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★電子デバイス研究会（ED） 専門委員長 加地 徹 (豊田中研) 副委員長 原 直紀 (富士通研) 幹事 津田 邦男 (東芝)， 須原 理彦 (首都大東京) 幹事補佐 上田 哲三 (パナソニック)， 葛西 誠也 (北大) ★シリコン材料・デバイス研究会（SDM） 専門委員長 遠藤 哲郎 (東北大) 副委員長 奈良 安雄 (富士通セミコンダクター) 幹事 小野 行徳 (NTT)， 野村 晋太郎 (筑波大) 幹事補佐 笹子 佳孝 (日立) 日時 2012年 2月 7日(火) 13：30～17：20 2012年 2月 8日(水) 09：30～14：40 会場 北海道大学 百年記念会館 大会議室（〒060-0808 札幌市北区北8条西5丁目．JR北海道札幌駅下車、徒歩10分．http://www.hokudai.ac.jp/bureau/info-j/hyaku.html．大学院情報科学研究科 葛西誠也．011-706-6509） 議題 機能ナノデバイスおよび関連技術 2月7日(火) 午後 （13：30～17：20） (1) 13:30 - 14:10 ［招待講演］Deterministicドープシリコンデバイスと量子輸送現象 ○品田賢宏・堀 匡寛（早大）・Filipo Guagliardo（ミラノ工科大）・小野行徳（NTT）・熊谷国憲・谷井孝至（早大）・Enrico Prati（CNR） (2) 14:10 - 14:35 第一原理計算によるシリコンナノトランジスタ中の単一リン不純物の電子状態解析 ○葛屋陽平・モラル ダニエル・水野武志・田部道晴（静岡大）・水田 博（北陸先端大/サザンプトン大） (3) 14:35 - 15:00 KFM observation of individual dopant potentials and electron charging ○Roland Nowak・Miftahul Anwar・Daniel Moraru・Takeshi Mizuno（Shizuoka Univ.）・Ryszard Jablonski（Warsaw Univ. of Tech.）・Michiharu Tabe（Shizuoka Univ.） −−− 休憩 （ 15分 ） −−− (4) 15:15 - 15:40 パターン依存酸化法を用いたSi単電子トランジスタの高周波特性 ○竹中浩人・篠原迪人・内田貴史・有田正志（北大）・藤原 聡（NTT）・高橋庸夫（北大） (5) 15:40 - 16:05 InAsナノワイヤMISFETの高周波特性評価 ○渡邉龍郎・乙幡 温・和保孝夫（上智大）・Kai Blekker・Werner Prost・Franz-Josef Tegude（Univ. of Duisburg-Essen） (6) 16:05 - 16:30 共鳴トンネル素子を装荷したアクティブ伝送線路を用いた高次高調波発振器の可能性 ○潘 ケツ・早野一起・森 雅之・前澤宏一（富山大） (7) 16:30 - 16:55 共振構造導入によるグラフェンテラヘルツ増幅器の高利得化 ○高塚裕也・高萩和宏（北大）・佐野栄一（北大/JST）・Victor Ryzhii（会津大/JST）・尾辻泰一（東北大/JST） (8) 16:55 - 17:20 シリコン量子井戸におけるトンネル電流注入発光 ○登坂仁一郎・西口克彦・影島博之・藤原 聡（NTT） 2月8日(水) 午前 （09：30～14：40） (9) 09:30 - 09:55 SPMスクラッチ加工を用いた金属チャネル狭窄過程におけるコンダクタンスの量子化 ○須田隆太郎・大山隆宏・白樫淳一（東京農工大） (10) 09:55 - 10:20 電界放射電流誘起型エレクトロマイグレーション法を用いた直列型ナノギャップの集積化と特性制御 ○伊藤光樹・秋元俊介・白樫淳一（東京農工大） (11) 10:20 - 10:45 MgF_(2)/Feナノドット/MgF_(2)薄膜における電気伝導特性 ○石川琢磨・佐藤栄太・浜田弘一・有田正志・高橋庸夫（北大） −−− 休憩 （ 15分 ） −−− (12) 11:00 - 11:25 外部電圧によりフェルミエネルギー制御した極薄Siのゼーベック係数 ○ファイズ サレ（静岡大/学振）・三輪一聡・池田浩也（静岡大） (13) 11:25 - 11:50 急峻な電流特性のトランジスタを利用した確率共鳴 ○西口克彦・藤原 聡（NTT） −−− 昼食 （ 70分 ） −−− (14) 13:00 - 13:25 単層カーボンナノチューブネットワークにおける一次元伝導特性 ○田中 朋・森 健一郎・佐野栄一・古月文志・Hongwen Yu（北大） (15) 13:25 - 13:50 CNFETにおけるhigh-kゲート絶縁膜界面近傍の電荷分布とその影響 ○鈴木耕佑・大野雄高・岸本 茂・水谷 孝（名大） (16) 13:50 - 14:15 SiN絶縁ゲートGaAsエッチングナノワイヤFETにおける低周波雑音特性の評価と解析 村松 徹・○葛西誠也・谷田部然治（北大） (17) 14:15 - 14:40 光照射局所コンダクタンス変調法を用いたGaAsナノワイヤ3分岐接合デバイスの非線形伝達特性評価と動作機構の検討 ○佐藤将来・村松 徹・葛西誠也（北大） 一般講演：発表 20 分 ＋ 質疑応答 5 分 招待講演：発表 35 分 ＋ 質疑応答 5 分 ☆ED研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日 4月18日(水)～19日(木) 山形大学工学部 百周年記念会館大会議室 [2月15日(水)] テーマ：TFT（有機，酸化物），一般 5月17日(木)～18日(金) 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー [3月14日(水)] テーマ：結晶成長，評価及びデバイス（化合物，Si，SiGe，電子・光材料） 【問合先】 津田 邦男（東芝） TEL : 044-549-2142、FAX : 044-520-1501 E-mail :   o      ba 須原 理彦（首都大） TEL : 042-677-2765 Fax : 042-677-2756 E-mail :        t  上田 哲三（パナソニック) TEL：075-956-8273、FAX：075-956-9110 E-mail：   zo pa  c 葛西 誠也（北大) TEL：011-706-6509、FAX：011-716-6004 E-mail：   irciqe i☆SDM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日 3月5日(月) 機械振興会館 テーマ：配線・実装技術と関連材料技術 4月27日(金)～28日(土) 沖縄県青年会館 [2月10日(金)] テーマ：薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・材料・評価技術および一般 5月17日(木)～18日(金) 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー [3月14日(水)] テーマ：結晶成長，評価及びデバイス（化合物，Si，SiGe，電子・光材料） 【問合先】 小野 行徳(NTT) Tel 046-240-2641 Fax 046-240-4317 E-mail: o       Last modified: 2011-11-18 16:39:33 |
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