4月10日(木) 午後
13:30 - 17:00 |
| (1) |
13:30-13:50 |
ソリューションプラズマ法によるグラフェンの親水化 |
内野聖子・大竹亜紗美・滝澤 登（佐賀大）・中島達朗・松田直樹（産総研）・江良正直・○坂口幸一（佐賀大） |
| (2) |
13:50-14:10 |
ホスホン酸自己組織化単分子膜によるITO電極上でのチトクロームcの固定化と直接電子移動反応 |
○松田直樹・岡部浩隆（産総研） |
| (3) |
14:10-14:40 |
［招待講演］メニスカス力を用いた単結晶シリコン薄膜転写技術とそのデバイス応用 |
○東 清一郎・酒池耕平・赤澤宗樹・中村将吾（広島大） |
| (4) |
14:40-15:00 |
フレキシブルエレクトロニクス創成に向けた金誘起層交換成長法による擬似単結晶Ge/プラスチックの形成 |
○パク ジョンヒョク・宮尾正信・佐道泰造（九大） |
| (5) |
15:00-15:20 |
非晶質Ge薄膜のAu誘起成長に及ぼす電子線照射の影響 |
○茂藤健太・崎山 晋・酒井崇嗣・中嶋一敬・岡本隼人・高倉健一郎・角田 功（熊本高専） |
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15:20-15:30 |
休憩 （ 10分 ） |
| (6) |
15:30-16:00 |
［招待講演］非晶質絶縁体上における大粒径Ge(111)薄膜のAl誘起低温成長 |
○都甲 薫・末益 崇（筑波大） |
| (7) |
16:00-16:20 |
絶縁膜上のAl誘起成長Ge層に与える基板効果とフレキシブル基板応用 |
○大谷直生・都甲 薫・沼田諒平・中沢宏紀（筑波大）・宇佐美徳隆（名大）・末益 崇（筑波大） |
| (8) |
16:20-16:40 |
Al誘起成長法による大粒径Ge/導電膜/ガラス構造の形成 |
○中沢宏紀・都甲 薫（筑波大）・宇佐美徳隆（名大）・末益 崇（筑波大） |
| (9) |
16:40-17:00 |
Si(111)基板上BaSi2エピタキシャル膜の結晶・光学特性評価とガラス基板上への展開 |
○高部涼太・都甲 薫・沼田諒平（筑波大）・原 康祐（名大）・馬場正和・Weijie Du（筑波大）・宇佐美徳隆（名大）・末益 崇（筑波大） |
4月11日(金) 午前
09:00 - 11:30 |
| (1) |
09:00-09:30 |
［招待講演］大粒径薄膜poly-Siを利用したガラス上低温poly-Si TFTの高性能化 |
○原 明人・加茂慎哉・佐々木 駿・目黒達也（東北学院大）・佐藤 旦（広島大）・北原邦紀（島根大） |
| (2) |
09:30-09:50 |
ダブルラインビーム連続発振レーザラテラル結晶化による高性能poly-Si TFT |
○山野真幸・黒木伸一郎・佐藤 旦（広島大）・小谷光司（東北大）・吉川公麿（広島大） |
| (3) |
09:50-10:20 |
［招待講演］多結晶シリコン薄膜の低温成長に関する研究 ～ 高性能フレキシブルディスプレイ実現に向けて ～ |
○河本直哉・只友一行（山口大）・部家 彰・松尾直人（兵庫県立大） |
| |
10:20-10:30 |
休憩 （ 10分 ） |
| (4) |
10:30-10:50 |
O2混合Arスパッタにより室温成膜したSiO2膜の電気特性評価 |
井村公彦・○岡田竜弥・下田清治・杉原弘也・野口 隆（琉球大） |
| (5) |
10:50-11:10 |
BLDAを用いた低温プロセスpoly-Si TFT |
○下田清治・杉原弘也・井村公彦・岡田竜弥・野口 隆（琉球大） |
| (6) |
11:10-11:30 |
ブルーマルチレーザダイオードアニールを施したガラス上Si薄膜の光伝導特性 |
○コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ・知念 怜・杉原弘也・岡田竜弥・野口 隆（琉球大） |
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