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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2013-11-15 13:25 |
東京 | 早稲田大学 | 電気化学的手法による超高記録密度強磁性ナノドットアレイの形成及び析出挙動の解析 ○ヴォダルツ ジギー・間庭佑太・萩原弘規・大谷智博・西家大貴（早大）・Giovanni Zangari（ヴァージニア大）・本間敬之（早大）  MR2013-20 |
電解析出法とリソグラフィによりhcp-Co80-Pt20及びL10-Fe-Ptの薄膜とナノドットアレイをhcp-Ru(0... [more] | MR2013-20 pp.7-10 |
| EST, MWP, OPE, MW, EMT, IEE-EMT (共催) [詳細] |
2013-07-18 11:25 |
北海道 | 稚内総合文化センター | 放射光エッチングによる180GHz帯テフロン導波管の試作と評価 ○岸原充佳（岡山県立大）・木戸秀樹・山口明啓・内海裕一・太田 勲（兵庫県立大） MW2013-64 OPE2013-33 EST2013-28 MWP2013-23 |
本論文は，放射光直接エッチング，金属のスパッタ蒸着，電解めっきのプロセスを経て行う180GHz帯テフロン(PTFE)導波... [more] | MW2013-64 OPE2013-33 EST2013-28 MWP2013-23 pp.103-108 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2013-07-12 14:15 |
東京 | 中央大学 | 電気化学的手法により形成した超高記録密度強磁性ナノドットアレイの初期析出過程の解析及び特性評価 ○ヴォダルツ ジギー・間庭佑太・萩原弘規・本間敬之（早大） MR2013-8 |
我々は，電気化学的手法である電解析出法とリソグラフィ技術を用いて，ビットパターンメディア（BPM）への応用を目的とした強... [more] | MR2013-8 pp.13-17 |
| IT, ISEC, WBS (共催) |
2013-03-08 11:45 |
大阪 | 関西学院大学 大阪梅田キャンパス | レジスト倒壊パターンを用いたナノ人工物メトリクス ○松本 勉・花木健太・鈴木僚介・関口大樹（横浜国大）・法元盛久・大八木康之（大日本印刷）・成瀬 誠（NICT）・竪 直也・大津元一（東大） IT2012-96 ISEC2012-114 WBS2012-82 |
人工物の個体に固有の物理的特徴を活用する人工物メトリクスは，物理的特徴の測定がその形成に比べて高精度で行えることを利用し... [more] | IT2012-96 ISEC2012-114 WBS2012-82 pp.217-222 |
| SDM | 2011-12-16 14:00 |
奈良 | 奈良先端科学技術大学院大学 | ゲル－ナノインプリントプロセスによるZnO－2次元フォトニック結晶の作製 ○張 敏・荒木慎司・呂 莉・堀田昌宏・西田貴司・石河泰明・浦岡行治（奈良先端大） SDM2011-140 |
本研究では、プリント技術によるナノ構造体を持った酸化亜鉛（ZnO）形成を目指し、スピンコート法を利用したZnOゲル膜形成... [more] | SDM2011-140 pp.43-46 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM (連催) ICD, CPM (共催) CPSY, RECONF (併催) [詳細] |
2011-11-29 13:00 |
宮崎 | ニューウェルシティ宮崎 | 超微細化を実現する側壁ダブルパターニングのためのレイアウト設計手法 ○児玉親亮・中山幸一・小谷敏也・野嶋茂樹・三本木省次・宮本晋示（東芝） VLD2011-76 DC2011-52 |
光リソグラフィの限界を超えたパターンを露光するために近年様々な技術が提案されており，その代表的なものにダブルパターニング... [more] | VLD2011-76 DC2011-52 pp.141-146 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM (連催) ICD, CPM (共催) CPSY, RECONF (併催) [詳細] |
2011-11-29 17:00 |
宮崎 | ニューウェルシティ宮崎 | ［基調講演］リソグラフィの歴史と今後の展望 ○野嶋茂樹（東芝） VLD2011-81 CPM2011-161 ICD2011-93 CPSY2011-48 DC2011-57 RECONF2011-49 |
リソグラフィ技術は，半導体を微細化するために大きな役割を担ってきた技術の一つである．例えばリソグラフィ工程で用いられる露... [more] | VLD2011-81 CPM2011-161 ICD2011-93 CPSY2011-48 DC2011-57 RECONF2011-49 p.171(VLD), p.65(CPM), p.65(ICD), p.33(CPSY), p.171(DC), p.45(RECONF) |
| OPE, OME (共催) |
2011-11-18 15:00 |
東京 | 機械振興会館 | 周期構造がインプリントされた高分子フィルムの光学基本特性の規格化周期依存性 ○西 勝也（長岡技科大）・岡田 真・松井真二・川月喜弘（兵庫県立大）・小野浩司（長岡技科大） OME2011-62 OPE2011-137 |
ナノインプリント技術における近年の強い興味の一つとして、複屈折や光波の回折を高度に制御するミクロ・ナノ構造を容易に形成で... [more] | OME2011-62 OPE2011-137 pp.25-30 |
| OPE, OME (共催) |
2011-11-18 15:25 |
東京 | 機械振興会館 | ナノインプリント法を用いた段差型有機トランジスタの作製 ○吹山雅浩・山内 博・飯塚正明・酒井正俊・工藤一浩（千葉大） OME2011-63 OPE2011-138 |
有機トランジスタを低駆動電圧、大電流で動作させるためには短チャネル化が有効である。そこで我々は、段差構造を利用することで... [more] | OME2011-63 OPE2011-138 pp.31-36 |
| ED | 2011-10-20 16:45 |
青森 | 八戸ポータルミュージアム はっち | マイクロサイズ電子線筐筒用の電子銃部に関する研究 ○藤野高弘・小池昭史（静岡大）・長尾昌善・吉田知也・西 季（産総研）・村田英一・酒井健太郎（名城大）・根尾陽一郎・青木 徹・三村秀典（静岡大） ED2011-65 |
我々研究グループは電子源と電子光学系を半導体加工技術により同一基板内に作製したマイクロサイズの電子線筐筒（マイクロカラム... [more] | ED2011-65 pp.27-32 |
| PN | 2011-08-01 15:10 |
北海道 | 函館市勤労者総合福祉センター | ［招待講演］GI型コアポリマー光導波路の高速・高密度オンボードインターコネクションへの応用 ○石榑崇明（慶大） PN2011-16 |
光インターコネクション技術は，High-Performance Computers (HPCs)やハイエンドサーバなどの... [more] | PN2011-16 pp.25-30 |
| ED | 2010-10-25 16:35 |
京都 | 宇治おうばくプラザ(京都大学） | 放射角制御可能なマイクロカラム用電子銃の作成と評価 ○藤野高弘・高木康男・小池昭史（静岡大）・長尾昌善・吉田知也（産総研）・村田英一・酒田健太郎（名城大）・根尾陽一郎・青木 徹・三村秀典（静岡大） ED2010-135 |
本研究グループは電子源と電子光学系を半導体加工技術により同一基板内に作製したマイクロサイズの電子線筐筒（マイクロカラム）... [more] | ED2010-135 pp.39-42 |
| OME | 2010-10-22 14:40 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | ラジカル系光硬化樹脂に対するフッ化炭化水素鎖含有吸着単分子膜のはく離特性 ○鴻野晃洋・中川 勝（東北大） OME2010-50 |
光ナノインプリントは，石英ナノモールドを光硬化性樹脂に押し付け，10 nmレベルの微細構造を再現性よく転写する技術である... [more] | OME2010-50 pp.21-25 |
| OME | 2010-10-22 15:40 |
東京 | NTT武蔵野研究開発センター | ソフトリソグラフィを用いた有機薄膜トランジスタ用のソース・ドレイン電極のパターン化の検討 ○浦 裕亮・伊東栄次（信州大） OME2010-52 |
ソフトリソグラフィを用いてトップコンタクト型C60 薄膜トランジスタのソース・ドレイン電極の直接 パターン形成を試みた... [more] |
OME2010-52 pp.33-36 |
| MW | 2010-05-13 16:50 |
兵庫 | 兵庫県立大学 | 放射光直接エッチングによるテフロン導波管BPFの試作と評価 ○岸原充佳（岡山県立大）・池内裕章・村井克弥・内海裕一・河合 正・太田 勲（兵庫県立大） MW2010-19 |
放射光を利用したテフロンの直接加工(エッチング)を行い，その表面に金属の蒸着・メッキをすることで，ミリ波・サブミリ波への... [more] | MW2010-19 pp.29-33 |
| SDM | 2010-02-05 11:20 |
東京 | 機械振興会館 | EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討 ○中村直文・小田典明・曽田栄一・細井信基・側瀬聡文・青山 肇・田中雄介・河村大輔・隣 真一・塩原守雄・垂水喜明・近藤誠一・森 一朗・斎藤修一（半導体先端テクノロジーズ） SDM2009-184 |
本報告においては、EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチ2層デュアルダマシン構造の作製を行い、電気特性の評価を行った... [more] | SDM2009-184 pp.13-18 |
| OPE, EMT, LQE, PN, IEE-EMT (共催) |
2010-01-29 14:25 |
京都 | 京大桂キャンパス、Bクラスター事務管理棟 、大会議室_A会場、桂ラウンジ_B会場 | アルミニウム表面プラズモンカラーフィルタ ○池田直樹・津谷大樹・杉本喜正・小出康夫（物質・材料研究機構）・三浦篤志・井上大介・野村壮士・藤川久喜・佐藤和夫（豊田中研） PN2009-59 OPE2009-197 LQE2009-179 |
本研究では、表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタの開発を目的とし、高いプラズマ周波数を有し比較的微細加工が容易なア... [more] | PN2009-59 OPE2009-197 LQE2009-179 pp.129-132 |
| ED, LQE, CPM (共催) |
2009-11-19 18:00 |
徳島 | 徳島大学（常三島キャンパス・工業会館） | GaN系表面ナノ構造光検出器 ○張 晶・直井美貴・酒井士郎（徳島大）・深野敦之・田中 覚（SCIVAX） ED2009-146 CPM2009-120 LQE2009-125 |
[more] | ED2009-146 CPM2009-120 LQE2009-125 pp.85-89 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2009-11-13 13:45 |
東京 | 早稲田大学 | 1 Tbit/in2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響 ○有明 順・近藤祐治（秋田県産技総研センター）・石尾俊二（秋田大）・本多直樹（東北工大） MR2009-30 |
1 Tbit/in2級のビットパターン媒体(BPM)作製のための作製プロセスや媒体設計上の課題抽出のため，微細磁性ドット... [more] | MR2009-30 pp.7-12 |
| ED | 2009-10-15 13:55 |
福井 | 福井大学 産学官連携本部（旧地域共同研究センター） ３階 研修室 | 静電レンズ一体型FEAの試作と評価 ○田上智也・小池昭文・高木康男（静岡大）・長尾昌善・吉田知也・金丸正剛（産総研）・根尾陽一郎・青木 徹・三村秀典（静岡大） ED2009-117 |
我々はフィールドエミッタアレイ(FEA)を用いたマイクロサイズの電子線顕微鏡の実現を目指している．この実現の為にはFEA... [more] | ED2009-117 pp.7-10 |
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