| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| VLD, DC, RECONF, ICD (共催) IPSJ-SLDM (連催) [詳細] |
2022-11-30 10:45 |
熊本 | 金沢市文化ホール （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 ○野中尚貴・小平行秀（会津大）・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア）  VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 |
製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化に... [more] | VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 pp.127-132 |
| VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM (連催) (併催) [詳細] |
2021-12-02 15:35 |
ONLINE | オンライン開催 | シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 ○小平行秀・中山晴貴・野中尚貴（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 |
半導体プロセスの微細化のために，光リソグラフィ技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウ... [more] | VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 pp.162-167 |
| HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:00 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （開催中止，技報発行あり） |
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-105 HWS2019-78 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-105 HWS2019-78 pp.65-70 |
| HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:50 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （開催中止，技報発行あり） |
リソグラフィホットスポット検出用既存訓練データの修正による訓練データの追加生成 ○片岡 岳・稲木雅人・永山 忍・若林真一（広島市大） VLD2019-107 HWS2019-80 |
半導体製造工程のリソグラフィにおいて発生する，異常な短絡や開放を引き起こす確率の高い回路パターンをホットスポットと呼ぶ．... [more] | VLD2019-107 HWS2019-80 pp.77-82 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2019-11-15 16:35 |
愛媛 | 愛媛県男女共同参画センター | 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 ○小平行秀・東 梨奈（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-53 DC2019-77 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-53 DC2019-77 pp.197-202 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) CPM, ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2018-12-07 14:10 |
広島 | サテライトキャンパスひろしま | 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮・野嶋茂樹（東芝メモリ） VLD2018-70 DC2018-56 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソグ... [more] | VLD2018-70 DC2018-56 pp.209-214 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2018-05-16 15:50 |
福岡 | 北九州国際会議場 | マスク最適化のための2次計画法を用いたピクセルベースOPC手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大） VLD2018-3 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソ... [more] | VLD2018-3 pp.31-36 |
| SDM, EID (共催) |
2017-12-22 10:30 |
京都 | 京都大学 | 薄型結晶シリコン太陽電池に向けたナノインプリントテクスチャの光閉じ込め効果 ○中井雄也・石河泰明・浦岡行治（奈良先端大） EID2017-11 SDM2017-72 |
薄型結晶シリコン太陽電池の実現には光吸収層内での光り閉じ込め効果が重要であり，光の多重反射を目的としたテクスチャを形成す... [more] | EID2017-11 SDM2017-72 pp.1-4 |
| OPE, EST, LQE, EMT, PN, MWP (共催) IEE-EMT (連催) [詳細] |
2017-01-19 15:25 |
三重 | 伊勢市観光文化会館 | Au 2次元回折格子構造による光学素子の作製と光学特性評価 ○山田泰士・元垣内敦司・三宅秀人・平松和政（三重大） PN2016-82 EMT2016-111 OPE2016-157 LQE2016-146 EST2016-121 MWP2016-95 |
Au 2次元回折格子構造を使った光学ミラーの実現のために、電子線リソグラフィ技術とリフトオフ工程を利用して作製し、光学特... [more] | PN2016-82 EMT2016-111 OPE2016-157 LQE2016-146 EST2016-121 MWP2016-95 pp.269-272 |
| OPE | 2016-12-08 14:15 |
沖縄 | 石垣市商工会館（沖縄） | シリコン導波路デバイス特性に及ぼす製造ばらつきの影響 ○堀川 剛（光電子融合基盤技研/産総研）・志村大輔・牛田 淳・蘇武洋平・椎名明美・徳島正敏・鄭 錫煥・木下啓藏・最上 徹（光電子融合基盤技研） |
シリコンフォトニクス技術を用いた光集積回路は，長/短距離の情報伝送の広帯域化を可能にするキーデバイスとして注目されている... [more] | |
| OCS, OPE (共催) |
2015-05-15 16:20 |
東京 | 機械振興会館 | 32×32シリコン細線ノンブロッキング光パス・スイッチ ○谷澤 健・鈴木恵治郎・外山宗博・大塚 実・横山信幸・松麿和幸・関 三好・越野圭二（産総研）・菅谷俊雄（古河電工）・須田悟史・コン グァンウェイ（産総研）・木村俊雄（古河電工）・池田和浩・並木 周・河島 整（産総研） OCS2015-8 OPE2015-8 |
大容量映像情報を低エネルギーで伝送するダイナミック光パスネットワーク実現のために，我々は，シリコンフォトニクス技術を用い... [more] | OCS2015-8 OPE2015-8 pp.33-38 |
| VLD | 2015-03-02 13:00 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | A Fast Lithographic Mask Correction Algorithm ○Ahmd Awad・Atsushi Takahashi（Tokyo Institute of Technology） VLD2014-153 |
As technology nodes downscaling into sub-16 nm regime, the i... [more] | VLD2014-153 pp.1-6 |
| OPE, LQE (共催) |
2014-12-18 11:05 |
東京 | 機械振興会館(12/18)、NTT厚木センタ(12/19) | 光学フィルタへの応用に向けた金属2次元回折格子構造の作製と光学特性評価 ○鬼頭壮宜・元垣内敦司・三宅秀人・平松和政（三重大） OPE2014-141 LQE2014-128 |
従来技術に変わる熱線遮蔽対策として，可視光は透過，赤外光は反射を同時に達成するコールドフィルタを実現するために，金属2次... [more] | OPE2014-141 LQE2014-128 pp.11-14 |
| OPE | 2012-12-21 16:45 |
東京 | 機械振興会館 | オンチップ光回路のためのBCB貼り付けを用いたSi基板上InP薄膜受動素子の特性 ○李 智恩・山原佳晃・渥美裕樹・西山伸彦・荒井滋久（東工大） OPE2012-141 |
Si-LSI上InP系薄膜光集積回路の実現のために、その基本要素である細線導波路とそれを利用した受動素子の設計と作製法の... [more] | OPE2012-141 pp.39-44 |
| PN | 2011-08-01 15:10 |
北海道 | 函館市勤労者総合福祉センター | ［招待講演］GI型コアポリマー光導波路の高速・高密度オンボードインターコネクションへの応用 ○石榑崇明（慶大） PN2011-16 |
光インターコネクション技術は，High-Performance Computers (HPCs)やハイエンドサーバなどの... [more] | PN2011-16 pp.25-30 |
| OME | 2010-03-15 10:50 |
宮城 | 東北大学 | ［招待講演］ナノ粒子分散ハイブリッドポリマーの創成と光学応用 ○杉原興浩・蔡 斌・Elim I. Hendry・戒能俊邦（東北大）・小松京嗣（仙台高専） OME2009-91 |
酸化物ナノ粒子分散ポリマーを新規に創製し、透明性を維持しながら屈折率を制御した。特に従来の有機ポリマー材料では得られない... [more] | OME2009-91 pp.17-22 |
| OFT, OPE (共催) |
2009-03-06 10:35 |
東京 | 機械振興会館 | ドープガラスによるマイクロ原子タグの作製と評価 ○山本直克（NICT）・泉 仁人・藤岡裕己（東京電機大）・赤羽浩一（NICT）・外林秀之（青学大）・高井裕司（東京電機大） OFT2008-90 OPE2008-190 |
情報セキュリティや物資トレーサ応用などを目的とし、本研究では原子種と原子分布をコードとする極微小タグ技術の開発を目指して... [more] | OFT2008-90 OPE2008-190 pp.15-18 |
| PN, OPE, EMT, LQE (共催) |
2009-01-29 08:30 |
京都 | 京都工芸繊維大学（松ヶ崎キャンパス） | 位相マスクを用いたブレーズグレーティングの作製 ○粟津英行（京都工繊大）・金高健二（産総研）・西尾謙三・粟辻安浩・裏 升吾（京都工繊大）・西井準治（産総研） PN2008-42 OPE2008-145 LQE2008-142 |
高生産のブレーズグレーティング作製法として，位相マスクによる干渉露光法を検討している．位相マスクで複数の回折光を生成し，... [more] | PN2008-42 OPE2008-145 LQE2008-142 pp.1-6 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 13:00 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | ［招待講演］高分子導波路を用いた光伝送モジュール ○大津茂実・鈴木俊彦・藤居 徹・谷田和敏・清水敬司・圷 英一（富士ゼロックス） |
我々は、LAMM(Large-area Advanced Micro Molding) 法と名付けた独自の高分子導波路複... [more] | EMD2006-41 CPM2006-71 OPE2006-83 LQE2006-48 pp.87-92 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]