エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:1997/01/24)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1997/1/24
[資料番号]
目次

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[発表日]1997/1/24
[資料番号]
ギガビットスケールDRAM用TiN/Ti-CVDコンタクト技術

大音 光市,  占部 耕児,  田桑 哲也,  隣 真一,  吉川 公麿,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-206
CVD-TiN/Tiバリアメタルのコンタクトプラグプロセスへの応用

森 健壹,  前川 和義,  広瀬 幸範,  大崎 明彦,  益子 洋治,  平山 誠,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-207
多結晶シリコンとアルミ置換による微細配線技術

堀江 博,  今井 雅彦,  伊藤 昭男,  有本 由弘,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-208
Al合金/Ti構造における下地絶縁膜表面粗さのAl配向性への影響

成田 匡,  戸内 謙信,  橋本 圭市,  鉄田 博,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-209
CuCVDプロセスの現状と課題

粟屋 信義,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-210
高信頼性銅一マグネシウム合金配線技術

海原 竜,  竹脇 利至,  大見 忠弘,  新田 雄久,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-211
0.15μm CMOS用CoSi_2サリサイド技術

井上 顕,  三ヶ木 郁,  安彦 仁,  吉川 公麿,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-212
Si-CH_3結合を含む低誘電率層間絶縁膜の形成

伊藤 仁,  奈良 明子,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-213
有機成分制御によるSOG平坦化特性の改善

斉藤 政良,  平沢 賢斉,  加藤 聖隆,  小林 伸好,  高松 朗,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-214
イオン注入SOG膜のCMPプロセスへの適用

岡山 芳央,  井上 恭典,  水原 秀樹,  谷本 伸一,  辻村 和俊,  渡辺 裕之,  花房 寛,  吉年 慶一,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-215
酸化膜CMPにおける面内均一性向上技術の開発 : エアー加圧方式キャリアーとパッド加圧リングの開発

西尾 幹夫,  村上 友康,  佐竹 光成,  真弓 周一,  

[発表日]1997/1/24
[資料番号]SDM96-216
[OTHERS]

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[発表日]1997/1/24
[資料番号]