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★シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
専門委員長 渡辺 重佳 (湘南工科大)
副委員長 杉井 寿博 (富士通マイクロエレクトロニクス)
幹事 川中 繁 (東芝), 安斎 久浩 (ソニー)
幹事補佐 大見 俊一郎 (東工大)

★電子デバイス研究会(ED)
専門委員長 葛原 正明 (福井大)  副委員長 橋詰 保 (北大)
幹事 村田 浩一 (NTT)
幹事補佐 原 直紀 (富士通研), 津田 邦男 (東芝)

日時 2009年 2月26日(木) 13:30~17:20
   2009年 2月27日(金) 09:00~12:10

会場 北海道大学 百年記念会館 大会議室(〒060-0809 札幌市北区北9条西6丁目.JR札幌駅北口から徒歩10分.http://www.hokudai.ac.jp/bureau/info-j/hyaku.html.北海道大学大学院情報科学研究科情報エレクトロニクス専攻 葛西誠也.011-706-6509 or -7171)

議題 機能ナノデバイスおよび関連技術

2月26日(木) 午後 (13:30~17:20)

(1) 13:30 - 14:10
[招待講演]Si基板上に形成したエピタキシャルグラフェンとその電子デバイス応用
○尾辻泰一・末光哲也・姜 顯澈・唐澤宏美・宮本 優・半田浩之・末光眞希(東北大)・佐野栄一(北大)・リズィー マキシム・リズィー ヴィクトール(会津大)

(2) 14:10 - 14:35
マンガンをイオン注入したSOI層の磁気特性
○宮崎康晶(NTT/慶大)・小野行徳・影島博之・永瀬雅夫・藤原 聡(NTT)・太田英二(慶大)

(3) 14:35 - 15:00
マグネタイト/インジウム砒素ヘテロ構造の作製とスピン注入への応用
○江尻剛士・J. バベシュ バブ・陽 完治(北大)

(4) 15:00 - 15:25
有機金属気相選択成長によるInPナノワイヤの成長と構造相転移
○北内悠介・本久順一・小林靖典・福井孝志(北大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(5) 15:40 - 16:05
Field Emitter Arrayの高機能化とその応用
○根尾陽一郎・武田匡史・田上智也・堀江 瞬・青木 徹・三村秀典(静岡大)・吉田知也・長尾昌善・金丸正剛(産総研)

(6) 16:05 - 16:30
入力離散化器付き単一電子トランジスタおよびターンスタイルの特性
○滝口将志・速水翔太・大塚正喜・河合章生・守屋雅隆・小林忠行・島田 宏・水柿義直(電通大)

(7) 16:30 - 16:55
共鳴トンネル素子を用いた超高速コンパレータ
○江幡友彦・大前宇一郎・町田和也・和保孝夫(上智大)

(8) 16:55 - 17:20
AlNセラミック基板上に集積した共鳴トンネルペア発振器
○前澤宏一(富山大)・亀谷直樹・岸本 茂・水谷 孝(名大)・赤松和弘(日鉱金属)

2月27日(金) 午前 (09:00~12:10)

(9) 09:00 - 09:25
電界放射電流誘起型エレクトロマイグレーション法による単電子トランジスタの作製
○友田悠介・久米 彌・花田道庸・高橋佳祐・白樫淳一(東京農工大)

(10) 09:25 - 09:50
Si細線に作製したダブルドット単電子トランジスタの特性
○曹 民圭・開澤拓弥・有田正志(北大)・藤原 聡(NTT)・高橋庸夫(北大)

(11) 09:50 - 10:15
シリコンナノワイヤpMOSFET及び室温動作単正孔トランジスタにおける一軸歪みの効果
○鄭 然周・Chen Jiezhi・更屋拓哉・平本俊郎(東大)

(12) 10:15 - 10:40
GaAsナノワイヤ3分岐接合デバイスの動作特性評価と解析
○中田大輔・アブドゥール ラーマン シャハリン ファズリ・白鳥悠太(北大)・葛西誠也(北大/JST)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(13) 10:55 - 11:20
磁束と電荷を結ぶ新しい機能デバイスの開拓
○雨宮好仁・高橋庸夫(北大)

(14) 11:20 - 11:45
GaAsナノワイヤネットワークを用いたナノデバイス集積系による確率共鳴の発現と解析
○葛西誠也(北大/JST)・浅井哲也・白鳥悠太・趙 洪泉(北大)

(15) 11:45 - 12:10
高効率熱電変換デバイス用シリコンナノ構造の熱電特性
○池田浩也・ファイズ サレ・浅井清涼・石田明広(静岡大)



☆SDM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

4月24日(金) 産総研九州センター大会議室 [2月21日(土)] テーマ:薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術および一般
5月14日(木)~15日(金) 豊橋技科大サテライトオフィス [3月19日(木)] テーマ:結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)

【問合先】
川中繁 (東芝)
TEL 045-776-5670, FAX 045-776-4104
E-mail geba

☆ED研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

4月23日(木)~24日(金) 東北大学電気通信研究所 [2月22日(日)] テーマ:TFT(有機、酸化物)、一般
5月14日(木)~15日(金) 豊橋技科大サテライトオフィス [3月19日(木)] テーマ:結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)

【問合先】
村田 浩一(NTT)
TEL:046-240-2871、FAX:046-270-2872
E-mail: aecl
原 直紀 (富士通研究所)
TEL : 046-250-8242、FAX : 046-250-8168
E-mail : o
津田 邦男(東芝)
TEL : 044-549-2142、FAX : 044-520-1501
E-mail : oba


Last modified: 2008-12-16 16:16:50


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