エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:2012/11/30)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]2012/11/30
[資料番号]
目次

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[発表日]2012/11/30
[資料番号]
超高耐圧SiC PiNダイオードの作製と低オン抵抗化(シリコン関連材料の作製と評価)

梶 直樹,  丹羽 弘樹,  須田 淳,  木本 恒暢,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-115
塩素系ガスによるSiCのプラズマレス・エッチング(シリコン関連材料の作製と評価)

畑山 智亮,  堀 良太,  田村 哲也,  矢野 裕司,  冬木 隆,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-116
電子線照射によるSiCの正孔の各種散乱機構の変化(シリコン関連材料の作製と評価)

村田 耕司,  森根 達也,  松浦 秀治,  小野田 忍,  大島 武,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-117
4H-SiC(11-20)面上に形成したMOS界面へのリン導入による界面準位密度の低減効果(シリコン関連材料の作製と評価)

梅澤 奈央,  矢野 裕司,  畑山 智亮,  冬木 隆,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-118
イオン液体BMIM-PF_6イオンビーム照射によるガラス基板の表面改質(シリコン関連材料の作製と評価)

竹内 光明,  濱口 拓也,  龍頭 啓充,  高岡 義寛,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-119
直鎖炭化水素イオンビームによるシリコン表面照射効果の分子量依存性(シリコン関連材料の作製と評価)

今中 浩輔,  竹内 光明,  龍頭 啓充,  高岡 義寛,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-120
DNAを用いたメモリトランジスタのキャリア挙動の検討(シリコン関連材料の作製と評価)

前野 尚子,  松尾 直人,  山名 一成,  部家 彰,  高田 忠雄,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-121
ポータープロテインによる金ナノ粒子配置プロセスとそのプラズモン特性(シリコン関連材料の作製と評価)

西城 理志,  石河 泰明,  鄭 彬,  山下 一郎,  浦岡 行治,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-122
薄膜トランジスタによるニューラルネットワーク : 非対称回路での動作確認(シリコン関連材料の作製と評価)

木村 睦,  山口 裕貴,  森田 竜平,  藤田 悠佑,  宮谷 友彰,  笠川 知洋,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-123
薄膜フォトトランジスタを用いた周波数変調方式の人工網膜(シリコン関連材料の作製と評価)

門目 尭之,  松村 篤,  東山 剛士,  大山 翔平,  木村 睦,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-124
デバイスシミュレーションによるアモルファス酸化物半導体における劣化現象の理論的解析(シリコン関連材料の作製と評価)

浦川 哲,  上岡 義弘,  山崎 はるか,  石河 泰明,  浦岡 行治,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-125
低価格に適したX線検出素子(Silicon Drift Detector)の提案(シリコン関連材料の作製と評価)

岡田 亮太,  松谷 一輝,  松浦 秀治,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-126
ナノスケールウエットエッチング法を用いたSi極浅接合の深さ方向ホトルミネセンス分析(シリコン関連材料の作製と評価)

村井 剛太,  奥谷 真士,  田川 修治,  吉本 昌広,  Woo Sik,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-127
レーザードーピングで形成したエミッタ層及びセレクティブエミッタ層の深さ制御とその太陽電池特性(シリコン関連材料の作製と評価)

田中 成明,  西村 英紀,  冬木 隆,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-128
テクスチャシリコンへのレーザードーピングにおける基板-ドーパント間の界面制御による電子状態の改善(シリコン関連材料の作製と評価)

西村 英紀,  田中 成明,  森崎 翔太,  湯本 伸伍,  冬木 隆,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-129
レーザードーピング法を用いたn型単結晶シリコン太陽電池の高効率化(シリコン関連材料の作製と評価)

森崎 翔太,  西村 英紀,  杉村 恵美,  冬木 隆,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-130
連続発振レーザーにより形成した電極下高濃度不純物層を有する結晶系シリコン太陽電池の最適化(シリコン関連材料の作製と評価)

湯本 伸伍,  西村 英紀,  平田 憲司,  杉村 恵美,  冬木 隆,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-131
MOS構造を有する太陽電池による変換効率の向上(シリコン関連材料の作製と評価)

小林 孝裕,  松尾 直人,  部家 彰,  

[発表日]2012/11/30
[資料番号]SDM2012-132
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