏彰、坪井秀行、古山通久、高羽洋充（東北大学）、久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Carlos A. Del Carpio、宮本明（東北大学） " 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻　宮本研究室 遠藤　明

4) 11:00-11:30
プラズマディスプレイ用MgO保護膜の構造破壊ダイナミクスと再結晶化プロセス
○久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、菊地宏美、坪井秀行、古山通久、遠藤明、高羽洋充、Carlos A. Del Carpio、宮本明（東北大学） 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻 久保　百司

5) 11:30-12:00
ダイヤモンドライクカーボンの成長と構造特性の分子動力学シミュレーション
○柴田俊明、高橋周子、三浦隆治、坪井秀行、古山通久、遠藤明、高羽洋充（東北大学）、久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Del Carpio Carlos、宮本明（東北大学） " 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻　宮本研究室 柴田　俊明

昼食

■平成18年10月6日午後

6) 13:00-13:30
電気伝導度推算シミュレータの各種半導体デバイス材料への応用およびWiedemann-Franz則による熱伝導度推算手法の開発
○坪井秀行、鈴木豪人、扇谷恵、Chutia Arunabhiram、朱志剛、呂晨、古山通久、遠藤明、高羽洋充（東北大学）、久保百司（東北大学、科学技術振興機構さきがけ）、Carlos A. Del Carpio、宮本明（東北大学） 東北大学大学院工学研究科応用化学専攻 坪井　秀行

7) 13:30-14:00
High Performance and Highly Reliable Novel CMOS Devices　Using Accumulation Mode Fully Depleted SOI MOSFETs
○W. Cheng, A. Teramoto, R. Kuroda, P. Gaubert, C. Tye, M. Hirayama，S. Sugawa and T. Ohmi（東北大学） 東北大学未来科学技術共同研究センター Weito Cheng

8) 14:00-14:30
微細MOSトランジスタ特性の統計的ばらつき評価手法に関する研究
○阿部健一、渡部俊一、須川成利、寺本章伸、大見忠弘（東北大学） 東北大学工学研究科技術社会システム専攻 阿部　健一

9) 14:30-15:00
パターンラフネスと露光条件との関係
○青山肇、有田寿之貴、浅井了（富士通）、伊藤隆司（東北大学） "㈱半導体先端テクノロジーズ 青山　肇

休憩

10) 14:15-15:45
塩素ガスエッチングによる微細MOSダマシンゲートプロセス
○杉野林志(東北大学、SPANSION Inc.)、伊藤隆司（東北大学） SPANSION Inc. Rinji Sugino

11) 15:45-16:15
2段シャワープレート型マイクロ波プラズマエッチャーを用いた多層膜の連続エッチ ング
○池永和幸、後藤哲也、寺本章伸、平山昌樹（東北大学）、野沢俊久（東京エレクトロン㈱）、大見忠弘（東北大学） 東北大学未来科学技術共同研究センター 池永　和幸

12) 16:15-16:45
RLSAマイクロ波プラズマ源の安定性向上
○石橋清隆、田才忠、野沢俊久（東京エレクトロン㈱） 東京エレクトロン（株）RLSAプラズマプロジェクト 石橋　清隆

13) 16:45-17:15
陽極酸化によるアルミニウム表面への不動態膜形成技術
河瀬康弘（三菱化学）、北野真史（東北大学）、佐伯雅之（日本軽金属）、水谷文一（三菱化学）、白井泰雪、大見忠弘（東北大学） 三菱化学（株）黒崎事業所 河瀬　康弘

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