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★シリコン材料・デバイス研究会（SDM）
専門委員長　平野博茂 (タワーパートナーズセミコンダクター)　　副委員長　大見俊一郎 (東工大)
幹事　森貴洋 (産総研)，小林伸彰 (日大)
幹事補佐　野田泰史 (パナソニック)，諏訪智之 (東北大)

日時　2021年 1月28日(木)　13：05～17：05

会場オンライン開催

議題先端ＣＭＯＳデバイス・プロセス技術（ＩＥＤＭ特集）

1月28日(木) 午後（13：00～17：05）

−−−　講演に関する注意事項などの説明　（ 5分）　−−−

(1) 13:05 - 13:35
［招待講演］自発分極とトラップ電荷の分離抽出に基づく強誘電HfO2-FeFETにおけるVthウインドウ及び信頼性決定要因の解析
○市原玲華（キオクシア）

(2) 13:35 - 14:05
［招待講演］ダイヤモンド半導体の現状
○梅沢　仁（産総研）

(3) 14:05 - 14:35
［招待講演］CMOS裏面埋設配線による電源供給網と電源容量の形成およびセキュリティ向け三次元積層チップへの応用
○門田和樹（神戸大）

−−−　休憩　（ 30分）　−−−

(4) 15:05 - 15:35
［招待講演］InGaAsコアマルチシェルナノワイヤ/Si接合による垂直ゲートオールアラウンドトンネルFETの作製
○冨岡克広・蒲生浩憲・本久順一・福井孝志（北大）

(5) 15:35 - 16:05
［招待講演］プラズマ曝露中に確率的ラテラル散乱によって導入されるシリコン中の欠陥が超低リーク電流デバイスに与える影響の評価
○佐藤好弘・山田隆善・西村佳壽子・山崎雅之・村上雅史（パナソニック）・占部継一郎・江利口浩二（京大）

(6) 16:05 - 16:35
［招待講演］チャネル薄膜化と(111)面方位の組み合わせによるInAs-On-Insulator nMOSFETのサブバンド制御
○隅田　圭・トープラサートポンカシディット・竹中　充・高木信一（東大）

(7) 16:35 - 17:05
［招待講演］IEDM2020を振り返って
○黒田理人（東北大）

招待講演：発表 25 分＋質疑応答 5 分

◆応用物理学会共催

☆SDM研究会今後の予定　[ ]内発表申込締切日

2月5日(金)　オンライン開催　　テーマ：配線・実装技術と関連材料技術
4月23日(金)～24日(土)　沖縄県青年会館　[2月12日(金)]　テーマ：薄膜（Si,化合物,有機,フレキシブル）機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般

【問合先】
SDM幹事：森貴洋（産業技術総合研究所）
電話 029-849-1149
E-Mail