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電子部品・材料研究会（CPM） [schedule] [select]
専門委員長 野毛 悟 (沼津高専)
副委員長 廣瀬 文彦 (山形大)
幹事 小舘 淳一 (NTT)， 岩田 展幸 (日大)
幹事補佐 坂本 尊 (NTT)， 中村 雄一 (豊橋技科大)

日時 2016年10月 5日(水)　13:05 - 16:20
議題 光記録技術・電子材料、一般 
会場名 機械振興会館 
住所 東京都港区芝公園3-5-8
交通案内 東京メトロ日比谷線 神谷町駅下車 徒歩8分

10月5日(水) 午後 
13:00 - 16:20
  13:00-13:05 開会挨拶　（ 5分 ）
(1) 13:05-13:30 金属層をインターカレートした二層グラフェンの作製と電気特性 ○倉金夏己・星野　崚・櫻井亮太・山岸多門・永田知子・岩田展幸・山本　寛（日大）
(2) 13:30-13:55 自由電子レーザー照射下で成長させた単層カーボンナノチューブのカイラリティ制御及び電気特性 ○保延賢人・川口大貴・石川翔梧・永田知子・岩田展幸・山本　寛（日大）
(3) 13:55-14:20 Si基板上へのMnGa(001)配向膜の作製とイオン照射による磁気パターニング ○石川　徹・根来　翼・福田憲吾・大島大輝・加藤剛志・岩田　聡（名大）
(4) 14:20-14:45 有機金属分解法を用いたMo置換Coフェライトの作製と評価 ○猪狩知樹・目黒　燎（長岡技科大）・柳原英人・喜多英治（筑波大）・石橋隆幸（長岡技科大）
  14:45-15:05 休憩　（ 20分 ）
(5) 15:05-15:30 磁気ホログラムの回折効率向上に向けた磁気アシスト記録条件の検討 ○白樫　善・河津航大・後藤太一・高木宏幸・中村雄一・林　攀梅・内田裕久・井上光輝（豊橋技科大）
(6) 15:30-15:55 磁性ガーネット/SiO2多層膜構造を用いた体積磁気ホログラムの特性改善 ○河津航大・白樫　善・後藤太一・高木宏幸・中村雄一・林　攀梅・内田裕久・井上光輝（豊橋技科大）
(7) 15:55-16:20 空間フィルタの位置制御によるホログラフィックメモリシステムのトレランス緩和技術 ○田中幸修・井手達朗・橋爪滋郎・嶋田堅一（日立）
  16:20-16:25 閉会アドレス　（ 5分 ）

講演時間
一般講演発表 20 分 ＋ 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
CPM 電子部品・材料研究会（CPM）   [今後の予定はこちら]
問合先 坂本 尊 (NTT)
TEL: 046-240-4531, FAX: 046-270-2323
E--mail: k 


Last modified: 2016-08-10 17:30:00


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