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シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)  (検索条件: 2013年度)

「from:2013-10-17 to:2013-10-17」による検索結果

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講演検索結果
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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2013-10-17
14:00
宮城 東北大学未来研 [招待講演]SiCパワーデバイスの開発動向
四戸 孝東芝SDM2013-88
SiCパワーデバイスの研究開発は、市場規模の大きなハイブリッド自動車のモータドライブや太陽光発電のパワーコンディショナー... [more] SDM2013-88
pp.1-4
SDM 2013-10-17
14:50
宮城 東北大学未来研 Electrical Properties and Reliability of Ultrathin HfN Gate Insulator Formed on Si(100) and Si(110)
Nithi AtthiDae-Hee HanShun-ichiro OhmiTokyo Inst. of Tech.SDM2013-89
 [more] SDM2013-89
pp.5-9
SDM 2013-10-17
15:40
宮城 東北大学未来研 Effect of silicon surface roughness on 3-D MOS capacitor with ultrathin HfON gate insulator formed by ECR plasma sputtering
Dae-Hee HanShun-ichiro OhmiTokyo Inst. of Tech.SDM2013-90
 [more] SDM2013-90
pp.11-14
SDM 2013-10-17
16:10
宮城 東北大学未来研 原子レベル平坦化Si表面のキャリアモビリティ特性に基づくマルチゲートMOSFETの構造設計
黒田理人中尾幸久寺本章伸須川成利大見忠弘東北大SDM2013-91
 [more] SDM2013-91
pp.15-20
SDM 2013-10-18
09:30
宮城 東北大学未来研 内部量子効率100%のPD技術とオンチップ高透過積層膜を組み合わせた紫外光高感度・高信頼性Siフォトダイオード
幸田安真黒田理人中尾幸久須川成利東北大SDM2013-92
 [more] SDM2013-92
pp.21-25
SDM 2013-10-18
10:00
宮城 東北大学未来研 窒素添加LaB6薄膜のデバイス応用に関する検討
前田康貴大見俊一郎東工大)・後藤哲也大見忠弘東北大SDM2013-93
低仕事関数を有するLaB6は,窒素を添加することで酸化耐性が向上することが報告されている.本研究では窒素添加したLaB6... [more] SDM2013-93
pp.27-31
SDM 2013-10-18
10:30
宮城 東北大学未来研 バイアス印加硬X線光電子分光法を用いた絶縁膜/Si界面の評価
池野成裕永田晃基明大)・陰地 宏廣沢一郎高輝度光科学研究センター)・小椋厚志明大SDM2013-94
SiO2/Si 構造における界面準位の議論は、トランジスタの設計において最も重要なパラメータの一つである。界面準位の評価... [more] SDM2013-94
pp.33-36
SDM 2013-10-18
11:00
宮城 東北大学未来研 古典的分子動力学計算による物理的プラズマダメージ形成機構の検討 ~ Fin型MOSFETでの欠陥生成機構 ~
江利口浩二松田朝彦中久保義則鷹尾祥典斧 高一京大SDM2013-95
 [more] SDM2013-95
pp.37-40
SDM 2013-10-18
13:00
宮城 東北大学未来研 積層型不揮発性メモリの設計法
渡辺重佳湘南工科大SDM2013-96
 [more] SDM2013-96
pp.41-46
SDM 2013-10-18
13:30
宮城 東北大学未来研 プラズマチャージングダメージがMOSFETのRandom Telegraph Noise特性に及ぼす影響
亀井政幸中久保義則鷹尾祥典・○江利口浩二斧 高一京大SDM2013-97
 [more] SDM2013-97
pp.47-50
SDM 2013-10-18
14:00
宮城 東北大学未来研 MOSFETのサブスレショルド領域におけるRandom Telegraph Noiseの時定数解析
米澤彰浩寺本章伸小原俊樹黒田理人須川成利大見忠弘東北大SDM2013-98
MOSFETのサブスレッショルド領域におけるRandom Telegraph Noise(RTN)の捕獲・放出時定数を多... [more] SDM2013-98
pp.51-56
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