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◆JST CREST 「超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成」 共催 1日目のセッション終了後に懇親会を開催いたします。 ★電子デバイス研究会（ED） 専門委員長 前澤 宏一 (富山大) 副委員長 津田 邦男 (東芝) 幹事 鈴木 寿一 (北陸先端大)， 新井 学 (新日本無線) 幹事補佐 東脇 正高 (NICT)， 大石 敏之 (佐賀大) 日時 2017年 4月20日(木) 13：30～17：05 2017年 4月21日(金) 09：00～11：45 会場 東北大学電気通信研究所 ナノスピン実験施設（〒980-8577 仙台市青葉区片平2-1-1．地下鉄「五橋駅」下車。北2番の出入口より地上へ、徒歩約8分．http://www.nanospin.riec.tohoku.ac.jp/access-j.html．医工学研究科 平野 愛弓．022-217-5563） 議題 有機デバイス、酸化物デバイス、一般 4月20日(木) 午後 （13：30～17：05） (1) 13:30 - 13:55 ZrO2界面修飾による色素増感太陽電池の高効率化 ○野口雄祐・鹿又健作・三浦正範・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・廣瀬文彦（山形大） (2) 13:55 - 14:20 屈折率分布の制御による有機薄膜太陽電池のための光反射防止技術 ○久保田 繁・原田佳宜（山形大）・須藤健成（早大）・鹿又健作・有馬ボシールアハンマド（山形大）・水野 潤（早大）・廣瀬文彦（山形大） (3) 14:20 - 14:45 Solution-processed perovskite film for photovoltaic applications ○Teng Ma・Daisuke Tadaki・Michio Niwano・Ayumi Hirano-Iwata（Tohoku Univ.） (4) 14:45 - 15:10 インクジェット印刷法を用いた酸化銅(I)抵抗体の作製 ○松村 叡・泉 小波・吉田泰則・松井弘之・熊木大介・時任静士（山形大） −−− 休憩 （ 15分 ） −−− (5) 15:25 - 15:50 室温原子層堆積法を用いたSnO2膜作製およびデバイス応用 ○齊藤俊介・野老健太郎・鹿又健作・三浦正範・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・廣瀬文彦（山形大） (6) 15:50 - 16:15 フレキシブル無機ELの試作と評価 ○石川 誠・鹿又健作・三浦正範・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・廣瀬文彦（山形大） (7) 16:15 - 16:40 プラズマ法による凸版反転印刷電極の表面処理と有機トランジスタ特性評価 ○圓岡 岳・竹田泰典（山形大）・岡本朋子・片山嘉則（DIC）・福田 貴（東ソー）・熊木大介・松井弘之・泉 小波・時任静士（山形大） (8) 16:40 - 17:05 柱状TiO2薄膜の光電極を用いた量子ドット増感太陽電池の試作と評価 ○木幡優弥・三浦正範・鹿又健作・久保田 繁・廣瀬文彦・有馬 ボシール アハンマド（山形大） 4月21日(金) 午前 （09：00～11：45） (9) 09:00 - 09:25 ［基調講演］半導体微細加工に基づく薬物副作用センサの開発 ○平野愛弓・但木大介・山浦大地・荒木 駿・吉田美優・荒田航平・大堀 健・山本英明・庭野道夫（東北大） (10) 09:25 - 09:50 支持脂質二重膜に再構成したイオンチャネルの膜内分子配向と分子分布 ○手老龍吾・福本幸平・鈴木祐也（豊橋技科大）・吉田美優・平野愛弓・庭野道夫（東北大）・野澤 彰（愛媛大）・戸澤 譲（埼玉大） (11) 09:50 - 10:15 自己組織化単分子膜による自立型脂質二分子膜の膜特性制御 ○山浦大地・但木大介・荒木 駿・吉田美優・荒田航平・大堀 健・山本英明・庭野道夫・平野愛弓（東北大） −−− 休憩 （ 15分 ） −−− (12) 10:30 - 10:55 安定な人工脂質二分子膜形成のためのテーパー構造を有した微細孔をもつ半導体シリコンチップの作製 ○但木大介・山浦大地・荒木 駿・吉田美優・荒田航平・大堀 健・山本英明・庭野道夫・平野愛弓（東北大） (13) 10:55 - 11:20 強磁性体－超伝導体－強磁性体電極で構成される単一電子トランジスタのゲート電圧と外部磁場に対する応答 ○水柿義直・滝口将志・田村伸行・島田 宏（電通大） (14) 11:20 - 11:45 エレクトロスプレー法を用いたナノ微粒子薄膜の形成とデバイス応用 ○佐藤航代・三浦正範・廣瀬文彦（山形大） 一般講演：発表 20 分 ＋ 質疑応答 5 分 ◆JST CREST 「超絶縁性脂質二分子膜に基づくイオン・電子ナノチャネルの創成」 ◎4月20日研究会終了後、懇親会を予定しますのでご参加ください。 ☆ED研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日 5月25日(木)～26日(金) 名古屋大学VBLベンチャーホール (3F) [3月15日(水)] テーマ：結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料)およびその他 【問合先】 鈴木 寿一（北陸先端科学技術大学院大学） TEL : 0761-51-1441 Fax : 0761-51-1455 E-mail :  si   jaist 新井 学（新日本無線株式会社） TEL : 049-278-1441 Fax : 049-278-1269 E-mail :   injr Last modified: 2017-02-27 13:10:19 |
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