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電子部品・材料研究会(CPM) [schedule] [select]
専門委員長 高野 泰 (静岡大)
副委員長 野毛 悟 (沼津高専)
幹事 圓佛 晃次 (NTT), 佐藤 知正 (神奈川大)
幹事補佐 小舘 淳一 (NTT), 岩田 展幸 (日大)

日時 2013年10月24日(木) 13:30 - 17:45
2013年10月25日(金) 09:30 - 12:15
議題 薄膜プロセス・材料、一般 
会場名 新潟大学 駅南キャンパス 「ときめいと」 
住所 〒950-0911 新潟県新潟市中央区笹口1丁目1番地 プラーカ1・2階
交通案内 新潟駅南口から徒歩3分
http://www1.niigata-u.ac.jp/tokimate/access.html
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

10月24日(木) 午後 
13:30 - 17:45
(1) 13:30-13:55 電磁誘起透明化現象を模擬するメタマテリアルにおける電磁波の群速度制御 CPM2013-93 玉山泰宏安井寛治長岡技科大)・中西俊博北野正雄京大
(2) 13:55-14:20 自己発熱がBi-2212固有ジョセフソン接合の発振特性に及ぼす影響 CPM2013-94 西方 翼小瀧侑央加藤孝弘長岡技科大)・石田弘樹富山高専)・末松久幸玉山泰宏長岡技科大)・川上 彰NICT)・安井寛治長岡技科大
(3) 14:20-14:45 パルスレーザー堆積法によるBi系フェライトを用いた人工超格子の作製 CPM2013-95 岩田展幸渡部雄太及川貴大稲葉隆哲大島佳祐山本 寛日大
  14:45-15:00 休憩 ( 15分 )
(4) 15:00-15:25 溶液成長法により作製したPbS薄膜の膜質の成長時間依存性 CPM2013-96 摩須大輝高野 泰石田明広静岡大
(5) 15:25-15:50 溶液成長法を用いたSnS膜の作製 CPM2013-97 山中雄貴高野 泰静岡大
(6) 15:50-16:15 アルコールを原料とした熱CVD法によるCNTの作製 CPM2013-98 久保直希山田渓介山上朋彦上村喜一信州大
  16:15-16:30 休憩 ( 15分 )
(7) 16:30-16:55 金属元素をドープした石英ガラスの紫外光励起よる発光特性の検討 CPM2013-99 野毛 悟沼津高専
(8) 16:55-17:20 低温プロセスによるSiNx膜の特性評価 CPM2013-100 武山真弓佐藤 勝北見工大)・中田義弘小林靖志中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大
(9) 17:20-17:45 Cu表面保護膜としてのAl-Nb合金薄膜の酸化特性 CPM2013-101 野矢 厚武山真弓北見工大
10月25日(金) 午前 
09:30 - 12:15
(10) 09:30-09:55 プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化チタン成膜 CPM2013-102 鹿又健作大場尚志籾山克章鈴木貴彦ボシール アハンマド久保田 繁平原和弘廣瀬文彦山形大
(11) 09:55-10:20 FeおよびFeSi積層膜からの固相反応法によるSi上鉄シリサイド薄膜形成 CPM2013-103 籾山克章鹿又健作有馬ボシールアハンマド久保田 繁廣瀬文彦山形大
(12) 10:20-10:45 Synthesis of Mesoporous Iron Oxide Nano-/Micro-particles and Their Characterization CPM2013-104 Bashir AhmmadKensaku KanomataFumihiko HiroseYamagata Univ.
  10:45-11:00 休憩 ( 15分 )
(13) 11:00-11:25 SiCコーティングフィラメントを用いたHWCVD法によるSiC薄膜の低温形成と構造評価 CPM2013-105 阿部克也小澤勇斗山上朋彦信州大
(14) 11:25-11:50 絶縁膜中に分散させたCNT冷陰極の開発 CPM2013-106 浅田裕司山上朋彦上村喜一信州大
(15) 11:50-12:15 高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製 CPM2013-107 石井琢馬佐藤祐二渡邊貴晴石井 清佐久間洋志宇都宮大

講演時間
一般講演発表 18 分 + 質疑応答 7 分

問合先と今後の予定
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問合先  


Last modified: 2013-08-29 18:17:16


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