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シリコン材料・デバイス研究会(SDM) [schedule] [select]
専門委員長 遠藤 哲郎 (東北大)
副委員長 奈良 安雄 (富士通マイクロエレクトロニクス)
幹事 小野 行徳 (NTT), 大西 克典 (九工大)
幹事補佐 野村 晋太郎 (筑波大)

日時 2010年11月11日(木) 10:00 - 15:30
2010年11月12日(金) 10:30 - 15:55
議題 プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 
会場名 機械振興会館 地下3階 研修-1 
他の共催 ◆応用物理学会共催

11月11日(木) 午前 
10:00 - 11:45
  10:00-10:05 イントロダクトリー・トーク ( 5分 )
(1) 10:05-10:55 [招待講演]2010 SISPADレビュー ○鎌倉良成(阪大)
(2) 10:55-11:45 [招待講演]ばらつき・信頼性シミュレーション技術の最新動向 ~ SISPAD2010併設ワークショップ1のレビュー ~ ○鳥山周一(東芝)
  11:45-13:00 昼食 ( 75分 )
11月11日(木) 午後 
13:00 - 15:30
(3) 13:00-13:50 [招待講演]磁性体メモリ最新動向と多値スピン注入MRAM(MLC-SPRAM) ○石垣隆士・河原尊之・竹村理一郎・小埜和夫・伊藤顕知(日立)・大野英男(東北大)
(4) 13:50-14:40 [招待講演]MOSFETにおけるランダムテレグラフシグナルの統計的評価方法 ○寺本章伸・阿部健一・須川成利・大見忠弘(東北大)
(5) 14:40-15:30 [招待講演]金属電極/高誘電率絶縁膜界面の物理を中心としたHigh-k/Metalゲートスタックの実効仕事関数変調機構の理解 ○細井卓治・佐伯雅之・喜多祐起・奥 雄大・有村拓晃・北野尚武(阪大)・白石賢二・山田啓作(筑波大)・志村考功・渡部平司(阪大)
11月12日(金) 午前 
10:30 - 11:45
(6) 10:30-10:55 高速応答の低ドロップアウト(LDO)レギュレータに関する研究 ○Fouzhiwei Tong・範 公可(電通大)
(7) 10:55-11:20 形状シミュレーションによるSiO2及びSiエッチングのモデル化と、BiCSメモリホールエッチング ○市川尚志・一之瀬大吾・川端研二・玉置直樹(東芝)
(8) 11:20-11:45 自動化超高速化量子分子動力学法の開発とシリコン表面のドライ・ウェットおよびラジカル酸化反応シミュレーション ○坪井秀行・稲葉賢二・伊勢真理子・林 由紀江・鈴木裕佳・佐藤裕美・小原幸子・南雲 亮・三浦隆治・鈴木 愛・畠山 望・遠藤 明・高羽洋充・久保百司・宮本 明(東北大)
  11:45-13:00 昼食 ( 75分 )
11月12日(金) 午後 
13:00 - 15:55
(9) 13:00-13:50 [招待講演]VLSI設計自動化の現状と将来展望 ○高橋篤司(阪大)
(10) 13:50-14:15 インバータセルにおけるSingle-Event-Transientパルス発生のモデリング ○田中克彦・中村英之・上村大樹・竹内 幹・福田寿一・熊代成孝・最上 徹(MIRAI-Selete)
(11) 14:15-14:40 HV-MOSFETのオーバーラップ領域における2次元効果のモデル化 ○田中昭洋・折附泰典・菊地原秀行・三宅正尭・マタウシュ ハンス ユルゲン・三浦道子(広島大)・リウ ヨン・グリーン キース(Texas Instruments)
(12) 14:40-15:05 SPICEモデルを用いた特性合わせ込みにおける誤差指標の提案 ○坂本浩則・飯塚貴弘(ルネサス エレクトロニクス)
(13) 15:05-15:30 シリコンナノワイヤにおけるホール電流のひずみ依存性 ○三成英樹(阪大/JST)・北山達郎・山本将央(阪大)・森 伸也(阪大/JST)
(14) 15:30-15:55 GAA-MOSFETの極限微細化指針の検討 ~ モデルによるサブ30nmチャネルデバイスの実現性に関する考察 ~ ○仲野駿佑・大村泰久(関西大)

講演時間
一般講演発表 20 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会(SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 安斎 久浩(ソニー)
Tel 046-201-3297 Fax046-202-6572
E--mail: Hisahiro.Ansai@jp.sony.com 


Last modified: 2010-10-01 12:02:13


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