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電子デバイス研究会(ED) [schedule] [select]
専門委員長 前澤 宏一 (富山大)
副委員長 津田 邦男 (東芝)
幹事 松永 高治 (NEC), 鈴木 寿一 (北陸先端大)
幹事補佐 新井 学 (新日本無線), 東脇 正高 (NICT)

日時 2015年 7月24日(金) 13:15 - 16:25
2015年 7月25日(土) 10:15 - 11:55
議題 半導体プロセス・デバイス(表面、界面、信頼性)、一般 
会場名 ITビジネスプラザ武蔵研修室1(金沢市武蔵町) 
交通案内 https://www.bp-musashi.jp/
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

7月24日(金) 午後 
13:15 - 14:55
(1) 13:15-13:40 N極性p形GaNショットキー接触の電気的特性の評価 ED2015-36 青木俊周福井大)・谷川智之片山竜二松岡隆志東北大)・塩島謙次福井大
(2) 13:40-14:05 n-GaN自立基板の劈開面に形成したショットキーダイオードの評価 ED2015-37 永縄 萌青木俊周福井大)・三島友義法政大)・塩島謙次福井大
(3) 14:05-14:30 リセスゲートAlGaN/GaN-HEMT向け低ダメージドライエッチング ED2015-38 美濃浦優一岡本直哉多木俊裕尾崎史朗牧山剛三鎌田陽一渡部慶二富士通研
(4) 14:30-14:55 AlN/AlGaN/GaN金属-絶縁体-半導体デバイスにおける低周波ノイズ ED2015-39 鈴木寿一Son Phuong LeTuan Quy NguyenHong-An Shih北陸先端大
  14:55-15:10 休憩 ( 15分 )
7月24日(金) 午後 
15:10 - 16:25
(5) 15:10-15:35 X線光電子分光法によるSiO2/β-Ga2O3界面のバンドアライメント評価 ED2015-40 小西敬太上村崇史ワン マンホイNICT)・佐々木公平倉又朗人山腰茂伸タムラ製作所)・東脇正高NICT
(6) 15:35-16:00 SiC MOSFET特性の基板不純物濃度依存性 ED2015-41 矢野裕司奈良先端大/筑波大)・結城広登冬木 隆奈良先端大
(7) 16:00-16:25 有機強誘電体を用いたMFS型ダイヤモンドFETの形成 ED2015-42 柄谷涼太古市浩幹金沢大)・中嶋宇史東京理科大)・徳田規夫・○川江 健金沢大
7月25日(土) 午前 
10:15 - 11:55
(8) 10:15-10:40 In-plane electrical properties of MnAs/InAs/GaAs(111)B heterostructures ED2015-43 Md Earul IslamCong Thanh NguyenMasashi AkaboriJAIST
(9) 10:40-11:05 再成長ソース・ドレインを有するマルチゲートMOSFETの作製プロセス ED2015-44 木下治紀祢津誠晃三嶋裕一金澤 徹宮本恭幸東工大
(10) 11:05-11:30 AlInSbステップバッファ層を用いたInSb量子井戸歪緩和構造の電子輸送特性 ED2015-45 竹鶴達哉藤川紗千恵原田義彬鈴木浩基磯野恭佑加藤三四郎辻 大介藤代博記東京理科大
(11) 11:30-11:55 共鳴トンネル素子を用いたΔΣ型歪みセンサ ED2015-46 前澤宏一角谷祐一郎中山大周田近拓巳森 雅之富山大

講演時間
一般講演発表 20 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
ED 電子デバイス研究会(ED)   [今後の予定はこちら]
問合先  


Last modified: 2015-06-05 19:42:09


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