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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2023-07-31
16:10
北海道 北見工業大学
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]プラズマ表面改質によるフッ素樹脂の直接接着・めっき技術
小林靖之池田慎吾阪産技研CPM2023-16
フッ素樹脂は,耐薬品性,耐熱性に優れることから,自動車,半導体,医薬品,食品,建材など多くの産業分野で利用が拡大している... [more] CPM2023-16
pp.17-20
OME 2021-12-24
16:25
ONLINE オンライン開催 [招待講演]物理蒸着によるフッ素系高分子薄膜形成と光学応用
臼井博明東京農工大OME2021-34
フッ素系高分子薄膜は低屈折率,低誘電率,低損失,低表面エネルギーなど特徴的な物性を持つが,難溶性であることや環境負荷が大... [more] OME2021-34
pp.32-37
SDM 2021-10-21
10:45
ONLINE オンライン開催 [招待講演]シリコン酸化膜とシリコン窒化膜の信頼性に及ぼすフッ素の影響の相違
三谷祐一郎東京都市大SDM2021-44
本論文では、ナノエレクトロニクスで幅広く用いられているシリコン酸化膜およびシリコン窒化膜へのフッ素導入の影響に関して、実... [more] SDM2021-44
pp.1-4
EE, OME, CPM
(共催)
2019-11-26
13:00
東京 機械振興会館 地下3階1号室 CNTガス透過電極を有するポリイミド湿度センサの高速化のための膜厚及びポリイミド材料の検討
畑山 誠伊東栄次信州大EE2019-42 CPM2019-84 OME2019-28
本研究ではガス透過性に優れた多層カーボンナノチューブ(CNT)を上部電極とした含フッ素ポリイミドを感湿層とした容量式ポリ... [more] EE2019-42 CPM2019-84 OME2019-28
pp.35-40
EE, CPM, OME
(共催)
2018-11-22
09:25
東京 機械振興会館 地下三階 B3-6 フッ素ドープ系B型炭酸アパタイトの酸化物イオン伝導特性に及ぼすアニオン組成の影響
高畑 潤菅野康仁田中優実東京理科大EE2018-34 CPM2018-62 OME2018-22
B型炭酸アパタイト(BCA;[Ca10-xNa2x/3][(PO4)6-x(CO3)x][(H2O)x(OH)2-x/3... [more] EE2018-34 CPM2018-62 OME2018-22
pp.47-49
LSJ
(共催)
OFT, OCS
(併催) [詳細]
2017-09-01
15:55
北海道 北海道大学 リングコア型Aeff拡大ファイバとフッ素添加クラッド標準Aeffファイバとの低損失融着接続
鈴木雅人田村欣章山本義典長谷川健美住友電工OCS2017-35
実効断面積(Aeff)が148 µm2に拡大されたファイバと,標準的なAeff(83 µm2)のファ... [more] OCS2017-35
pp.67-72
EMCJ, WPT, PEM
(併催)
2016-11-24
11:55
東京 機械振興会館 低誘電率フッ素系樹脂基板を用いた高性能ミリ波帯アンテナ電極光変調器
井上敏之池田隆志村田博司塩見英久岡村康行阪大)・木谷聡志住友電工プリントサーキット)・中林 誠住友電工ファインポリマー)・村田和夫住友電工
我々の研究グループは,かねてから,マイクロ波帯・ミリ波帯無線信号を,外部電源なしで直接光信号に変換することができるアンテ... [more]
ED, SDM
(共催)
2016-03-03
15:15
北海道 北海道大学百年記念会館 Formation of fluorine-doped tin oxide nanostructures by using spray pyrolysis deposition technique
Kenji MurakamiAjith BandaraMasayuki OkuyaMasaru ShimomuraShizuoka Univ.)・R.m.g. RajapakseUniv. PeradeniyaED2015-123 SDM2015-130
透明導電膜として利用されているフッ素を添加した酸化スズ(FTO)の一次元ナノ構造化を目指している。FTOナノチューブまた... [more] ED2015-123 SDM2015-130
pp.13-18
CPM, OPE, LQE, R, EMD
(共催)
2015-08-27
11:00
青森 青森県観光物産館アスパム ゲート絶縁膜中フッ素による高信頼性a-InGaZnO TFTの実現
山﨑はるか石河泰明藤井茉美ジョアン パウロ ベルムンド奈良先端大)・高橋英治安東靖典日新電機)・浦岡行治奈良先端大R2015-24 EMD2015-32 CPM2015-48 OPE2015-63 LQE2015-32
近年、透明アモルファス酸化物半導体であるa-InGaZnO (a-IGZO)を用いた薄膜トランジスタ(TFT)は、次世代... [more] R2015-24 EMD2015-32 CPM2015-48 OPE2015-63 LQE2015-32
pp.9-11
OME, SDM
(共催)
2015-04-29
17:05
沖縄 大濱信泉記念館多目的ホール フッ素による酸化物In-Ga-Zn-O薄膜トランジスタの欠陥終端効果と信頼性に及ぼす影響
古田 守ジャン ジンシン辰岡玄悟王 大鵬高知工科大SDM2015-8 OME2015-8
本研究では酸化物In-Ga-Zn-O薄膜トランジスタ(IGZO TFT)におけるフッ素による欠陥終端効果とその信頼性影響... [more] SDM2015-8 OME2015-8
pp.31-34
EID, SID-JC
(共催)
ITE-IDY
(連催) [詳細]
2014-07-29
14:30
東京 機械振興会館 [依頼講演]塗布型有機トランジスタ駆動によるフレキシブル有機ELディスプレイの開発
水上 誠奥 慎也時任静士山形大
フレキシブル有機ELディスプレイはフレキシブルの特徴を忠実に実現できるものとして期待されている。本研究では塗布型有機トラ... [more]
OME, OPE
(共催)
2012-11-16
13:05
東京 機械振興会館 傾斜機能を持つフッ素系蒸着重合膜による反射防止効果
泉田和夫ミクロ技研)・松田 剛河西 匠田中邦明臼井博明東京農工大OME2012-55 OPE2012-127
2-(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート(Rf-6)モノマーを,Arイオンアシストによる蒸着重合(IAD)法により... [more] OME2012-55 OPE2012-127
pp.1-5
ED 2012-04-18
14:15
山形 山形大学工学部 百周年記念会館大会議室 熱硬化型フッ素系高分子ゲート絶縁膜を用いた高分子TFTの高性能化
南木 創山形大)・伊藤昌宏旭硝子)・奥 慎也福田憲二郎熊木大介水上 誠時任静士山形大ED2012-4
有機半導体薄膜の結晶性や配向性は基板の表面エネルギーに強く依存し,基板に疎水化処理を施すことで移動度が大きく増加すること... [more] ED2012-4
pp.15-18
OPE, OFT
(共催)
2012-03-02
10:30
東京 機械振興会館 ブリルアン散乱信号を用いたポリマー光ファイバの特性評価
水野洋輔東工大)・フィリップ レンケカテリナ クレバードイツ連邦材料試験研)・中村健太郎東工大OFT2011-75 OPE2011-201
光ファイバ中のブリルアン散乱は、歪/温度分布センサをはじめとする様々なデバイス・システムに応用されている。また、ポリマー... [more] OFT2011-75 OPE2011-201
pp.15-18
EMD, CPM, OME
(共催)
2011-06-30
15:30
東京 機械振興会館 イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の密着性改善
泉田和夫松田 剛田中邦明臼井博明東京農工大EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
ドライプロセスによる新たなフッ素系高分子膜形成技術として,イオンアシスト蒸着重合法を開発した.イオン照射によって基材表面... [more] EMD2011-15 CPM2011-51 OME2011-29
pp.41-46
OFT 2011-05-27
10:25
鹿児島 屋久島環境文化村センター ポンプ・プローブ法を用いたポリマー光ファイバ中の誘導ブリルアン散乱の観測
水野洋輔東工大)・岸 眞人保立和夫東大)・石榑崇明慶大)・中村健太郎東工大OFT2011-11
光ファイバ中のブリルアン散乱は、歪/温度分布センサをはじめとする様々なシステムに応用されている。また、ポリマー光ファイバ... [more] OFT2011-11
pp.49-54
CPM 2010-10-28
17:30
長野 信州大学 工学部 地域共同研究センター3階研修室 MCR-CVD法によるフッ素フリータングステン成長
渡邉雄仁柴田 明鹿又健作鈴木貴彦廣瀬文彦山形大CPM2010-98
LSIプラグ配線用金属であるタングステンは、これまで六フッ化タングステンを原料として水素の還元を利用した化学気相堆積法で... [more] CPM2010-98
pp.39-42
OME 2010-10-22
13:25
東京 NTT武蔵野研究開発センター イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製
松田 剛東京農工大)・泉田和夫住友精密工業)・田中邦明臼井博明東京農工大OME2010-47
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた.基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化... [more] OME2010-47
pp.5-10
OCS, OFT
(併催)
2010-08-26
17:45
北海道 旭川ときわ市民ホール ポリマー光ファイバ中のブリルアン散乱
水野洋輔中村健太郎東工大OCS2010-44
ブリルアン散乱は、光ファイバ中の重要な非線形現象の一つであり、光増幅やスローライト発生、温度/歪センシングなど多方面で応... [more] OCS2010-44
pp.47-52
SDM 2010-06-22
12:05
東京 東京大学(生産研An棟) 分子軌道法によるGe(100)表面終端元素の検討
DongHun Lee金島 岳奥山雅則阪大SDM2010-39
Siより高い移動度を持つGeは高性能メモリデバイスになる次世代半導体材料として注目されている。しかし、Geは界面準位が多... [more] SDM2010-39
pp.33-37
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