| 講演名 | 2016-01-28 プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 曲 勇作(高知工科大), 戸田 達也(高知工科大), 牧野 久雄(高知工科大), 古田 守(高知工科大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | EID2015-31 |
| 発行日 | 2016-01-21 (EID) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID / ITE-IDY / IEE-EDD / SID-JC / IEIJ-SSL |
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| 開催期間 | 2016/1/28(から2日開催) |
| 開催地（和） | 富山大学 |
| 開催地（英） | Toyama Univ. |
| テーマ（和） | 発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会 |
| テーマ（英） | Joint Meeting of Emissive / Non-Emissive Displays |
| 委員長氏名（和） | 志賀 智一(電通大) / 別井 圭一(日立) |
| 委員長氏名（英） | Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) / Keiichi Betsui(Hitachi) |
| 副委員長氏名（和） | 木村 睦(龍谷大) / 小南 裕子(静岡大) |
| 副委員長氏名（英） | Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) / Yuko Kominami(Shizuoka Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 伊達 宗和(NTT) / 山口 雅浩(東工大) / 中村 篤志(静岡大) |
| 幹事氏名（英） | Munekazu Date(NTT) / Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) / Atsushi Nakamura(Shizuoka Univ.) |
| 幹事補佐氏名（和） | 山口 留美子(秋田大) / 新田 博幸(ジャパンディスプレイ) / 中田 充(NHK) / 小尻 尚志(日本ゼオン) / 野中 亮助(東芝) / 奥野 武志(Samsung R&D Inst. Japan) |
| 幹事補佐氏名（英） | Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Hiroyuki Nitta(Japan Display) / Mitsuru Nakata(NHK) / Takashi Kojiri(ZEON) / Ryosuke Nonaka(Toshiba) / Takeshi Okuno(Samsung) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electronic Information Displays / Technical Group on Information Display / Technical Group on Electron Devices / Society for Information Display Japan Chapter / * |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | プラズマ処理による低抵抗IGZO領域の形成とセルフアライン型TFTへの応用 |
| サブタイトル（和） | プラズマ処理時の基板バイアスの効果 |
| タイトル（英） | Plasma treatment for source/drain regions of self-aligned InGaZnO thin-film transistors |
| サブタイトル（和） | Effects of substrate bias during the plasma treatment of IGZO. |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 曲 勇作 / Yusaku Magari |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 高知工科大学(略称：高知工科大) Kochi University of Technology(略称：Kochi Univ. of Technol.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 戸田 達也 / Tatsuya Toda |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 高知工科大学(略称：高知工科大) Kochi University of Technology(略称：Kochi Univ. of Technol.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 牧野 久雄 / Hisao Makino |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 高知工科大学(略称：高知工科大) Kochi University of Technology(略称：Kochi Univ. of Technol.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 古田 守 / Mamoru Furuta |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 高知工科大学(略称：高知工科大) Kochi University of Technology(略称：Kochi Univ. of Technol.) |
| 発表年月日 | 2016-01-28 |
| 資料番号 | EID2015-31 |
| 巻番号（vol） | vol.115 |
| 号番号（no） | EID-439 |
| ページ範囲 | pp.41-44(EID), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2016-01-21 (EID) |