講演名 2009-05-22
蒸着重合法によるフッ素系高分子薄膜の形成と反射防止膜への応用(有機材料・薄膜・界面・デバイス/フィルムベースデバイスのための界面制御とプロセス技術)
細田 泰弘, 村岡 祐司, 藤井 隆志, 森井 辰輔, 田中 邦明, 臼井 博明,
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抄録(和) 光学素子の反射防止コーティングへの応用を目的として、電子アシスト蒸着重合法を用いてフッ素系高分子薄膜を形成した。2-(Perfluorodecyl)ethyl acrylate(Rf-10)を単独で電子アシスト蒸着した結果、屈折率1.36のフッ素系高分子薄膜が得られ、ガラス表面に厚さ100nmの膜を形成することで反射率を1%以下に低減することができた。次に膜のガラス転移温度を上昇させる目的でRf-10とZinc-acrylateあるいはDodecafluoro-1,9-decadieneの共蒸着膜を形成した。共蒸着によって架橋構造が形成され、Rf-10単独蒸着膜に比較して熱的安定性が向上した。しかしながら膜の屈折率はRf-10単独蒸着膜より増大した。
抄録(英) Electron-assisted physical vapor deposition polymerization was employed to prepare fluoropolymer thin films for antireflective coating. Single-component thin films prepared by depositing 2-(perfluorodecyl)ethyl acrylate (Rf-10) yielded fluoropolymer thin films having refractive index of 1.36. This film deposited on glass substrate to a thickness of 100nm reduced its reflectivity to less than 1%. With a purpose to increase the glass transition temperature of the film, Rf-10 was coevaporated with either Zinc-acrylate or Dodecafluoro-1,9-decadiene. The coevaporation induced crosslinking of the polymer and was effective to improve thermal stability of the film. However, it also resulted to increase the refractive index.
キーワード(和) 反射防止膜 / 屈折率 / フッ素系高分子 / 電子アシスト蒸着重合 / 架橋
キーワード(英) antireflective coating / reflactive index / fluoropolymer / electron-assisted deposition polymerization / crosslinking
資料番号 OME2009-9
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2009/5/15(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 蒸着重合法によるフッ素系高分子薄膜の形成と反射防止膜への応用(有機材料・薄膜・界面・デバイス/フィルムベースデバイスのための界面制御とプロセス技術)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Physical Vapor Deposition of Fluoropolymer Thin Films and Their Characteristics as Antireflective Coating
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 反射防止膜 / antireflective coating
キーワード(2)(和/英) 屈折率 / reflactive index
キーワード(3)(和/英) フッ素系高分子 / fluoropolymer
キーワード(4)(和/英) 電子アシスト蒸着重合 / electron-assisted deposition polymerization
キーワード(5)(和/英) 架橋 / crosslinking
第 1 著者 氏名(和/英) 細田 泰弘 / Yasuhiro HOSODA
第 1 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学府
Graduate School of Engineering, Tokyo University of Uglyculture and Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 村岡 祐司 / Yuji MURAOKA
第 2 著者 所属(和/英) 株式会社小松ライト製作所
KOMATSU LITE MFG. Co., Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 藤井 隆志 / Takashi FUJITA
第 3 著者 所属(和/英) 株式会社小松ライト製作所
KOMATSU LITE MFG. Co., Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) 森井 辰輔 / Shinsuke MORII
第 4 著者 所属(和/英) 株式会社小松ライト製作所
KOMATSU LITE MFG. Co., Ltd.
第 5 著者 氏名(和/英) 田中 邦明 / Kuniaki TANAKA
第 5 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学府
Graduate School of Engineering, Tokyo University of Uglyculture and Technology
第 6 著者 氏名(和/英) 臼井 博明 / Hiroaki USUI
第 6 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学府
Graduate School of Engineering, Tokyo University of Uglyculture and Technology
発表年月日 2009-05-22
資料番号 OME2009-9
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 48
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日