Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380
[TOP] | [2016] | [2017] | [2018] | [2019] | [2020] | [2021] | [2022] | [Japanese] / [English]
CPM2019-44
真空蒸着法による硫化アンチモン薄膜堆積
○高野 泰・井上 翔（静岡大）
pp. 1 - 4
CPM2019-45
極薄TaWN膜上のCu配向制御の検討
○武山真弓・佐藤 勝（北見工大）
pp. 5 - 8
CPM2019-46
窒素を添加したDLC膜特性へのアニール効果
○長内公哉・中村和樹・郡山春人・小林康之・遠田義晴・鈴木裕史（弘前大）・末光眞希（東北大）・中澤日出樹（弘前大）
pp. 9 - 14
CPM2019-47
触媒反応支援CVD法におけるZnO膜への窒素ドーピング
○伊庭竜太・神林広樹・安達雄大（長岡技科大）・大石耕一郎・片桐裕則（長岡高専）・安井寛治（長岡技科大）
pp. 15 - 19
CPM2019-48
［招待講演］触媒反応支援化学気相成長法を用いた金属酸化物薄膜の成長
○安井寛治（長岡技科大）
pp. 21 - 26
CPM2019-49
RFスパッタ法によって室温成膜されたZrNx膜の特性
○佐藤 勝・武山真弓（北見工大）
pp. 27 - 29
CPM2019-50
高分子圧電体膜P(VDF-TrFE)をゲート絶縁膜に用いた一体型FETにおけるチャネル構造変化に伴う電気的特性の変化
○松本周作・岡山琢哉・古川昭雄（東京理科大）
pp. 31 - 34
CPM2019-51
［招待講演］界面顕微光応答法による金属／半導体、半導体／半導体界面の2次元評価
○塩島謙次（福井大）
pp. 35 - 38
注： 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり，推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります．