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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| EMCJ | 2016-11-25 11:20 |
東京 | 機械振興会館 | 負の群遅延特性の広帯域化のための埋め込み型多層F-SIR構造に関する検討 ○佐々木隆司（秋田大）・萓野良樹（電通大）・田中元志（秋田大）  EMCJ2016-91 |
負の群遅延特性を実現する方法として，多層F-SIR構造が提案されたが，負の群遅延発現帯域の広帯域化が求められている．本研... [more] | EMCJ2016-91 pp.19-24 |
| ED | 2014-08-01 14:45 |
東京 | 機械振興会館B3-1室 | GaAs JPHEMT P-Type Cap層によるオフ特性改善 ○竹内克彦・谷口 理・柳田将志（ソニー）・佐々木有司・中村光宏（ソニーセミコンダクタ）・和田伸一（ソニー） ED2014-58 |
低い挿入損失と良好な高調波歪特性により, Junction Pseudomorphic High Electron Mo... [more] | ED2014-58 pp.29-34 |
| ITE-MMS, ITE-CE, MRIS (共催) |
2009-01-15 13:30 |
大阪 | パナソニック 松心会館 | 超高記録密度塗布型磁気記録媒体用Fe16N2超微粒子の開発 ○佐々木勇治・井上鉄太郎・渡辺利幸・土井嗣裕・岸本幹雄（日立マクセル）・奥 隆之・加倉井和久（原子力機構） MR2008-51 |
新しい磁気記録媒体用の磁性粉末としてFe16N2超微粒子を開発した．18nm程度の球状超微粒子であり，表面は酸化物，内部... [more] | MR2008-51 pp.5-9 |
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