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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM | 2021-03-03 11:30 |
ONLINE | オンライン開催 | 化学溶液析出法によるZnOナノロッド/CuOおよびZnO/Cu₂Oヘテロ接合の作製 ○大本拓馬・寺迫智昭（愛媛大）・矢木正和（香川高専）  CPM2020-64 |
酸化銅（II）(CuO)薄膜と酸化銅（I）(Cu₂O)薄膜が，それぞれpH 10に調整された硝酸銅(II)三水和物を用い... [more] | CPM2020-64 pp.34-37 |
| ED, LQE, CPM (共催) |
2018-11-30 09:50 |
愛知 | 名古屋工業大学 | 化学溶液析出法による無添加及びLi添加CuO薄膜の成長と構造及び電気的特性 岡田英之・○寺迫智昭・五丁健治・林本直也（愛媛大） ED2018-43 CPM2018-77 LQE2018-97 |
硝酸銅(II)三水和物及び硝酸リチウムの混合水溶液を用いた化学溶液析出法(CBD法)によって金(Au)シード層上に無添加... [more] | ED2018-43 CPM2018-77 LQE2018-97 pp.49-54 |
| ED, LQE, CPM (共催) |
2018-11-30 10:25 |
愛知 | 名古屋工業大学 | 化学溶液析出法によるGZOシード層上へのZnOナノロッドの成長とPEDOT:PSS/ZnOナノロッドヘテロ接合の形成 小原翔平・○寺迫智昭・難波 優・橋国直人（愛媛大）・矢木正和（香川高専）・野本淳一・山本哲也（高知工科大） ED2018-44 CPM2018-78 LQE2018-98 |
硝酸亜鉛六水和物とヘキサメチレンテトラミンとの混合水溶液を用いた化学溶液析出法(CBD法)によってイオンプレーティング法... [more] | ED2018-44 CPM2018-78 LQE2018-98 pp.55-60 |
| OME | 2017-12-01 13:30 |
佐賀 | サンメッセ鳥栖 | ［招待講演］イオンプレーティング法GZOシード層上へのZnOナノロッドのCBD成長とZnOナノロッド/PEDOT:PSSヘテロ構造の形成 ○寺迫智昭・大西航揮・小原翔平・福岡良太（愛媛大）・野本淳一・山本哲也（高知工科大） OME2017-43 |
イオンプレーティング法ZnO:Ga（GZO）シード層上に硝酸亜鉛六水和物及びヘキサメチレンテトラミンの混合水溶液を用いた... [more] | OME2017-43 pp.37-42 |
| ED | 2017-04-20 16:40 |
宮城 | 東北大学電気通信研究所 本館 ６階 大会議室 | 柱状TiO2薄膜の光電極を用いた量子ドット増感太陽電池の試作と評価 ○木幡優弥・三浦正範・鹿又健作・久保田 繁・廣瀬文彦・有馬 ボシール アハンマド（山形大） ED2017-8 |
量子ドット増感太陽電池は高効率な低コスト太陽電池として期待されている。 従来の量子ドット増感太陽電池の光電極には微粒子... [more] |
ED2017-8 pp.29-32 |
| CPM | 2016-11-18 13:50 |
石川 | 金沢工大 扇が丘キャンパス | MicroWaveを用いた溶液成長法によるSnS薄膜の作製 ○早川 諒・高野 泰・石田明広（静岡大） CPM2016-62 |
溶液成長法によりスライドガラス上にSnSを堆積させた。溶液は、塩化スズ、アセトン、トリエタノールアミン(TEA)、チオア... [more] | CPM2016-62 pp.5-10 |
| CPM | 2016-11-19 11:15 |
石川 | 金沢工大 扇が丘キャンパス | Microwaveを用いた溶液成長法によるZnO薄膜堆積 ○吉谷地優聴・高野 泰（静岡大） CPM2016-72 |
溶液成長法によりZnO薄膜を堆積させた。基板の処理や反応溶液の加熱にMicrowaveを用いて堆積させたZnO薄膜と、M... [more] | CPM2016-72 pp.55-58 |
| CPM, ED, SDM (共催) |
2016-05-20 09:30 |
静岡 | 静岡大学 工学部 (浜松キャンパス・総合研究棟) | EDTAを錯化剤に用いた溶液成長法によるSnS薄膜堆積 ○神田祐作・高野 泰・石田明広（静岡大） ED2016-21 CPM2016-9 SDM2016-26 |
溶液成長法によりスライドガラス上にSnS薄膜を堆積させた。溶液は、塩化スズ、アセトン、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)... [more] | ED2016-21 CPM2016-9 SDM2016-26 pp.39-42 |
| CPM | 2015-08-10 15:00 |
青森 | 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 | フローセルを用いた溶液成長法によるSnS薄膜の作製 ○早川 諒・高野 泰・石田明広（静岡大） CPM2015-35 |
溶液成長法によりスライドガラス上にSnSを堆積させた。溶液は、塩化スズ、アセトン、トリエタノールアミン、チオアセトアミド... [more] | CPM2015-35 pp.19-22 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2015-05-29 10:55 |
愛知 | 豊橋技科大VBL棟 | 溶液成長法によるSnS堆積量と撹拌の関係 鈴木大司・○高野 泰・石田明広（静岡大） ED2015-32 CPM2015-17 SDM2015-34 |
溶液成長法によりスライドガラス上にSnSを堆積させた。溶液は、塩化スズ、アセトン、トリエタノールアミン、チオアセトアミド... [more] | ED2015-32 CPM2015-17 SDM2015-34 pp.81-84 |
| CPM | 2014-10-24 16:20 |
長野 | 信州大学工学部 地域共同研究センター３階研修 キャンパスマップ17番 | 成長室を用いた溶液成長法によるSnS堆積 山中雄貴・兼森遥平・○高野 泰・石田明広（静岡大） CPM2014-110 |
溶液成長法によりスライドガラス上にSnSを堆積させている。溶液は、塩化スズ、アセン、トリ エタノールアミン、チオアセトア... [more] | CPM2014-110 pp.29-32 |
| CPM | 2014-09-04 14:45 |
山形 | 山形大学工学部百年周年記念会館 セミナールーム1,2,3 | 溶液成長法によるSnSの堆積条件 山中雄貴・兼森遥平・○高野 泰（静岡大） CPM2014-78 |
溶液成長法によりスライドガラス上にSnSを堆積させた。溶液は、塩化スズ、アセトン、トリエタ ノールアミン、チオアセトアミ... [more] | CPM2014-78 pp.17-20 |
| OME, EMD, CPM (共催) |
2014-06-20 15:00 |
東京 | 機械振興会館 | 溶液成長法により作製したn-ZnO/p-CuOヘテロ接合の電気的特性の改善 ～ 中間層挿入と熱処理 ～ ○寺迫智昭・村上聡宏・兵頭 篤・白方 祥（愛媛大） EMD2014-19 CPM2014-39 OME2014-27 |
溶液成長(CBD)法によるn-ZnO/p-CuOヘテロ接合形成時にディップコーティング法ZnO(Dip-coating ... [more] | EMD2014-19 CPM2014-39 OME2014-27 pp.61-66 |
| CPM, ED, SDM (共催) |
2014-05-29 15:15 |
愛知 | 名古屋大学VBL3階 | 溶液成長法によるSnS薄膜堆積 山中雄貴・○高野 泰（静岡大） ED2014-43 CPM2014-26 SDM2014-41 |
溶液成長法によりスライドガラス上にSnSを堆積させた。溶液は、塩化スズ、アセトン、トリエタ ノールアミン、チオアセトアミ... [more] | ED2014-43 CPM2014-26 SDM2014-41 pp.125-128 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2013-06-21 16:15 |
東京 | 機械振興会館 | CuOおよびZnO薄膜の溶液成長とpnヘテロ接合形成 ○寺迫智昭・村上聡宏・北峯誠之（愛媛大）・矢木正和（香川高専）・白方 祥（愛媛大） EMD2013-21 CPM2013-36 OME2013-44 |
塩化亜鉛(ZnCl$_2$)水溶液と塩化銅(CuCl)水溶液を用いた溶液成長法(CBD)によるZnO層上へのCuO層の成... [more] | EMD2013-21 CPM2013-36 OME2013-44 pp.77-82 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2012-06-22 15:35 |
東京 | 機械振興会館 | 塩化亜鉛を原料に用いた溶液成長法によるZnOナノロッドの成長と形状制御 ○寺迫智昭・村上聡宏（愛媛大）・矢木正和（香川高専）・白方 祥（愛媛大） EMD2012-12 CPM2012-29 OME2012-36 |
塩化亜鉛(ZnCl$_2$)水溶液を用いた溶液成長法(CBD: Chemical Bath Deposition)によっ... [more] | EMD2012-12 CPM2012-29 OME2012-36 pp.23-28 |
| ED, CPM, SDM (共催) |
2009-05-14 15:50 |
愛知 | 豊橋技科大サテライトオフィス | A proposal for Highly Transparent Chalcogenide Alloys for Thin-Film-Solar-Cell Applications ○Asraf M. Abdel Haleem・Masaya Ichimura（Nagoya Inst. of Tech.） ED2009-23 CPM2009-13 SDM2009-13 |
Gallium-Indium-sulfide-oxide thin films were deposited onto ... [more] | ED2009-23 CPM2009-13 SDM2009-13 pp.25-30 |
| CPM | 2007-11-17 14:05 |
新潟 | 長岡技術科学大学 | ケミカルバス法によるZnS薄膜の作製 ～ 膜厚の制御 ～ ○上條和隆・小林敏志・坪井 望（新潟大） CPM2007-124 |
アンモニアとヒドラジン一水和物を錯化剤として用いたケミカルバス(CBD)法によってZnS薄膜の作製を行った。このとき、溶... [more] | CPM2007-124 pp.97-101 |
| SDM, ED, CPM (共催) |
2007-05-25 13:30 |
静岡 | 静岡大学 浜松キャンパス | Electrochemical deposition of indium sulfide thin films by periodic pulse-form biasing and their characterization ○Ashraf Mohamed Abdel Haleem・Masaya Ichimura（Nagoya Inst. Technol.） |
[more] | |
| CPM | 2005-11-12 11:20 |
福井 | 福井大学 | ケミカルバス法によるZnS薄膜の作製 ～ ヒドラジン一水和物添加の効果 ～ ○蛭田賢和・小林敏志・坪井 望・金子双男（新潟大） |
硫酸亜鉛とチオ尿素を主成分とする水溶液を用いたケミカルバス法により、ZnS薄膜を石英ガラス基板上に堆積することができた。... [more] | CPM2005-166 pp.21-25 |
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