エレクトロニクス-シリコン材料・デバイス(開催日:1993/10/29)

タイトル/著者/発表日/資料番号
表紙

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[発表日]1993/10/29
[資料番号]
目次

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[発表日]1993/10/29
[資料番号]
水素リモートプラズマアフターグローによる有機金属錯体からの銅薄膜の堆積と評価

青木 徹,  /,  中西 洋一郎,  畑中 義式,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-118
リモートプラズマによる有機シリコンからのSiCの堆積

,  / 中西 洋一郎,  中村 高遠,  畑中 義式,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-119
マイクロ波プラズマMOVPE法によるナイトライド系化合物半導体の作製と評価

山村 俊己,  加藤 治,  遠藤 英樹,  山野 博文,  伊藤 進夫,  吉田 明,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-120
スーパーマグネトロンプラズマCVD法作製DLC膜の物性評価

本多 將宏,  木下 治久,  野村 秀二,  立田 利明,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-121
分子軌道法を用いたa-Si:Hにおける光誘起構造変化の検討

吉田 明,  村主 一仁,  中ノ瀬 宏一,  小川 博司,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-122
新型・低損傷 高速RFダウンフローアッシャーの開発

松井 孝行,  小林 元樹,  金森 順,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-123
NH_3添加H_2O/TEOSプラズマCVDによる層間絶縁膜形成

佐藤 淳一,  室山 雅和,  川島 淳志,  鬼頭 英至,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-124
イオン性ラジカルの選択抽出と表面過程

光岡 義仁,  菅井 秀郎,  市原 勝太郎,  安田 修朗,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-125
ヘリコン波酸素プラズマ中正負イオンの時間分解分析

三重野 哲,  加茂 俊洋,  庄司 多津男,  門田 清,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-126
LIFによるプラズマ中酸素ラジカルの絶対密度定量 : 酸素プラズマ中酸素ラジカルの圧力依存性とAr添加効果

宇井 明生,  松井 功,  中村 善昭,  大嶺 俊光,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-127
酸素プラズマ流における励起酸素原子の密度

,  畑中 義式,  

[発表日]1993/10/29
[資料番号]SDM93-128
[OTHERS]

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[発表日]1993/10/29
[資料番号]