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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM, ED, LQE
(共催)
2022-11-24
16:25
愛知 ウインクあいち(愛知県産業労働センター)(名古屋)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
AlN/AlGaN/GaN MISデバイスにおけるAlN/AlGaN界面制御層の効果
デン ユウチェン穴場 響松山秀幸鈴木寿一北陸先端大ED2022-39 CPM2022-64 LQE2022-72
 [more] ED2022-39 CPM2022-64 LQE2022-72
pp.69-72
SDM, ED, CPM
(共催)
2022-05-27
17:05
ONLINE オンライン開催 多端子ホール素子によるオーミック金属下半導体の特性評価法
瓜生和也北陸先端大/アドバンテスト研)・木内翔太北陸先端大)・佐藤 拓アドバンテスト研)・鈴木寿一北陸先端大ED2022-15 CPM2022-9 SDM2022-22
一般に, オーミック金属下半導体の電気的特性は, オーミックコンタクト形成前から変化している. これまでに, オーミック... [more] ED2022-15 CPM2022-9 SDM2022-22
pp.35-38
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-26
13:50
ONLINE オンライン開催 Interface charge engineering in normally-off AlTiO/AlGaN/GaN field-effect transistors
Duong Dai NguyenTakehiro IsodaYuchen DengToshi-kazu SuzukiJAISTED2021-30 CPM2021-64 LQE2021-42
 [more] ED2021-30 CPM2021-64 LQE2021-42
pp.71-74
ED 2016-07-23
14:25
東京 首都大学東京 南大沢キャンパス 国際交流会館 大会議室 AlTiO/AlGaN/GaN金属-絶縁体-半導体デバイスにおけるローレンツ型低周波ノイズ
鈴木寿一Son Phuong Le宇井利昌Tuan Quy NguyenHong-An Shih北陸先端大ED2016-28
 [more] ED2016-28
pp.5-9
ED 2015-07-24
14:30
石川 ITビジネスプラザ武蔵研修室1(金沢市武蔵町) AlN/AlGaN/GaN金属-絶縁体-半導体デバイスにおける低周波ノイズ
鈴木寿一Son Phuong LeTuan Quy NguyenHong-An Shih北陸先端大ED2015-39
 [more] ED2015-39
pp.15-20
ED 2013-08-08
15:30
富山 富山大学工学部 大会議室 [招待講演]容量-周波数-温度マッピングによるGaN系金属-絶縁体-半導体デバイスの解析
鈴木寿一Hong-An Shih工藤昌宏北陸先端大ED2013-40
 [more] ED2013-40
pp.15-18
ED 2013-08-08
16:20
富山 富山大学工学部 大会議室 スパッタリング堆積BN膜のAlGaN/GaN金属-絶縁体-半導体ヘテロ接合電界効果トランジスタへの応用
山本裕司Tuan Quy NguyenHong-An Shih工藤昌宏鈴木寿一北陸先端大ED2013-41
 [more] ED2013-41
pp.19-23
LQE, OPE
(共催)
2013-06-21
14:00
東京 機械振興会館 GaAs基板上メタモルフィックInAlAsによるMSM型光検出器のGHz応答
前北和晃丸山武男飯山宏一金沢大)・鈴木寿一北陸先端大OPE2013-10 LQE2013-20
GaAs基板上にメタモルフィック結晶成長させたInAlAs層を用いたMSM光検出器を作製し,波長0.8 $mu$m帯での... [more] OPE2013-10 LQE2013-20
pp.19-22
ED 2012-07-26
14:20
福井 福井大学 文京キャンパス産学官連携本部3F研修室 Temperature dependence of frequency dispersion in $C$-$V$ characteristics of AlN/AlGaN/GaN MIS-HFET
Hong-An ShihMasahiro KudoToshi-kazu SuzukiJAISTED2012-43
 [more] ED2012-43
pp.11-15
ED 2011-07-29
14:20
新潟 長岡技術科学大学マルチメディアシステムセンター Characterization of sputtered AlN amorphous films and their applications to AlGaN/GaN MIS-HFET
Hong-An ShihMasahiro KudoMasashi AkaboriToshi-kazu SuzukiJAISTED2011-39
 [more] ED2011-39
pp.13-16
ED 2011-07-29
15:45
新潟 長岡技術科学大学マルチメディアシステムセンター GaAs(001)上のAlNスパッタ堆積およびAl2O3原子層堆積における表面前処理の効果
工藤昌宏Hong-An Shih赤堀誠志鈴木寿一北陸先端大ED2011-42
 [more] ED2011-42
pp.25-30
ED 2010-06-17
13:25
石川 北陸先端大 フレキシブル基板上InAs超薄膜の作製と評価
滝田隼人橋本紀彦工藤昌宏赤堀誠志鈴木寿一北陸先端大ED2010-34
格子不整成長した狭ギャップ化合物半導体のエピタキシャルリフトオフ-van der Waals貼付(van der Waa... [more] ED2010-34
pp.5-9
ED 2010-06-17
14:25
石川 北陸先端大 AlGaN/GaNヘテロ接合電界効果トランジスタにおける自己発熱による電子速度低下率の解析
鈴木寿一田中成明北陸先端大ED2010-36
AlGaN/GaN ヘテロ接合電界効果トランジスタ(HFET) は, 高電流駆動能力・高耐圧に基づく高出力動作が可能な能... [more] ED2010-36
pp.17-20
ED 2009-06-12
09:55
東京 東京工業大学 InGaAs/InP二次元電子移動度の異方性
赤堀誠志北陸先端大/ユーリッヒ研)・Thanh Quang Trinh工藤昌宏北陸先端大)・Thomas SchaepersHilde Hardtdegenユーリッヒ研)・鈴木寿一北陸先端大ED2009-45
 [more] ED2009-45
pp.47-50
SDM, ED
(共催)
2008-07-09
11:15
北海道 かでる2・7(札幌) [招待講演]Narrow-gap III-V Semiconductor Technology: Lattice-Mismatched Growth and Epitaxial Lift-off for Heterogeneous Integration
Toshi-kazu SuzukiJAISTED2008-40 SDM2008-59
Narrow-gap III-V semiconductors, such as InAs, InGaAs/InAlAs... [more] ED2008-40 SDM2008-59
pp.3-8
ED 2008-06-13
13:00
石川 金沢大学 角間キャンパス SiN/AlN積層構造によるAlGaN/GaNヘテロ接合電界効果トランジスタの表面パッシベーション
田中成明北陸先端大)・住田行常河合弘治パウデック)・鈴木寿一北陸先端大ED2008-22
サファイア基板上のAlGaN/GaNヘテロ接合電界効果トランジスタに対して, AlN単層, SiN単層, さらにSiN超... [more] ED2008-22
pp.1-4
ED 2008-06-14
10:15
石川 金沢大学 角間キャンパス エピタキシャルリフトオフ-van der Waals貼付によるInAs薄膜の異種材料融合集積
滝田隼人工藤昌宏田中成明鈴木寿一北陸先端大ED2008-35
InAsの異種材料融合集積に向けて,InAs薄膜のエピタキシャルリフトオフ(ELO)およびSiO$_2$/Si基板上への... [more] ED2008-35
pp.73-76
ED 2007-06-15
14:25
富山 富山大学 InAs薄膜のエピタキシャルリフトオフとSiO2/Siウェハへのvan der Waals貼付
滝田隼人Jeong Yonkil有田潤哉鈴木寿一北陸先端大ED2007-34
分子線エピタキシー法によって成長したInAs トップ層/AlAs 犠牲層/InAs バッファ層/GaAs(001) 格子... [more] ED2007-34
pp.17-20
ED 2007-06-16
10:35
富山 富山大学 AlNターゲットを用いたRFマグネトロンスパッタによるAlGaN/GaNヘテロ接合電界効果トランジスタの表面パッシベーション
田中成明北陸先端大)・住田行常パウデック)・鈴木寿一北陸先端大ED2007-43
AlGaN/GaNヘテロ接合電界効果トランジスタ(HFET)に対するAlNを用いた表面パッシベーションの検討を行った. ... [more] ED2007-43
pp.67-70
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