お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催プログラム
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップ  戻る   前のSDM研究会 / 次のSDM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 

★シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
専門委員長 遠藤 哲郎 (東北大)  副委員長 奈良 安雄 (富士通セミコンダクター)
幹事 小野 行徳 (NTT), 野村 晋太郎 (筑波大)
幹事補佐 笹子 佳孝 (日立)

日時 2011年12月16日(金) 10:00~17:20

会場 奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 大講義室(http://www.naist.jp/accessmap/index_j.html)

議題 シリコン関連材料の作製と評価

12月16日(金) 午前 (10:00~17:20)

(1) 10:00 - 10:20
ZnS系無機EL蛍光体の発光特性に対する高圧水蒸気熱処理による効果
○紺谷拓哉・谷口真央・堀田昌宏(奈良先端大)・田口信義(イメージテック)・石河泰明・浦岡行治(奈良先端大)

(2) 10:20 - 10:40
平面電極を用いた分散型無機ELパネルの基本特性
○野中俊宏(龍谷大)・浦岡行治(奈良先端大)・田口信義(イメージテック)・山本伸一(龍谷大)

(3) 10:40 - 11:00
SiO2/p型4H-SiC界面特性におけるPOCl3アニールの効果
○高上稔充・矢野裕司・畑山智亮・冬木 隆(奈良先端大)

(4) 11:00 - 11:20
接合終端構造の改良による15kV級SiC PiNダイオードの実現
○丹羽弘樹・馮 淦・須田 淳・木本恒暢(京大)

(5) 11:20 - 11:40
放電電流過渡分光法を用いた犠牲酸化処理された高純度半絶縁性4H-SiCの欠陥評価
○西川誠二・岡田亮太・松浦秀治(阪電通大)

(6) 11:40 - 12:00
Ti電極上コバルトナノ微粒子の位置選択性制御
○板倉聡之(龍谷大)・山田啓文(京大)・浦岡行治(奈良先端大)・山下一郎(松下電器)・山本伸一(龍谷大)

−−− 昼食 ( 60分 ) −−−

(7) 13:00 - 13:30
[招待講演]Siスパッタエピタキシーによる単結晶Si太陽電池の作製
○葉 文昌(島根大)・方 ユー斌・黄 祥恩(台湾科技大)

(8) 13:30 - 14:00
[招待講演]酸化亜鉛薄膜トランジスタのサブギャップ準位と電気特性・信頼性への影響
○古田 守・島川伸一(高知工科大)

(9) 14:00 - 14:20
ゲル-ナノインプリントプロセスによるZnO-2次元フォトニック結晶の作製
○張 敏・荒木慎司・呂 莉・堀田昌宏・西田貴司・石河泰明・浦岡行治(奈良先端大)

(10) 14:20 - 14:40
Poly-Si TFTによる温度センサ
○田矢 純・椋田朋訓・中島章弘・木村 睦(龍谷大)

(11) 14:40 - 15:00
poly-Si TFTのオーバーシュートドレイン電流の評価とモデリング
○太田俊史・辻 博史・鎌倉良成・谷口研二(阪大)

−−− 休憩 ( 20分 ) −−−

(12) 15:20 - 15:40
レーザー結晶化のプロセスシミュレータの開発 ~ 2次元および3次元シミュレータの開発 ~
○木村 睦・松木邦晃・斎藤龍輔・塚本周史(龍谷大)

(13) 15:40 - 16:00
SiO2/Si界面の固定電荷による影響を低減したX線検出素子の最適な構造の提案
○岡田亮太・西川誠二・松浦秀治(阪電通大)

(14) 16:00 - 16:20
軟X線源を用いた半導体薄膜の低温結晶化技術の開発
○部家 彰・野々村勇希・木野翔太・松尾直人・天野 壮・宮本修治・神田一浩・望月孝晏(兵庫県立大)・都甲 薫・佐道泰造・宮尾正信(九大)

(15) 16:20 - 16:40
長方形断面Siナノワイヤの伝導帯構造の断面形状およびサイズ依存性
○森 誠悟・森岡直也・須田 淳・木本恒暢(京大)

(16) 16:40 - 17:00
DNA電界効果トランジスタの電荷保持特性
○高城祥吾・松尾直人・山名一成・部家 彰・高田忠雄(兵庫県立大)・横山 新(広島大)

(17) 17:00 - 17:20
抵抗変化型メモリ用Pt/NiO/Pt素子におけるフィラメント形成領域の特定とその評価
○岩田達哉・西 佑介・木本恒暢(京大)

一般講演:発表 15 分 + 質疑応答 5 分
招待講演:発表 25 分 + 質疑応答 5 分

◆応用物理学会共催


☆SDM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

2012年2月7日(火)~8日(水) 北海道大学 百年記念会館 [11月15日(火)] テーマ:機能ナノデバイスおよび関連技術
2012年3月5日(月) 機械振興会館  テーマ:配線・実装技術と関連材料技術

【問合先】
小野 行徳(NTT)
Tel 046-240-2641 Fax 046-240-4317
E-mail: o


Last modified: 2011-12-10 22:02:45


ご注意: 迷惑メール対策のためメールアドレスの一部の文字を置換しております.ご了承ください.

[この開催に関する講演論文リストをダウンロードする] ※ こちらのページの最下にあるダウンロードボタンを押してください
 
[研究会資料インデックス(vol. no.ごとの表紙と目次)]
 

[研究会発表・参加方法,FAQ] ※ ご一読ください
 

[SDM研究会のスケジュールに戻る]   /  
 
 トップ  戻る   前のSDM研究会 / 次のSDM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会