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★電子部品・材料研究会(CPM)
専門委員長 野毛 悟 (沼津高専)  副委員長 廣瀬 文彦 (山形大)
幹事 小舘 淳一 (NTT), 岩田 展幸 (日大)
幹事補佐 坂本 尊 (NTT), 中村 雄一 (豊橋技科大)

日時 2015年11月 6日(金) 13:00~17:00
   2015年11月 7日(土) 09:00~12:50

会場 長岡市地域交流センターまちなかキャンパス長岡 501会議室(新潟県長岡市 大手通2丁目6フェニックス大手イースト5階.JR長岡駅 大手(西)口から大手通りを直進、徒歩5分、左手の建物.http://www.machicam.jp/index.html.長岡技術科学大学 安井寛治.0258-39-3300(会場))

議題 薄膜プロセス・材料,一般

11月6日(金) 午後 (13:00~17:00)

(1) 13:00 - 13:20
Clフリー溶液を用いてゾルゲル硫化法により作製したCu2ZnSnS4薄膜の品質改善
○宮澤勇斗・岡本崇義・田中久仁彦(長岡技科大)

(2) 13:20 - 13:40
非真空プロセスによる銅ハライド透明薄膜の作製
○田尾翔子・原田大雅・田中久仁彦(長岡技科大)・森谷克彦(鶴岡高専)

(3) 13:40 - 14:00
溶液成長法によるSnS薄膜堆積における溶液温度の影響
神田祐作・○高野 泰・石田明広(静岡大)

(4) 14:00 - 14:20
BT固溶BKTセラミックスの微細構造および圧電特性
○児玉智哉・番場教子(信州大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(5) 14:35 - 14:55
低ダメージスパッタ堆積プロセスを利用した有機EL素子用電極膜の作製
○星 陽一・濱口大地・小林信一・内田孝幸・澤田 豊(東京工芸大)・清水英彦(新潟大)

(6) 14:55 - 15:15
室温成膜したSiNx膜の特性評価
○佐藤 勝・武山真弓(北見工大)・小林靖志・中田義弘・中村友二(富士通研)・野矢 厚(北見工大)

(7) 15:15 - 15:35
ラジカル窒化による遷移金属窒化物の有用性
○武山真弓・佐藤 勝(北見工大)・青柳英二(東北大)・野矢 厚(北見工大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(8) 15:50 - 16:10
表面処理条件の異なるYAlO3(001)基板上に成膜したCr2O3薄膜の結晶構造解析および磁気特性
橋本浩佑・隅田貴士・福井慎二郎・永田知子・山本 寛・○岩田展幸(日大)

(9) 16:10 - 16:30
面内配向成長した単層カーボンナノチューブの自由電子レーザー照射効果と触媒形状依存性
川口大貴・吉田圭佑・小林弥生・春宮清之介・○永田知子・山本 寛・岩田展幸(日大)

(10) 16:30 - 17:00
[招待講演]レーザー制御Eu3+化合物量子コンピューターの可能性
○打木久雄(長岡技科大)

11月7日(土) 午前 (09:00~12:50)

(11) 09:00 - 09:20
スパッタ法によるエレクトロクロミック素子用水素添加Mg-Ni薄膜の作製
○清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎(新潟大)

(12) 09:20 - 09:40
基板による応力のNd0.5Bi2.5Fe4GaO12薄膜の磁気異方性への影響
○箸中貴大・佐々木教真・石橋隆幸(長岡技科大)・加藤剛志・岩田 聡(名大)・谷山智康(東工大)

(13) 09:40 - 10:00
磁気光学3次元ディスプレイの書き込みエネルギーの低減および回折効率の向上
○根本亜紀・山崎和樹・津田宗太郎・工藤 慧・中村和樹・後藤太一・高木宏幸・林 攀梅・井上光輝(豊橋技科大)

(14) 10:00 - 10:20
磁気光学3次元ディスプレイのための磁性フォトニック結晶の角度依存性の改善
○酒井将生・工藤 慧・中村和樹・後藤太一・高木宏幸・林 攀梅・井上光輝(豊橋技科大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(15) 10:35 - 10:55
Si太陽電池用Al2O3光反射防止・パッシベーション膜の試作と評価
○田中 昂・鹿又健作・三浦正範・有馬 ボシール アハンマド・久保田 繁・廣瀬文彦(山形大)

(16) 10:55 - 11:15
YVO4:Bi,Ln(Ln=Sm,Er)蛍光体の発光の濃度依存性
○五十嵐拓真・グェン ドゥック ビン・阿部泰雅(長岡技科大)・山崎 誠(長岡高専)・加藤有行(長岡技科大)

(17) 11:15 - 11:35
イットリウム鉄ガーネット膜を用いたスピン波多出力回路の開発
○古田大貴・後藤太一・金澤直樹・熊岡史哉・中村雄一・リム パンボイ・高木宏幸・井上光輝(豊橋技科大)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(18) 11:50 - 12:10
金属酸化物薄膜堆積のための触媒反応生成高エネルギーH2Oビーム
○寺口祐介・田島諒一・中村友紀・高橋一匡・玉山泰宏・安井寛治(長岡技科大)

(19) 12:10 - 12:30
触媒反応生成高エネルギーH2Oビームを用いて堆積したZnO薄膜へのNOガス添加効果
○石塚侑己・田島諒一・大橋優樹・玉山泰宏・安井寛治(長岡技科大)

(20) 12:30 - 12:50
大気圧CVD法によって成長した酸化亜鉛薄膜の結晶学及び光学的特性への窒素添加効果
○寺迫智昭(愛媛大)・矢木正和(香川高専)

一般講演:発表 15 分 + 質疑応答 5 分


☆CPM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

11月26日(木)~27日(金) 大阪市立大学・学術情報センター会議室 [9月16日(水)] テーマ:窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般
12月1日(火)~3日(木) 長崎県勤労福祉会館 [9月20日(日)] テーマ:デザインガイア2015 -VLSI設計の新しい大地-


Last modified: 2015-09-17 14:13:53


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