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★電子部品・材料研究会(CPM)
専門委員長 竹村 泰司 (横浜国大)  副委員長 高野 泰 (静岡大)
幹事 圓佛 晃次 (NTT), 阿部 克也 (信州大)
幹事補佐 小舘 淳一 (NTT), 佐藤 知正 (神奈川大)

日時 2012年 8月 8日(水) 13:00~17:40
   2012年 8月 9日(木) 09:00~12:35

会場 山形大学工学部100周年記念会館セミナー室(〒992-8510 山形県米沢市城南4丁目3-16.南米沢駅(米坂線)下車徒歩10分、米沢駅から市街地循環バス(右回り:青バス)所要時間15分山大正門下車、米沢駅から山交バス(白布温泉行き)所要時間10分城南二丁目下車徒歩5分.http://www2.yz.yamagata-u.ac.jp/access/.山形大学大学院理工学研究科 廣瀬 文彦)

議題 電子部品・材料,一般

8月8日(水) 午後 (13:00~17:40)

(1) 13:00 - 13:25
HWCVD法により低温形成したSiC薄膜の成長圧力依存性
○阿部克也・周 澤宇・山上朋彦(信州大)

(2) 13:25 - 13:50
Si(100)基板/AlN中間層上への3C-SiCヘテロエピタキシャル成長
○中澤日出樹・鈴木大樹・成田次理・山本陽平(弘前大)

(3) 13:50 - 14:15
ガスソースMBE法による高密度Geナノドット/SiC積層構造の作製とその発光特性
○姉崎 豊・佐藤 魁・加藤孝弘・加藤有行(長岡技科大)・末光真希(東北大)・中澤日出樹(弘前大)・成田 克(山形大)・安井寛治(長岡技科大)

(4) 14:15 - 14:40
MOVPE法によるSi基板上GaPとSi表面処理の関係
高木達也・宮原 亮・堀江陽介・○高野 泰(静岡大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(5) 14:55 - 15:20
塩素還元化学気相成長法を用いたSiの低温薄膜形成
○柴田 明・渡邉雄仁・鹿又健作・鈴木貴彦・廣瀬文彦(山形大)

(6) 15:20 - 15:45
銅電極を用いたボトムコンタクト型有機TFTの高性能化
○宇津野裕弥・佐藤 翼・奥 慎也・水上 誠・福田憲二郎・熊木大介・時任静士(山形大)

(7) 15:45 - 16:10
インクジェット法で形成した銀ナノ粒子電極を有するボトムコンタクト型有機TFTのコンタクト抵抗
○小林 悠・竹田泰典・南木 創・菅野 亮・福田憲二郎・熊木大介・時任静士(山形大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(8) 16:25 - 16:50
有機太陽電池の反射防止多層膜のロバスト最適化
○久保田 繁・鹿又健作・籾山克章・鈴木貴彦・廣瀬文彦(山形大)

(9) 16:50 - 17:15
MoOxホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池のAg微粒子導入効果
○吉田一樹・丹野優樹・栗原 啓・鹿又健作・籾山克章・鈴木貴彦・久保田 繁・廣瀬文彦(山形大)

(10) 17:15 - 17:40
P3HT/n-Siヘテロ接合を用いた太陽電池の高効率化検討
○金子 翔・大山直樹・鹿又健作・籾山克章・久保田 繁・廣瀬文彦(山形大)

8月9日(木) 午前 (09:00~12:35)

(11) 09:00 - 09:25
FeおよびFeSi蒸着材料からの固相反応法による鉄シリサイド薄膜の作製と評価
○籾山克章・鹿又健作・久保田 繁・廣瀬文彦(山形大)

(12) 09:25 - 09:50
反応性スパッタによるZrNxナノ結晶バリヤ膜の形成過程
○佐藤 勝・武山真弓(北見工大)・青柳英二(東北大)・野矢 厚(北見工大)

(13) 09:50 - 10:15
ラジカル反応を応用した低温でのSiNx膜の作製
○武山真弓・佐藤 勝(北見工大)・中田義弘・小林靖志・中村友二(富士通研)・野矢 厚(北見工大)

(14) 10:15 - 10:40
DC-RFマグネトロンスパッタ法におけるCr2O3薄膜の作製
○中村拓未・黒田卓司・岩田展幸・山本 寛(日大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(15) 10:55 - 11:20
面内配向単層カーボンナノチューブの自由電子レーザー照射効果
○相良拓実(日大)・石井宏治(東京理科大)・土肥智史(日大)・矢島博文(東京理科大)・岩田展幸・山本 寛(日大)

(16) 11:20 - 11:45
酸化チタンナノチューブ微小ガスセンサの作製
○木村康男・小島領太・木村昭太・庭野道夫(東北大)

(17) 11:45 - 12:10
陽極酸化TiO2ナノチューブ形成過程に及ぼす電解液組成の影響
○小島領太・木村康男・庭野道夫(東北大)

(18) 12:10 - 12:35
赤外吸収分光を用いたシリコン酸化膜の室温原子層堆積法の素過程評価
○鹿又健作・籾山克章・久保田 繁・廣瀬文彦(山形大)

一般講演:発表 20 分 + 質疑応答 5 分


☆CPM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

8月23日(木)~24日(金) 東北大学電気通信研究所 [6月15日(金)] テーマ:光部品・電子デバイス実装技術・信頼性、及び一般
9月25日(火) 機械振興会館 [7月18日(水)] テーマ:光記録技術・電子材料、一般
10月26日(金)~27日(土) まちなかキャンパス長岡 [8月23日(木)] テーマ:薄膜プロセス・材料,一般
11月26日(月)~28日(水) 九州大学百年講堂 [9月7日(金)] テーマ:デザインガイア2012 -VLSI設計の新しい大地-
11月29日(木)~30日(金) (予定) 大阪市立大学 [9月20日(木)] テーマ:窒化物及び混晶半導体デバイス、及び一般


Last modified: 2012-07-06 14:29:09


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