エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日：1994/04/21)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1994/4/21
[資料番号]
目次

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[発表日]1994/4/21
[資料番号]
[CATALOG]

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[発表日]1994/4/21
[資料番号]
Si(111)表面酸化のTDS観察

伊藤 文則,  渡部 宏治,  平山 博之,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-1
プレオキサイドを介した水素終端Si(111)面の初期酸化過程

関川 宏昭,  大石 和明,  野平 博司,  服部 健雄,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-2
水素終端Si(100)-2×1表面の初期酸化過程とその界面構造

相場 武,  山内 賢,  清水 雄一,  楯 直人,  片山 正健,  服部 健雄,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-3
Ta/Si系におけるシリサイド形成初期過程の検討

中西 太一,  野矢 厚,  武山 真弓,  佐々木 克孝,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-4
プラズマ励起水素によるタングステン膜の形成

高来 照雄,  稲葉 佳秋,  河野 貴之,  齋藤 洋司,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-5
原子状水素照射によるシリコン表面吸着フッ素の脱離促進現象

齋藤 洋司,  岡田 実,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-6
TDSを用いたO_2+H_2Oダウンフローのコロージョン抑制機構の検討

小尻 英博,  松尾 二郎,  渡辺 孝二,  中村 守孝,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-7
ウェットプロセスにおける金属不純物のSi表面への付着メカニズムと付着防止技術

森永 均,  陶山 誠,  能勢 昌之,  大見 忠弘,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-8
有機物汚染のないシリコンウェハ表面洗浄技術

米川 直道,  安井 信一,  大見 忠弘,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-9
The Formation of Terraces and Steps on Si(100) Surfaces and the Change of these Surfaces during Wet Processing

,  二ツ木 高志,  大見 忠弘 /,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-10
酸化膜中に捕獲された正孔の緩和現象

カジ D.M.コースル,  谷口 研二,  浜口 智尋,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-11
微細コンタクトホール底Si表面自然酸化膜の制御

中森 雅治,  青砥 なほみ,  五十嵐 信行,  石田 宏一,  寺岡 有殿,  西山 岩男,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-12
超熱エネルギーCl_2ビームによるSi(100)の並進エネルギー誘起エッチング

寺岡 有殿,  西山 岩男,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-13
低圧CVD-Si_3N_4薄膜内のスピン中心 : 電荷獲捕中心の検討

神垣 良昭,  横川 賢悦,  加藤 久幸,  南 眞一,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-14
SIMOX基板におけるSi/SiO_2界面のモホロジー

石山 俊彦,  永瀬 雅夫,  村瀬 克実,  

[発表日]1994/4/21
[資料番号]SDM94-15
[OTHERS]

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[発表日]1994/4/21
[資料番号]